显示屏及电子产品制造技术

本发明专利技术涉及一种显示屏，其所述显示屏具有第一显示区以及第二显示区；所述第二显示区的部分隔离柱缺失；每个缺失的所述隔离柱下方的像素限定层设有开孔；对应所述开孔的区域的金属阳极层中设有若干表面等离子激元共振结构；所述表面等离子激元共振结构由同心排布的若干金属圆环组成。上述显示屏，第二显示区中的表面等离子激元共振结构，可以对进入的光线进行增透，即使第二显示区的入射光的透射增强，从而使穿过第二显示区的光强增加，进一步使更多的光进入屏下光敏模块中，使成像效果提高。本发明专利技术还公开了一种包含上述显示屏的电子产品。

【技术实现步骤摘要】
显示屏及电子产品
本专利技术涉及电子产品
，特别是涉及一种显示屏及电子产品。
技术介绍
现在的电子产品(例如手机、平板电脑等)，在其正面上一般都安装有前置的摄像头，摄像头安装于正面的非显示区域，不能全屏显示。目前，有将显示屏划分为第一显示区以及第二显示区，将前置摄像头隐藏于显示屏的第二显示区的下方；在需要拍照摄像时，控制显示屏的第二显示区的像素点不发光而呈现透明状态，从而可以拍照摄像。在不拍照摄像时，第二显示区正常显示，实现全屏显示。但是，在上述方案中，光线通过显示屏的第二显示区才能进入摄像头中成像，显示屏会对光线进行部分遮挡吸收，从而使成像效果不佳。
技术实现思路
基于此，有必要对现有技术中成像效果不佳的问题，提供一种提高成像效果的显示屏。一种显示屏，所述显示屏具有第一显示区以及第二显示区；所述第二显示区的部分隔离柱缺失；每个缺失的所述隔离柱下方的像素限定层设有开孔；对应所述开孔的区域的金属阳极层中设有若干表面等离子激元共振结构；所述表面等离子激元共振结构由同心排布的若干金属圆环组成。上述显示屏，第二显示区中的表面等离子激元共振结构，可以对进入的光线进行增透，即使第二显示区的入射光的透射增强，从而使穿过第二显示区的光强增加，进一步使更多的光进入屏下光敏模块中，使成像效果提高。在其中一个实施例中，所述金属圆环处于驱动层组上，在所述金属圆环的中心对应的驱动层组处设置有贯穿所述显示屏的通孔。在其中一个实施例中，所述金属圆环的宽度为200nm～500nm。在其中一个实施例中，相邻所述金属圆环之间的间隙为10nm～50nm。在其中一个实施例中，所述金属阳极层下方的平坦化层设有通孔；所述通孔与所述金属螺旋线的中心区域相对应。在其中一个实施例中，所述通孔的半径为10nm～50nm。在其中一个实施例中，所述金属圆环的厚度为50nm～200nm。在其中一个实施例中，所述开孔为圆形。在其中一个实施例中，所述开孔的半径为10um～20um。本专利技术还提供了一种电子产品。一种电子产品，包括：显示屏；所述显示屏具有第一显示区以及第二显示区；所述第二显示区的部分隔离柱缺失；每个缺失的所述隔离柱下方的像素限定层设有开孔；对应所述开孔的区域的金属阳极层中设有若干表面等离子激元共振结构；所述表面等离子激元共振结构由同心排布的若干金属圆环组成；以及屏下光敏模块，其对应第二显示区设置并且能感应穿过所述显示屏而照射进来的光。上述电子产品，由于显示屏中的第二显示区中的表面等离子激元共振结构，可以对进入的光线进行增透，即使第二显示区的入射光的透射增强，从而使穿过第二显示区的光强增加，进一步使更多的光进入屏下光敏模块中，使成像效果提高。在其中一个实施例中，所述屏下光敏模块为光电传感器、摄像头中至少其中之一。附图说明图1为本专利技术一实施方式的显示屏的俯视结构示意图。图2为图1中的显示屏的第二显示区的局部剖面结构示意图。图3为图1中的显示屏的第二显示区的隔离柱缺失的示意图。图4为图1中的显示屏的金属阳极层的局部结构示意图(一个开孔对应的区域)。图5为图4中的表面等离子激元共振结构的示意图。图6为仿真测试图。图7为本专利技术一实施方式的电子产品的俯视示意图。具体实施方式为了使本专利技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合具体实施方式，对本专利技术进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施方式仅仅用以解释本专利技术，并不用于限定本专利技术。除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本专利技术的
的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本专利技术的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施方式的目的，不是旨在于限制本专利技术。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。参见图1，本专利技术一实施方式的显示屏1000，具有第一显示区1001以及第二显示区1002。该第二显示区1002具有显示模式以及摄像模式；在显示模式下，第二显示区1002显示图像；此时，第二显示区1002与第一显示区1001可以一起显示，从而实现全屏显示功能；在摄像模式下，第二显示区1002不显示而呈透明状态以使外界的光线穿过第二显示区1002；穿过第二显示区1002的光线可进入摄像机构中，从而可以实现摄像拍照功能。可理解的是，第二显示区1002呈透明状态是指，人视觉感受为透明的，允许第二显示区1002中存在人视觉无法感受的非透明区域。优选地，第二显示区1002为圆形，更优选地，第二显示区1002的半径为8.5mm～11mm。当然，可以理解的是，第二显示区1002还可以是其它形状，例如方形。在本实施方式中，以AMOLED显示屏为例进行说明，可以理解的是，本专利技术并不局限于AMOLED显示屏，还可以是PMOLED显示屏。结合参见图2，显示屏1000包括驱动层组500、以及形成在驱动层组500上的OLED器件100。其中，OLED器件100包括金属阳极层110、以及与金属阳极层110相对的阴极层120、位于金属阳极层110与阴极层120之间的子像素发光结构130、以及位于子像素发光结构130两侧的子像素隔离结构。子像素隔离结构同样位于金属阳极层110与阴极层120之间。子像素隔离结构包括形成在金属阳极层110上的像素限定层180以及位于像素限定层180上的隔离柱190。在本实施方式中，具体地，驱动层组500包括位于最底下的基底层581、位于基底层581上的缓冲层582、形成在缓冲层582的半导体硅层530、覆盖在半导体硅层530上的栅绝缘层577(一般称为GI)、形成在栅绝缘层577的第一金属层520(一般称为M1层，可形成电容器的下电极以及薄膜晶体管的栅极)、覆盖第一金属层520的电介质层573(一般称为CI)、形成在电介质层573的第二金属层510(一般称为M2，可形成电容器的上电极)、覆盖在第二金属层510上的两层层间绝缘层571、572(一般称为ILD)、以及形成在层间绝缘层571、572上的第三金属层560(一般称为M3)。以下以上述的驱动层组500具体结构为例进行说明，但是可以理解的是，本专利技术的驱动层组500并不局限于上述结构，还可以是其它结构，其它结构可以参照上述结构理解，在此不再赘述。在本专利技术中，第一显示区1001按照正常的显示屏的结构设计进行设计。第二显示区1002进行特殊设计，以下详细对第二显示区1002的显示屏的结构设计进行说明。第二显示区1002的部分隔离柱190缺失；每个缺失的隔离柱190’下方的像素限定层180设有开孔183；对应开孔183的区域的金属阳极层110(图2中黑色标示的区域)中设有若干表面等离子激元共振结构5，表面等离子激元共振结构5由同心排布若干的金属圆环111组成。重点参见图3，在第二显示区1002设计时，对其中的一部分隔离柱190不设计。在第二显示区1002中，可以是一个子像素单元对应的多个隔离柱中的一个隔离柱190缺失，亦或两个或以上的隔离柱190缺失。但是，可以理解的是，不能将一个子像素单元所对应的隔离柱190全部缺失。优选地，第二显示区1002的若干隔离柱190间隔缺失，也就是说，相邻的缺失的隔离柱190’中间还有正常的隔离柱190存在。这样可以有利于尽量减少隔离柱缺190失所引起的不良影响。更优选地，第二显本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示屏，其特征在于，所述显示屏具有第一显示区以及第二显示区；所述第二显示区的部分隔离柱缺失；每个缺失的所述隔离柱下方的像素限定层设有开孔；对应所述开孔的区域的金属阳极层中设有若干表面等离子激元共振结构；所述表面等离子激元共振结构由同心排布的若干金属圆环组成。

【技术特征摘要】
1.一种显示屏，其特征在于，所述显示屏具有第一显示区以及第二显示区；所述第二显示区的部分隔离柱缺失；每个缺失的所述隔离柱下方的像素限定层设有开孔；对应所述开孔的区域的金属阳极层中设有若干表面等离子激元共振结构；所述表面等离子激元共振结构由同心排布的若干金属圆环组成。2.根据权利要求1所述的显示屏，其特征在于，所述金属圆环的宽度为200nm～500nm。3.根据权利要求1或2所述的显示屏，其特征在于，相邻所述金属圆环之间的间隙为10nm～50nm。4.根据权利要求1到3中任一项所述的显示屏，其特征在于，所述金属阳极层下方的平坦化层设有通孔；所述通孔与所述金属螺旋线的中心区域相对应。5.根据权利要求4所述的显示屏，其特征在于，所述通孔的半径为10nm～50nm。6.根据权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员：常苗，张露，韩珍珍，胡思明，
申请(专利权)人：昆山国显光电有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32