有源层厚度的监控方法技术

本发明专利技术提供一种有源层厚度的监控方法。该有源层厚度的监控方法通过监控机台监控GOA区中的薄膜晶体管的有源层的厚度，当有源层的厚度小于一预设的阈值时，该监控机台报警，当有源层的厚度大于或等于一预设的阈值时，该监控机台不报警，从而及时调整制作工艺，避免造成大量显示面板出现异常。

Monitoring Method of Active Layer Thickness

The invention provides a method for monitoring the thickness of active layer. The monitoring method of active layer thickness monitors the thickness of active layer of thin film transistor in GOA area by monitoring machine. When the thickness of active layer is less than a preset threshold, the monitoring machine alarms. When the thickness of active layer is greater than or equal to a preset threshold, the monitoring machine does not alarm, so as to adjust the manufacturing process in time and avoid abnormal display panel.

【技术实现步骤摘要】
有源层厚度的监控方法
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种有源层厚度的监控方法。
技术介绍
薄膜晶体管(ThinFilmTransistor，TFT)是目前液晶显示装置(LiquidCrystalDisplay，LCD)和有源矩阵驱动式有机电致发光显示装置(ActiveMatrixOrganicLight-EmittingDiode，AMOLED)中的主要驱动元件，直接关系平板显示装置的显示性能。现有市场上的液晶显示器大部分为背光型液晶显示器，其包括液晶显示面板及背光模组(backlightmodule)。液晶显示面板的工作原理是在薄膜晶体管阵列基板(ThinFilmTransistorArraySubstrate，TFTArraySubstrate)与彩色滤光片(ColorFilter，CF)基板之间灌入液晶分子，并在两片基板上分别施加像素电压和公共电压，通过像素电压和公共电压之间形成的电场控制液晶分子的旋转方向，以将背光模组的光线透射出来产生画面。液晶显示面板成型工艺一般包括：前段阵列(Array)制程(薄膜、黄光、刻蚀及剥膜)、中段成盒(Cell)制程(TFT基板与CF基板贴合)及后段模组组装制程(驱动IC与印刷电路板压合)。其中，前段Array制程主要是形成TFT基板，以便于控制液晶分子的运动；中段Cell制程主要是在TFT基板与CF基板之间添加液晶；后段模组组装制程主要是驱动IC压合与印刷电路板的整合，进而驱动液晶分子转动，显示图像。现有的液晶显示面板在点灯测试的时候，发现画面有多条水平不连续的亮线，在红色纯色画面、绿色纯色画面以及蓝色纯色画面下水平不连续的亮线更加明显，经过观察发现相邻的主像素(MainPixel)发亮，经过MainPixel发亮理论分析推测得到是TFT的非晶硅(AmorphousSilicon，AS)有源层偏薄，导致GOA(GateDriveronArray，即阵列基板行驱动技术，将栅极扫描驱动电路制作在TFT阵列基板上)区的TFT开关异常，导致最终输出的栅极扫描(GATE)信号不稳定，或者时序有问题。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种有源层厚度的监控方法，可以避免造成大量显示面板出现异常。为实现上述目的，本专利技术提供了一种有源层厚度的监控方法，包括如下步骤：步骤S1、提供一承载机台，在该承载机台上形成大板；所述大板包括面板区以及包围所述面板区的GOA区；所述GOA区包括多个薄膜晶体管；该薄膜晶体管包括有源层；步骤S2、提供一监控机台，该监控机台监控所述GOA区中的薄膜晶体管的有源层的厚度，当有源层的厚度小于一预设的阈值时，该监控机台报警，当有源层的厚度大于或等于一预设的阈值时，该监控机台不报警。所述大板的形状为矩形；所述大板的四个角落位于GOA区中；所述步骤S2中，该监控机台监控所述GOA区中位于大板的四个角落的薄膜晶体管的有源层的厚度。所述面板区位于大板的中心区域，所述GOA区位于大板中包围所述中心区域的边缘区域；所述大板的四个角落位于大板的边缘区域中。所述步骤S2中，所述监控机台包括多个量测点，将所述多个量测点分别分布在大板的四个角落，每个量测点根据一预设的时间间隔多次量测位于该量测点位置的有源层的厚度。所述监控机台根据每个量测点量测的有源层的厚度的最小值建立一个SPC图表，该SPC图表中设有一预设的阈值，当一个或多个量测点量测的有源层的厚度的最小值小于该预设的阈值时，所述监控机台报警。所述面板区包括呈阵列排布的多个显示面板。所述显示面板包括多个薄膜晶体管；该监控机台监控每个显示面板中的薄膜晶体管的有源层的厚度。所述薄膜晶体管还包括设于所述有源层下的绝缘层、设于所述绝缘层下的栅极以及设于所述有源层上并分别与有源层两端接触的源极和漏极。所述步骤S1形成大板的过程中，通过化学气相沉积以及干蚀刻制程制作薄膜晶体管的有源层。所述有源层的材料为非晶硅。本专利技术的有益效果：本专利技术的有源层厚度的监控方法通过监控机台监控GOA区中的薄膜晶体管的有源层的厚度，当有源层的厚度小于一预设的阈值时，该监控机台报警，当有源层的厚度大于或等于一预设的阈值时，该监控机台不报警，从而及时调整制作工艺，避免造成大量显示面板出现异常。附图说明为了能更进一步了解本专利技术的特征以及
技术实现思路
，请参阅以下有关本专利技术的详细说明与附图，然而附图仅提供参考与说明用，并非用来对本专利技术加以限制。附图中，图1为本专利技术的有源层厚度的监控方法的流程图；图2为本专利技术的有源层厚度的监控方法步骤S1的示意图；图3为本专利技术的有源层厚度的监控方法步骤S2的示意图；图4为本专利技术的有源层厚度的监控方法中的薄膜晶体管的结构示意图。具体实施方式为更进一步阐述本专利技术所采取的技术手段及其效果，以下结合本专利技术的优选实施例及其附图进行详细描述。请参阅图1，本专利技术提供一种有源层厚度的监控方法，包括如下步骤：步骤S1、请参阅图2，提供一承载机台10，在该承载机台10上形成大板20；所述大板20包括面板区21以及包围所述面板区21的GOA区22；所述GOA区22包括多个薄膜晶体管221；该薄膜晶体管221包括有源层2211；步骤S2、请参阅图3，提供一监控机台30，该监控机台30监控所述GOA区22中的薄膜晶体管221的有源层2211的厚度，当有源层2211的厚度小于一预设的阈值时，该监控机台30报警，当有源层2211的厚度大于或等于一预设的阈值时，该监控机台30不报警。具体的，所述大板20的形状为矩形；所述大板20的四个角落位于GOA区22中；所述步骤S2中，该监控机台30监控所述GOA区22中位于大板20的四个角落的薄膜晶体管221的有源层2211的厚度。具体的，所述面板区21位于大板20的中心区域，所述GOA区22位于大板20中包围所述中心区域的边缘区域；所述大板20的四个角落位于大板20的边缘区域中。具体的，所述预设的阈值为具体的，所述步骤S2中，所述监控机台30包括多个量测点31，将所述多个量测点31分别分布在大板20的四个角落，每个量测点31根据一预设的时间间隔多次量测位于该量测点31位置的有源层2211的厚度。进一步的，所述监控机台30根据每个量测点31量测的有源层2211的厚度的最小值建立一个SPC(StatisticalProcessControl，统计过程控制)图表，该SPC图表中设有一预设的阈值，当一个或多个量测点31量测的有源层2211的厚度的最小值小于该预设的阈值时，所述监控机台30报警。进一步的，所述SPC图表中还记录每个量测点31量测有源层2211的厚度的量测时间，方便后续作业人员调整改善制作工艺。具体的，所述面板区21包括呈阵列排布的多个显示面板211。进一步的，当显示面板211的尺寸为55寸时，大板20的面板区21可以包括6个显示面板211，该6个显示面板211呈两行三列分布。具体的，请参阅图4，所述薄膜晶体管221还包括设于所述有源层2211下的绝缘层2212、设于所述绝缘层2212下的栅极2213以及设于所述有源层2211上并分别与有源层2211两端接触的源极2214和漏极2215。具体的，所述步骤S1形成大板20的过程中，通过化学气相沉积(CVD)以及干蚀刻制程制作薄膜晶体管221的有源层2211。具体可以本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种有源层厚度的监控方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤S1、提供一承载机台(10)，在该承载机台(10)上形成大板(20)；所述大板(20)包括面板区(21)以及包围所述面板区(21)的GOA区(22)；所述GOA区(22)包括多个薄膜晶体管(221)；该薄膜晶体管(221)包括有源层(2211)；步骤S2、提供一监控机台(30)，该监控机台(30)监控所述GOA区(22)中的薄膜晶体管(221)的有源层(2211)的厚度，当有源层(2211)的厚度小于一预设的阈值时，该监控机台(30)报警，当有源层(2211)的厚度大于或等于一预设的阈值时，该监控机台(30)不报警。

【技术特征摘要】
1.一种有源层厚度的监控方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤S1、提供一承载机台(10)，在该承载机台(10)上形成大板(20)；所述大板(20)包括面板区(21)以及包围所述面板区(21)的GOA区(22)；所述GOA区(22)包括多个薄膜晶体管(221)；该薄膜晶体管(221)包括有源层(2211)；步骤S2、提供一监控机台(30)，该监控机台(30)监控所述GOA区(22)中的薄膜晶体管(221)的有源层(2211)的厚度，当有源层(2211)的厚度小于一预设的阈值时，该监控机台(30)报警，当有源层(2211)的厚度大于或等于一预设的阈值时，该监控机台(30)不报警。2.如权利要求1所述的有源层厚度的监控方法，其特征在于，所述大板(20)的形状为矩形；所述大板(20)的四个角落位于GOA区(22)中；所述步骤S2中，该监控机台(30)监控所述GOA区(22)中位于大板(20)的四个角落的薄膜晶体管(221)的有源层(2211)的厚度。3.如权利要求2所述的有源层厚度的监控方法，其特征在于，所述面板区(21)位于大板(20)的中心区域，所述GOA区(22)位于大板(20)中包围所述中心区域的边缘区域；所述大板(20)的四个角落位于大板(20)的边缘区域中。4.如权利要求2所述的有源层厚度的监控方法，其特征在于，所述步骤S2中，所述监控机台(30)包括多个量测点(31)，将所述多个量测点(31)分别分布在大板(20)的四个角落，每个量...

【专利技术属性】
技术研发人员：姚龙杰，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44