一种低挥发纳米填料改性聚丙烯材料及其制备方法与应用技术

技术编号:20979791 阅读:39 留言:0更新日期:2019-04-29 18:52
本发明专利技术公开了一种低挥发纳米填料改性聚丙烯材料及其制备方法与应用。所述的低挥发纳米填料改性聚丙烯材料包含以下质量百分数的组分:聚丙烯60~75%、纳米碳化硅晶须母粒19.3~30%、乙烯‑辛烯共聚物5~15%、抗静电剂0.1~0.4%、抗氧剂0.1~0.6%和乙烯‑丙烯酸共聚物蜡0.1~0.5%。本发明专利技术利用无规共聚聚丙烯作为树脂基材,通过加入自制的纳米碳化硅晶须母粒、抗静电剂及乙烯‑辛烯共聚物进行改性,提高了聚丙烯材料的耐刮磨性,降低了发挥性。本发明专利技术制得改性聚丙烯可广泛应用于汽车领域和家电领域。

A Low Volatile Nano-filler Modified Polypropylene Material and Its Preparation Method and Application

The invention discloses a low volatile nano filler modified polypropylene material and a preparation method and application thereof. The low volatile nano-filler modified polypropylene material comprises the following components: polypropylene 60-75%, nano-SiC whisker masterbatch 19.3-30%, ethylene-octene copolymer 5-15%, antistatic agent 0.1-0.4%, antioxidant 0.1-0.6% and ethylene-acrylic copolymer wax 0.1-0.5%. The invention uses random copolymer polypropylene as resin base material, modifies by adding self-made nano-SiC whisker masterbatch, antistatic agent and ethylene-octene copolymer, improves scratch resistance of polypropylene material and reduces its exertion. The modified polypropylene prepared by the invention can be widely used in the fields of automobile and household appliances.

【技术实现步骤摘要】
一种低挥发纳米填料改性聚丙烯材料及其制备方法与应用
本专利技术属于高分子复合材料的改性
,具体涉及一种低挥发纳米填料改性聚丙烯材料及其制备方法与应用。
技术介绍
随着人们对生活环境要求越来越高,汽车制造厂商也对汽车内饰材料的可挥发性低分子化合物含量控制、材料的良好触感和耐刮擦性能方面提出了新的、更高的要求。然而,由于分子结构等原因,聚丙烯材料的表面耐划伤性能差,很大程度上降低了产品的美观程度,在制品表面产生的划痕也常常导致应力集中,降低了材料的力学性能,限制了其使用领域。同时,由于目前常用的耐刮擦剂本身的物理化学特性导致材料可挥发有机物(VOC)含量过高,无法满足汽车内饰件对气味、雾化等性能的严格要求。因此,如何提高聚丙烯材料的表面耐划伤及力学性能,同时又不影响其低VOC特性是学术界和工业界研究的重点和热点。
技术实现思路
为解决现有技术的缺点和不足之处,本专利技术的首要目的在于提供一种低挥发纳米填料改性聚丙烯材料。本专利技术的另一目的在于提供上述一种低挥发纳米填料改性聚丙烯材料的制备方法。本专利技术的再一目的在于提供上述一种低挥发纳米填料改性聚丙烯材料在汽车领域和家电领域外壳制品本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种低挥发纳米填料改性聚丙烯材料,其特征在于,所述低挥发纳米填料改性聚丙烯材料包含以下质量百分数的组分:

【技术特征摘要】
1.一种低挥发纳米填料改性聚丙烯材料,其特征在于,所述低挥发纳米填料改性聚丙烯材料包含以下质量百分数的组分:上述组分质量百分数之和为100%。2.根据权利要求1所述的一种低挥发纳米填料改性聚丙烯材料,其特征在于,所述的纳米炭化硅晶须母粒,按质量百分比计,由18.6%聚丙烯、80%纳米碳化硅晶须、0.4%抗氧剂和1%乙烯-丙烯酸共聚物蜡制成。3.根据权利要求2所述的一种低挥发纳米填料改性聚丙烯材料,其特征在于,所述的纳米碳化硅晶须的平均粒径Dv50为200nm~800nm,晶须的长径比为20~100。4.根据权利要求1或2所述的一种低挥发纳米填料改性聚丙烯材料,其特征在于,所述的聚丙烯为粒状或粉状,其中乙烯含量为5~8wt%,在230℃、2.16kg下熔体质量流动速率为20~70g/10min。5.根据权利要求1所述的一种低挥发纳米填料改性聚丙烯材料,其特征在于,所述的乙烯-辛烯共聚物在230℃、2.16kg下熔体质量流动速率为20~80g/10min;所述的抗静电剂为甘油单硬脂酰酯。6.根据权利要求1或2所述的一种低挥发纳米填料改性聚丙烯材料,其特征在于,所述的抗氧剂包括四[甲基-β-(3,5-二叔丁基-4-羟基苯基)丙酸酯]季戊四醇酯、1,3,5-三(3,5-二叔丁基-4-羟基苄基)异氰尿酸、1,3,5-三甲基-2,4,6-三(3,5-二叔丁基-4-羟基苄基...

【专利技术属性】
技术研发人员:袁海兵郝建鑫邓爵安黄泽彬侯智谋曾德明秦小磊
申请(专利权)人:广州市聚赛龙工程塑料股份有限公司
类型:发明
国别省市:广东,44

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