【技术实现步骤摘要】
显影液浓度测量装置及方法
本申请涉及显示
，特别涉及一种显影液浓度测量装置及方法。
技术介绍
薄膜晶体管液晶显示器(ThinFilmTransistor-LiquidCrystalDisplay，简称TFT-LCD)在生产中大体分为阵列、成盒、模组三大工序。而在阵列工序中又分为成膜、光刻和刻蚀三大工艺。曝光和显影是光刻工艺中最为关键的两步。曝光是将掩膜板上的图案转写到光刻胶上的光化学反应。曝光后的显影就是将感光或不感光部分的光刻胶采用显影液溶除，从而显示所需要的图形。在显影过程中，为获得高分辨率、高清晰度、高稳定性和高良率的产品，必须严格地管理显影液的浓度和成分。因此，目前亟需一种显影液浓度测量装置及方法以解决上述问题。
技术实现思路
本申请提供一种显影液浓度测量装置及方法，以解决当显影液浓度测量装置内存在气泡时，显影液内各成分浓度测量不准的问题。为解决上述问题，本申请提供的技术方案如下：根据本申请的一个方面，提供了一种显影液浓度测量装置，用以进行显影液中各成分浓度的测量，所述显影液包括光阻、四甲基氢氧化铵以及碳酸根，所述显影液浓度量测装置包括：光阻测量模块，用...
【技术保护点】
1.一种显影液浓度测量装置，用以进行显影液中各成分浓度的测量，所述显影液包括光阻、四甲基氢氧化铵以及碳酸根，其特征在于，所述显影液浓度量测装置包括：光阻测量模块，用以接收所述显影液，并对所述显影液进行光阻的浓度的测量，以获得所述光阻的浓度a；管道模块，用以输送所述显影液；浓度计测量模块，包括第一超声波浓度计，所述浓度计测量模块用以接收所述显影液，并对所述显影液进行测量和计算，以获得包括所述四甲基氢氧化铵的浓度b1、所述碳酸根的浓度c1的数据M；测量辅助模块，包括第二超声波浓度计，所述测量辅助模块用以接收所述显影液，并对所述显影液进行测量，以获得包括所述四甲基氢氧化铵的浓度b...
【技术特征摘要】
1.一种显影液浓度测量装置，用以进行显影液中各成分浓度的测量，所述显影液包括光阻、四甲基氢氧化铵以及碳酸根，其特征在于，所述显影液浓度量测装置包括：光阻测量模块，用以接收所述显影液，并对所述显影液进行光阻的浓度的测量，以获得所述光阻的浓度a；管道模块，用以输送所述显影液；浓度计测量模块，包括第一超声波浓度计，所述浓度计测量模块用以接收所述显影液，并对所述显影液进行测量和计算，以获得包括所述四甲基氢氧化铵的浓度b1、所述碳酸根的浓度c1的数据M；测量辅助模块，包括第二超声波浓度计，所述测量辅助模块用以接收所述显影液，并对所述显影液进行测量，以获得包括所述四甲基氢氧化铵的浓度b2、所述碳酸根的浓度c2的数据N；处理模块，用以接收所述数据M和数据N，并将所述数据M与所述数据N进行对比，以及根据所述数据M与所述数据N的差值是否处在目标范围内判定所述显影液浓度测量的否准确。2.根据权利要求1所述的显影液浓度测量装置，其特征在于，所述光阻测量模块包括：光源，用以提供第一光线；镜头和干涉滤光器，用以获得具有预定波长的第二光线；检出器，用以在第二光线穿过所述显影液后，测量所述第二光线的透过率，获得所述显影液的吸光度值，计算获取所述显影液的光阻的浓度a。3.根据权利要求2所述的显影液浓度测量装置，其特征在于，所述光阻测量模块还包括用以将所述透过率、所述吸光度值以及所述光阻浓度a显示的显示器。4.根据权利要求1所述的显影液浓度测量装置，其特征在于，所述浓度计测量模块还包括导电率计和温度计；其中，所述浓度计测量模块用以获取所述光阻的浓度a、所述四甲基氢氧化铵的浓度b1以及所述碳酸根的浓度c1的整体浓度A1，进而获取所述四甲基氢氧化铵的浓度b1和所述碳酸根的浓度c1。5.根据权利要求4所述的显影液浓度测量装置，其特征在于，所述第二超声波浓度计用于获取所述光阻的浓度a、所述四甲基氢氧化铵的浓度b2以及所述碳酸根的浓度c2的整体浓度A2；所述测量辅助模块还包括：对比单元，...
【专利技术属性】
技术研发人员：蔡在秉，李彦泽，陈仲仁，邓强，金明光，汪直超，韦智强，黄家都，何崇嘉，李德全，
申请(专利权)人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44
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