一种双道原子荧光光度计制造技术

技术编号:20901508 阅读:34 留言:0更新日期:2019-04-17 16:27
本发明专利技术涉及一种双道原子荧光光度计,包括机壳、工作腔及燃烧室,燃烧室底部设有燃烧器、顶部设有集烟罩,集烟罩内侧壁上滑移连接有环形块,环形块外侧壁上设有清料刷,清料刷贴合于集烟罩的内侧壁上,环形块的外侧壁上对称设置有两个导向块,集烟罩内侧壁上沿轴向方向开设有供导向块滑移的导向槽,燃烧室内设有驱动环形块沿集烟罩的轴向方向滑移的驱动机构,燃烧室内位于燃烧器的上方设有收集杂质并运送至工作腔内的接料机构。本发明专利技术通过在集烟罩内滑移设置带清料刷的环形块,并通过驱动机构带动环形块运动以使清料刷清理集烟罩内的杂质后再通过接料机构送出,无需对集烟罩进行拆卸清理,有利于提高对集烟罩内部清理的便捷性。

【技术实现步骤摘要】
一种双道原子荧光光度计
本专利技术涉及试验仪器的
,尤其是涉及一种双道原子荧光光度计。
技术介绍
原子荧光光度计是利用硼氢化钾或硼氢化钠作为还原剂,将样品溶液中的待分析元素还原为挥发性共价气态氢化物,然后借助载气将其导入原子化器,在氩—氢火焰中原子化而形成基态原子。现有的原子荧光光度计包括机壳,机壳内设置有工作腔,工作腔内设置有用于对样品溶液进行燃烧的燃烧室,燃烧室上开设有用于将燃烧过程中产生的烟气排出的出烟口,出烟口上设有集烟罩。上述中的现有技术方案存在以下缺陷:上述的原子荧光光度计在使用过程中会将整个机壳置于吸烟罩下方并使得集烟罩正对吸烟罩,以使得出烟口排出的烟气通过集烟罩进行集中后进入吸烟罩进行排出,以减少出烟口产生的烟气在实验室内任意飘散,烟气在经过集烟罩内的过程中,由于样品在燃烧过程中除了产生气体杂质外,还会混合有固体及液体杂质,这些固体及液体杂质在经过集烟罩内侧壁的过程中,部分会残留于集烟罩内侧壁上,在经过较长时间的累积后,可能会从集烟罩掉落至燃烧室内,从而使得样品在燃烧过程中会混入这些杂质,易导致样品的检测精确度降低,因此需要对集烟罩内部进行清理时,需要将集烟罩从本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种双道原子荧光光度计,包括机壳(1)、工作腔(2),所述工作腔(2)内设有燃烧室(3),燃烧室(3)的底部设有燃烧器(31)、顶部罩设有集烟罩(4),其特征在于:所述集烟罩(4)的内侧壁上滑移连接有环形块(41),所述环形块(41)的外侧壁上设有清料刷(42),所述清料刷(42)贴合于所述集烟罩(4)的内侧壁上,所述环形块(41)的外侧壁上对称设置有两个导向块(412),所述集烟罩(4)内侧壁上对应于所述导向块(412)的位置沿轴向方向开设有供所述导向块(412)滑移的导向槽(43),所述燃烧室(3)内设有驱动所述环形块(41)沿集烟罩(4)的轴向方向滑移的驱动机构(5),所述燃烧室(3...

【技术特征摘要】
1.一种双道原子荧光光度计,包括机壳(1)、工作腔(2),所述工作腔(2)内设有燃烧室(3),燃烧室(3)的底部设有燃烧器(31)、顶部罩设有集烟罩(4),其特征在于:所述集烟罩(4)的内侧壁上滑移连接有环形块(41),所述环形块(41)的外侧壁上设有清料刷(42),所述清料刷(42)贴合于所述集烟罩(4)的内侧壁上,所述环形块(41)的外侧壁上对称设置有两个导向块(412),所述集烟罩(4)内侧壁上对应于所述导向块(412)的位置沿轴向方向开设有供所述导向块(412)滑移的导向槽(43),所述燃烧室(3)内设有驱动所述环形块(41)沿集烟罩(4)的轴向方向滑移的驱动机构(5),所述燃烧室(3)内位于所述燃烧器(31)的上方设有收集杂质并运送至工作腔(2)内的接料机构(6)。2.根据权利要求1所述的一种双道原子荧光光度计,其特征在于:所述驱动机构(5)包括设置于所述环形块(41)下方的安装块(51)、转动连接于所述安装块(51)上的丝杆(52)、设置于所述安装块(51)内且与丝杆(52)相连接的传动件(53)、设置于工作腔(2)内并通过所述传动件(53)驱动所述丝杆(52)转动的驱动件(54),所述丝杆(52)远离安装块(51)的一端螺纹连接于所述环形块(41)上。3.根据权利要求2所述的一种双道原子荧光光度计,其特征在于:所述安装块(51)内开设有安装腔(511),所述丝杆(52)穿设至安装腔(511)内,所述传动件(53)包括连接于所述驱动件(54)上并穿设至所述安装腔(511)内的驱动轴(531)、同轴连接于所述驱动轴(531)上的第一锥齿轮(532)、同轴连接于所述丝杆(52)上且与所述第一锥齿轮(532)垂直啮合的第二锥齿轮(533)。4.根据权利要求3所述的一种双道原子荧光光度计,其特征在于:所述驱动轴(531)远离安装块(51)的一端凸出于燃烧室(3)的外侧壁,所述驱动件(54)包括设置于所述工作腔(2)腔底的第一电机(541)、同轴连接于所述第...

【专利技术属性】
技术研发人员:卜伟华
申请(专利权)人:浙江天为企业评价咨询有限公司
类型:发明
国别省市:浙江,33

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