一种抗氧化防蓝光带图案镜片及其制备方法技术

本发明专利技术涉及一种抗氧化防蓝光带图案镜片及其制备方法，所述抗氧化防蓝光带图案镜片包括基片和设置在所述基片外表面的膜层，所述膜层包括由内向外依次层叠的打底层、图案层、抗氧化层、防蓝光层和保护层，所述打底层由第一低折射率薄膜层和第二硒层组成，其中所述第二硒层与所述图案层紧邻；所述图案层由图案和第三低折射率薄膜层组成；所述抗氧化层为第四硒层，所述防蓝光层由高折射率薄膜层和低折射率薄膜层交替组成。本发明专利技术所述抗氧化防蓝光带图案镜片具有较好的抗氧化、防蓝光效果，且图案与镜片结合紧密，图案清晰逼真，不褪色、不影响佩戴者视线，具有较好的市场前景。

【技术实现步骤摘要】
一种抗氧化防蓝光带图案镜片及其制备方法
本专利技术涉及防蓝光镜片制备技术，尤其是一种抗氧化防蓝光带图案镜片及其制备方法。
技术介绍
蓝光是自然可见光其中的一部分，日光及电子屏幕都会发出蓝光，其波长短，能量高，能够直接穿透晶状体直达眼部黄斑区，导致黄斑病变。电视、电脑、PAD及手机等各类LED发光显示设备，厂家为使其画质效果更加明亮靓丽，往往会提升LED背光源的蓝光强度，伴随着这些电子产品的普及并渗透到生活的方方面面，每个人接触蓝光的机会随之急剧增加，对于普通人而言，阻隔蓝光长时间照射是减少损伤最有效方法，防蓝光镜片因此得到广泛的运用。目前，防蓝光镜片一般通过基材吸收或膜层反射实现阻隔蓝光的效果。膜层反射通常需要较多层膜或者厚度较高的膜层。为了开发多样化的镜片，使特定功能的镜片带有图案成为一种时尚趋势。图案必须与镜片材料有较好的融合效果，且稳定存在，不易发生氧化变色，同时，也是最重要的一点，图案应该不影响佩戴者的视线。对防蓝光镜片而言，由于其防蓝光设计，镜片过厚，层数多，图案层难以稳固附着，因而难以保证图案的结合效果。
技术实现思路
本专利技术的目的是为了克服现有的防蓝光镜片难以加载稳定图案的问题，提供一种抗氧化防蓝光带图案镜片及其制备方法。所述抗氧化防蓝光带图案镜片通过特殊的层结构设计，使得镜片对波长在400～500nm的光线反射效果较好，具有防蓝光效果；镜片内部具有较高且稳定的电阻率，表面抗氧化性能好，黏性好；图案清晰逼真并且不影响佩戴者视线。具体方案如下：一种抗氧化防蓝光带图案镜片，包括基片和设置在所述基片外表面的膜层，所述膜层包括由内向外依次层叠的打底层、图案层、抗氧化层、防蓝光层和保护层，所述打底层由第一低折射率薄膜层和第二硒层组成，其中所述第二硒层与所述图案层紧邻；所述图案层由图案和第三低折射率薄膜层组成；所述抗氧化层为第四硒层，所述防蓝光层由高折射率薄膜层和低折射率薄膜层交替组成。进一步的，所述膜层覆盖在所述基片的一个侧面。进一步的，所述防蓝光层由依次层叠的第五低折射率薄膜层、第六高折射率薄膜层、第七低折射率薄膜层、第八高折射率薄膜层、第九低折射率薄膜层组成。进一步的，所述基片为亚克力基片、聚碳酸酯基片、尼龙基片、CR-39基片或玻璃基片的任意一种。进一步的，所述第一低折射率薄膜层、第三低折射率薄膜层、第五低折射率薄膜层、第七低折射率薄膜层或第九低折射率薄膜层为SiO2、硅铝混合物或MgF2中的任意一种；任选的，所述第六高折射率薄膜层或第八高折射率薄膜层为ZrO2、Ti3O5或Ta2O5中的任意一种；任选的，所述图案层中的图案为油墨印刷图案、铜模板贴合图案或静电贴贴合图案中的任意一种；任选的，所述保护层为防水材料层。进一步的，所述打底层中第一低折射率薄膜层的厚度为50-150埃米，第二硒层的厚度为50-150埃米；所述图案层中第三低折射率薄膜层的厚度为1000-1500埃米；所述抗氧化层的厚度为150-400埃米；所述防蓝光层中第五低折射率薄膜层、第六高折射率薄膜层、第七低折射率薄膜层、第八高折射率薄膜层、第九低折射率薄膜层的厚度依次为600-800埃米、400-600埃米、600-800埃米、400-600埃米、1300-1700埃米；所述保护层的厚度为10-280埃米。进一步的，所述打底层中第一低折射率薄膜层的厚度为100埃米，第二硒层的厚度为100埃米；所述图案层中第三低折射率薄膜层的厚度为1250埃米；所述抗氧化层的厚度为275埃米；所述防蓝光层中第五低折射率薄膜层、第六高折射率薄膜层、第七低折射率薄膜层、第八高折射率薄膜层、第九低折射率薄膜层的厚度依次为700埃米、500埃米、700埃米、500埃米、1500埃米；所述保护层的厚度为150埃米。一种所述的抗氧化防蓝光带图案镜片的制备方法，包括以下步骤：(1)对基片进行清洗、烘干，烘烤温度40-65℃，时间1-2小时；(2)依次对基片的外表面进行打底层真空镀膜；A、将烘干的基片摆放在治具上，送入真空腔室抽真空；B、当真空腔室真空度达到小于或等于5*10-5Torr时，开启离子源，对基片进行表面清洗；C、对基片外表面镀打底层当真空腔室真空度达到小于或等于2.0*10-5Torr时，并控制真空腔室的温度在40-60℃，采用电子枪轰击第一低折射率薄膜层材料，材料蒸发后以埃米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第一低折射率薄膜层蒸镀速率为第一低折射率薄膜层最终形成后的厚度为50-150埃米；保持真空腔室真空度达到小于或等于2.0*10-5Torr时，同时保持真空腔室的温度在40-60℃，采用电子枪轰击第二硒层的膜材硒，硒蒸发后以埃米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第二硒层蒸镀速率为第二硒层最终形成后的厚度为50-150埃米；(3)打底层镀膜完成后，对真空腔室冲入大气，然后取出基片，然后在基片打底层上印刷或者贴合镀膜图案；(4)将基片排放在治具上，放入真空腔室抽真空，并进行第三低折射率薄膜层镀膜；当真空腔室真空度达到小于或等于2.0*10-5Torr时，并控制真空腔室的温度在40-60℃，采用电子枪轰击第三低折射率薄膜层材料，材料蒸发后以埃米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第三低折射率薄膜层蒸镀速率为第三低折射率薄膜层最终形成后的厚度为1000-1500埃米；(5)镀膜完成后，对真空腔室冲入大气，然后取出基片，然后对基片进行去除油墨或者去除铜模板或者去除静电贴；(6)对基片进行清洗、烘干，烘烤温度40-60℃，时间30分钟；(7)对基片的外表面进行抗氧化层镀膜；A、将烘干的基片摆放在治具上，送入真空腔室抽真空；B、当真空腔室真空度达到小于或等于5*10-5Torr时，开启离子源，对基片进行表面清洗；C、对基片外表面进行抗氧化层镀膜当真空腔室真空度达到小于或等于2.0*10-5Torr时，并控制真空腔室的温度在40-60℃，采用电子枪轰击第四薄膜层的膜材硒，第四薄膜层硒蒸发后以埃米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第四薄膜层蒸镀速率为第四薄膜层最终形成后的厚度为150-400埃米；(8)对基片外表面进行防蓝光层镀膜保持真空腔室真空度达到小于或等于2.0*10-5Torr时，同时保持真空腔室的温度在40-60℃，采用电子枪轰击第五低折射率薄膜层材料，材料蒸发后以埃米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第五低折射率薄膜层蒸镀速率为第五低折射率薄膜层最终形成后的厚度为600-800埃米；保持真空腔室真空度达到小于或等于2.0*10-5Torr时，同时保持真空腔室的温度在40-60℃，采用电子枪轰击第六高折射率薄膜层材料，第六高折射率薄膜层蒸发后以埃米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第六高折射率薄膜层蒸镀速率为第六高折射率薄膜层最终形成后的厚度为400-600埃米；保持真空腔室真空度达到小于或等于2.0*10-5Torr时，同时保持真空腔室的温度在40-60℃，采用电子枪轰击第七低折射率薄膜层材料，第七低折射率薄膜层材料蒸发后以埃米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第七低折射率薄膜层蒸镀速率为第七低折射率薄膜层最终形成后的厚度为600-800埃米；保持真空腔室真空度达到小于或等于2.0*10-5Torr时，同时保持真空腔本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种抗氧化防蓝光带图案镜片，包括基片和设置在所述基片外表面的膜层，其特征在于：所述膜层包括由内向外依次层叠的打底层、图案层、抗氧化层、防蓝光层和保护层，所述打底层由第一低折射率薄膜层和第二硒层组成，其中所述第二硒层与所述图案层紧邻；所述图案层由图案和第三低折射率薄膜层组成；所述抗氧化层为第四硒层，所述防蓝光层由高折射率薄膜层和低折射率薄膜层交替组成。

【技术特征摘要】
1.一种抗氧化防蓝光带图案镜片，包括基片和设置在所述基片外表面的膜层，其特征在于：所述膜层包括由内向外依次层叠的打底层、图案层、抗氧化层、防蓝光层和保护层，所述打底层由第一低折射率薄膜层和第二硒层组成，其中所述第二硒层与所述图案层紧邻；所述图案层由图案和第三低折射率薄膜层组成；所述抗氧化层为第四硒层，所述防蓝光层由高折射率薄膜层和低折射率薄膜层交替组成。2.根据权利要求1所述的抗氧化防蓝光带图案镜片，其特征在于：所述膜层覆盖在所述基片的一个侧面。3.根据权利要求1所述的抗氧化防蓝光带图案镜片，其特征在于：所述防蓝光层由依次层叠的第五低折射率薄膜层、第六高折射率薄膜层、第七低折射率薄膜层、第八高折射率薄膜层、第九低折射率薄膜层组成。4.根据权利要求1或3所述的抗氧化防蓝光带图案镜片，其特征在于：所述基片为亚克力基片、聚碳酸酯基片、尼龙基片、CR-39基片或玻璃基片的任意一种。5.根据权利要求1或3所述的抗氧化防蓝光带图案镜片，其特征在于：所述第一低折射率薄膜层、第三低折射率薄膜层、第五低折射率薄膜层、第七低折射率薄膜层或第九低折射率薄膜层为SiO2、硅铝混合物或MgF2中的任意一种；任选的，所述第六高折射率薄膜层或第八高折射率薄膜层为ZrO2、Ti3O5或Ta2O5中的任意一种；任选的，所述图案层中的图案为油墨印刷图案、铜模板贴合图案或静电贴贴合图案中的任意一种；任选的，所述保护层为防水材料层。6.根据权利要求1或3所述的抗氧化防蓝光带图案镜片，其特征在于：所述打底层中第一低折射率薄膜层的厚度为50-150埃米，第二硒层的厚度为50-150埃米；所述图案层中第三低折射率薄膜层的厚度为1000-1500埃米；所述抗氧化层的厚度为150-400埃米；所述防蓝光层中第五低折射率薄膜层、第六高折射率薄膜层、第七低折射率薄膜层、第八高折射率薄膜层、第九低折射率薄膜层的厚度依次为600-800埃米、400-600埃米、600-800埃米、400-600埃米、1300-1700埃米；所述保护层的厚度为10-280埃米。7.根据权利要求6所述的抗氧化防蓝光带图案镜片，其特征在于：所述打底层中第一低折射率薄膜层的厚度为100埃米，第二硒层的厚度为100埃米；所述图案层中第三低折射率薄膜层的厚度为1250埃米；所述抗氧化层的厚度为275埃米；所述防蓝光层中第五低折射率薄膜层、第六高折射率薄膜层、第七低折射率薄膜层、第八高折射率薄膜层、第九低折射率薄膜层的厚度依次为700埃米、500埃米、700埃米、500埃米、1500埃米；所述保护层的厚度为150埃米。8.权利要求1-7任一项所述的抗氧化防蓝光带图案镜片的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：(1)对基片进行清洗、烘干，烘烤温度40-65℃，时间1-2小时；(2)依次对基片的外表面进行打底层真空镀膜；A、将烘干的基片摆放在治具上，送入真空腔室抽真空；B、当真空腔室真空度达到小于或等于5*10-5Torr时，开启离子源，对基片进行表面清洗；C、对基片外表面镀打底层当真空腔室真空度达到小于或等于2.0*10-5Torr时，并控制真空腔室的温度在40-60℃，采用电子枪轰击第一低折射率薄膜层材料，材料蒸发后以埃米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第一低折射率薄膜层蒸镀速率为第一低折射率薄膜层最终形成后的厚度为50-150埃米；保持真空腔室真空度达到小于或等于2.0*10-5Torr时，同时保持真空腔室的温度在40-60℃，采用电子枪轰击第二硒层的膜材硒，硒蒸发后以埃米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第二硒层蒸镀速率为第二硒层最终形成后的厚度为50-150埃米；(3)打底层镀膜完成后，对真空腔室冲入大气，然后取出基片，然后在基片打底层上印刷或者贴合镀膜图案；(4)将基片排放在治具上，放入真空腔室抽真空，并进行第三低折射率薄膜层镀膜；当真空腔室真空度达到小于或等于2.0*10-5Torr时，并控制真空腔室的温度在40-60℃，采用电子枪轰击第三低折射率薄膜层材料，材料蒸发后以埃米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第三低折射率薄膜层蒸镀速率为第三低折射率薄膜层最终形成后的厚度为1000-1500埃米；(5)镀膜完成后，对真空腔室冲入大气，然后取出基片，然后对基片进行去除油墨或者去除铜模板或者去除静电贴；(6)对基片进行清洗、烘干，烘烤温度40-60℃，时间30分钟；(7)对基片的外表面进行抗氧化层镀膜；A、将烘干的基片摆放在治具上，送入真空腔室抽真空；B、当真空腔室真空度达到小于或等于5*10-5Torr时，开启离子源，对基片进行表面清洗；C、对基片外表面进行抗氧化层镀膜当真空腔室真空度达到小于或等于2.0*10-5Torr时，并控制真空腔室的温度在40-60℃，采用电子枪轰击第四薄膜层的膜材硒，第四薄膜层硒蒸发后以埃米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第四薄膜层蒸镀速率为第四薄膜层最终形成后的厚度为150-400埃米；(8)对基片外表面进行防蓝光层镀膜保持真空腔室真空度达到小于或等于2.0*10-5Torr时，同时保持真空腔室的温度在40-60℃，采用电子枪轰击第五低折射率薄膜层材料，材料蒸发后以埃米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第五低折射率薄膜层蒸镀速率为第五低折射率薄膜层最终形成后的厚度为600-800埃米；保持真空腔室真空度达到小于或等于2.0*10-5Torr时，同时保持真空腔室的温度在40-60℃，采用电子枪轰击第六高折射率薄膜层材料，第六高折射率薄膜层蒸发后以埃米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第六高折射率薄膜层蒸镀速率为第六高折射率薄膜层最终形成后的厚度为400-600埃米；保持真空腔室真空度达到小于或等于2.0*10-5Torr时，同时保持真空腔室的温度在40-60℃，采用电子枪轰击第七低折射率薄膜层材料，第七低折射率薄膜层材料蒸发后以埃米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第七低折射率薄膜层蒸镀速率为第七低折射率薄膜层最终形成后的厚度为600-800埃米；保持真空腔室真空度达到小于或等于2.0*1...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨敏男，吴富章，
申请(专利权)人：厦门美澜光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：福建,35