一种表面构建凹槽的四层圆锥形场局域增强器件制造技术

本实用新型专利技术揭示了一种表面构建凹槽的四层圆锥形场局域增强器件，该场局域增强器件包括四层结构，即第一层结构、第二层结构、第三层结构和第四层结构，第一层结构、第二层结构、第三层结构和第四层结构由内向外逐层构成一同轴圆锥形结构，圆锥形结构包括两部分，表面带有环状凹槽的上半部分和表面光滑的下半部分。所述上半部分、下半部分各占圆锥形高度的1/2，在圆锥形高度的1/2位置处沿第四层结构的外侧斜面往上构建有深度为d，周期为L，占空比为5:12的周期性环形凹槽。由于其纳米级别的尺寸和高场强，此结构在超分辨率成像、超高密度集成光路、光学数据存储、新型光源和近场光学等诸多技术领域具有广泛的应用前景。

A Four-Layer Conical Field Local Enhancement Device with Surface-Constructed Grooves

The utility model discloses a four-layer conical field local enhancement device with grooves on the surface. The device comprises four layers of structure, namely, the first layer structure, the second layer structure, the third layer structure and the fourth layer structure. The first layer structure, the second layer structure, the third layer structure and the fourth layer structure are composed of a coaxial conical structure from the inside to the outside layer by layer, and the conical structure package. It consists of two parts, the upper part with a circular groove on the surface and the lower part with a smooth surface. The upper half and the lower half occupy 1/2 of the conical height respectively. A periodic annular groove with a depth of d, a period of L and a duty ratio of 5:12 is constructed upward along the lateral inclined plane of the fourth layer structure at a position of 1/2 of the conical height. Because of its nano-scale size and high field strength, this structure has wide application prospects in many technical fields such as super-resolution imaging, ultra-high density integrated optical path, optical data storage, new light source and near-field optics.

【技术实现步骤摘要】
一种表面构建凹槽的四层圆锥形场局域增强器件
本技术涉及一种表面构建凹槽的四层圆锥形场局域增强器件，可应用于超分辨率成像、超高密度集成光路、光学数据存储、新型光源和近场光学等诸多

技术介绍
随着纳米光学的快速发展，其中的纳米光学器件也成为了许多学者研究的重点。由于纳米光学器件的大小和空间距离在不断地缩小，在设计特殊形状和大小的纳米级时会碰上了技术上的困难--光场在纳米尺度上的的传递和集中(纳米聚焦)。因为光的波长在微尺度上，许多数量级太大，从而限制了纳米光学器件的发展，例如：锥形光纤或聚焦于金属尖端会导致巨大的损失，只有极小的激发能部分被转移到纳米尺度上，表面等离激元(SurfacePlasmonPolaritons，SPPs)在解决这一技术困难中起到了关键性作用。SPPs是物理光学和凝聚态物理学界的一个快速发展的领域。1902年，Wood在实验室第一次观察到SPPs，1960年E.A.stren和R.A.Farrel提出SPPs的概念。随后几十年里，SPPs的研究探讨由表面等离子体(surfaceplasmons，SPs)激发引起的和与之相关的现象。经理论和实践表明SPPs本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种表面构建凹槽的四层圆锥形场局域增强器件，其特征在于：该场局域增强器件包括四层结构，即第一层结构、第二层结构、第三层结构和第四层结构，所述第一层结构、第二层结构、第三层结构和第四层结构由内向外逐层构成一同轴圆锥形结构，所述圆锥形结构包括两部分，表面带有环状凹槽的上半部分和表面光滑的下半部分。

【技术特征摘要】
1.一种表面构建凹槽的四层圆锥形场局域增强器件，其特征在于：该场局域增强器件包括四层结构，即第一层结构、第二层结构、第三层结构和第四层结构，所述第一层结构、第二层结构、第三层结构和第四层结构由内向外逐层构成一同轴圆锥形结构，所述圆锥形结构包括两部分，表面带有环状凹槽的上半部分和表面光滑的下半部分。2.根据权利要求1所述的一种表面构建凹槽的四层圆锥形场局域增强器件，其特征在于：所述上半部分、下半部分各占圆锥形高度的1/2，在圆锥形高度的1/2位置处沿第四层结构的外侧斜面往上构建有深度为d，周期为L，占空比为5∶12的周期性环形凹槽。3.根据权利要求2所述的一种表面构建凹槽的四层圆锥形场局域增强器件，其特征在于：所述环状凹槽的个数为七个，所述环状凹槽的截面为矩形，周期L为波长的1/2。4.根据权利要求3所述的一种表面构建凹槽的四层圆锥形场局域增强器件，其特征在于：每个所述环状凹槽的深度d为25nm，周期L为300nm，占空比为5∶12。5.根据权利要求1所述的一种表面构建凹槽的四层圆锥形场局域增强器件，其特征在于：所述第一层结构为高折射率介质层，所述高折射率介质折射率n1为3.455；所述第二层结构为低折射率介质层，所述低折射率介质折射率n2为1.445；所述第三层结构为更低折射率的低折射率介质层，所述更低折射率的低折射率介质的折射率n3为1.204。6.根据权利要求1所述的一种表面构建凹槽的四层圆锥形场局域增强器件，其特征在于：所述第四层结构为贵金属，所述贵金属为金或银。7.根据权...

【专利技术属性】
技术研发人员：李康，许吉，时楠楠，朱文武，朱玉坤，胡思敏，舒倩，陆云清，
申请(专利权)人：南京邮电大学，
类型：新型
国别省市：江苏,32