表膜制造技术

提供在介由表膜利用曝光光形成抗蚀图案的情况下、能够形成对比度优异的抗蚀图案的表膜。一种表膜，其包括具备面积1000cm

Surface membrane

A surface film capable of forming an anti-corrosion pattern with excellent contrast is provided in the case of an anti-corrosion pattern formed by the surface film using exposure light. A surface film comprising a surface area of 1000 cm

【技术实现步骤摘要】
表膜
本专利技术涉及表膜。
技术介绍
以往，在半导体电路图案等的制造中，通常使用被称为表膜的防尘手段、防止异物对光掩模、标线的附着。表膜例如为在具有符合光掩模或标线的形状的形状的厚度数毫米左右的框体的上缘面展开、粘接厚度10μm以下的硝基纤维素或纤维素衍生物或氟聚合物等透明的高分子膜(以下称为“表膜用膜”)，并且在该框体的下缘面涂布粘合剂的同时，在该粘合剂上以规定的粘接力粘合保护薄膜而成的。上述粘合剂用于将表膜固定于光掩模或标线，另外，保护薄膜是为了维持该粘合剂的粘接力直至该粘合剂供于其使用为止而保护该粘合剂的粘接面。这种表膜通常由制造表膜的厂商供给到制造光掩模或标线的厂商，在此将表膜粘贴于光掩模或标线后，供给到半导体厂商、面板厂商等进行光刻的厂商。作为表膜用膜，对应于曝光中使用的光源，选择、使用最合适的材料。例如KrF激光(248nm)以下的短波长的情况下，使用具有充分的透过率和耐光性的氟系树脂。另一方面，对于平板显示器(FPD)用的表膜而言，作为光源，通常使用高压水银灯、超高压水银灯，使用240nm～600nm的宽带的波长，因此使用硝基纤维素、乙基纤维素、丙酸纤维素等纤维素系树脂、环烯烃树脂、氟系树脂、聚乙烯醇缩醛树脂等。另外，存在即使是半导体用的表膜用膜也使用g&i射线等长的波长的曝光，这种情况下，以前除了氟系以外，也使用纤维素系树脂、环烯烃系树脂、聚乙烯醇缩醛树脂等(例如参照专利文献1～3)。对于FPD而言，为了提高生产率，有时期望线宽更细的电路，要求高的曝光波长，对应于此的大型表膜用膜得到开发(例如参照专利文献4)现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开平04-081854号公报专利文献2：日本特开平01-133052号公报专利文献3：日本特开平07-199451号公报专利文献4：日本特开2012-212043号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题专利文献1～4中公开的表膜存在下述问题：在介由该表膜利用曝光光形成抗蚀图案中，若抗蚀图案微细化则基板上的抗蚀图案的对比度降低。本专利技术是鉴于上述问题而提出的，其目的在于，提供在介由表膜利用曝光光形成抗蚀图案的情况下、能够形成对比度优异的抗蚀图案的表膜。用于解决问题的方案本专利技术人等为了解决上述问题而深入研究，结果发现，包括对于前述表膜用膜垂直入射波长365nm的光的情况与以10°的角度入射的情况的相位差为特定值的区域的表膜用膜，可以形成对比度优异的抗蚀图案，从而完成了本专利技术。即，本专利技术如下所述。1.一种表膜，其包括具备面积1000cm2以上的俯视矩形状的开口部的表膜用框体、被该表膜用框体的一端面以覆盖所述开口部的方式展开支承的表膜用膜、和所述表膜用框体的另一端面的掩模粘合剂，在1cm×1cm的区域内包括对于所述表膜用膜垂直入射波长365nm的光的情况与以10°的角度入射的情况的相位差为0.5rad以下的区域。[2]根据[1]所述的表膜，其中，所述表膜用膜的膜厚为1.0μm以上且4.0μm以下。[3]根据[1]所述的表膜，其中，所述表膜用膜的膜厚为1.0μm以上且3.0μm以下。[4]根据[1]所述的表膜，其中，所述表膜用膜的膜厚为1.7μm以上且3.0μm以下。[5]根据[1]所述的表膜，其中，所述表膜用膜的膜厚为2.0μm以上且3.0μm以下。[6]根据[1]～[5]中任一项所述的表膜，其中，自掩模剥离表膜时的剥离力为0.4kgf/cm2以上且6.0kgf/cm2以下。[7]根据[6]所述的表膜，其中，所述剥离力为0.4kgf/cm2以上且4.0kgf/cm2以下。[8]根据[6]或[7]所述的表膜，其中，所述剥离力为0.4kgf/cm2以上且3.0kgf/cm2以下。[9]根据[6]～[8]中任一项所述的表膜，其中，所述剥离力为0.4kgf/cm2以上且2.0kgf/cm2以下。[10]根据[1]～[9]中任一项所述的表膜，其中，表膜用膜的张力为2.5gf/mm以上且7.0gf/mm以下。[11]根据[1]～[10]中任一项所述的表膜，其中，表膜用膜的张力为3.0gf/mm以上且7.0gf/mm以下。[12]根据[1]～[11]中任一项所述的表膜，其中，表膜用膜的张力为3.5gf/mm以上且7.0gf/mm以下。[13]根据[1]～[12]中任一项所述的表膜，其中，所述表膜用膜的波长365nm时的折射率不足1.40。[14]根据[1]～[12]中任一项所述的表膜，其中，所述表膜用膜的波长365nm时的折射率为1.40以上。专利技术的效果根据本专利技术，可以提供在介由表膜利用曝光光形成抗蚀图案的情况下、能够形成对比度优异的抗蚀图案的表膜。附图说明图1为实施例1的晶圆上的图案的SEM照片。图2为比较例1的晶圆上的图案的SEM照片。图3为表示CD测定中的线和线距(L/S)图案的图。图4为使用通过实施例4制作的表膜进行曝光时被转印的接触孔的SEM照片。图5为使用通过比较例1制作的表膜进行曝光时被转印的接触孔的SEM照片。具体实施方式以下对于本专利技术的实施方式(以下称为“本实施方式”)进行详细说明，但是本专利技术不限于此，在不会脱离其主旨的范围内能够进行各种变形。[表膜]本实施方式的表膜包括具备面积1000cm2以上的俯视矩形状的开口部的表膜用框体、被该表膜用框体的一端面以覆盖前述开口部的方式展开支承的表膜用膜、和前述表膜用框体的另一端面的掩模粘合剂。另外，本实施方式的表膜在1cm×1cm的区域内包括对于前述表膜用膜垂直入射波长365nm的光的情况与以10°的角度入射的情况的相位差为0.5rad以下的区域。(表膜用膜)本实施方式中的表膜用膜被表膜用框体的一端面以覆盖前述开口部的方式展开支承。作为构成这种表膜用膜的成分，没有特别限制，例如使用纤维素衍生物(硝基纤维素、纤维素乙酸酯、纤维素乙酸酯丙酸酯、纤维素乙酸酯丁酸酯等、或它们中的2种以上的混合物)、氟系聚合物(四氟乙烯-偏二氟乙烯-六氟丙烯的3元共聚物、作为主链具有环状结构的聚合物的DuPont公司制的特氟隆AF(商品名)、旭硝子公司制的CYTOP(商品名)、AUSIMONT公司制的Argoflon(商品名)等)等聚合物等。从对于作为通常使用的等倍投影曝光液晶曝光机的光源的超高压水银灯的耐光性、成本的观点考虑，在构成上述表膜用膜的成分之中，优选使用纤维素乙酸酯丙酸酯、纤维素乙酸酯丁酸酯、和CYTOP、特氟隆AF等氟系聚合物。上述聚合物可以利用适于各自的溶剂(酮系溶剂、酯系溶剂、醇系溶剂、氟系溶剂等)溶解、以聚合物溶液的形式使用。特别是对于上述的纤维素乙酸酯丙酸酯、纤维素乙酸酯丁酸酯，优选为乳酸乙酯等酯系溶剂。另外，对于CYTOP、特氟隆AF等氟系聚合物，优选为三(全氟丁基)胺等氟系溶剂。聚合物溶液根据需要利用深度过滤器、膜滤器等过滤。本实施方式中的表膜用膜在1cm×1cm的区域内包括对于前述表膜用膜垂直入射波长365nm的光的情况与以10°的角度入射的情况的相位差为0.5rad以下的区域。对于表膜用膜垂直入射的波长365nm的光称为垂直入射光。另外对于表膜用膜以10°的角度入射的波长365nm的光称为10°入射光。垂直入射光与10°入射光的相位差为0.5rad以下、优选0.48rad以下、0.4rad以下、本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种表膜，其包括具备面积1000cm2以上的俯视矩形状的开口部的表膜用框体、被该表膜用框体的一端面以覆盖所述开口部的方式展开支承的表膜用膜、和所述表膜用框体的另一端面的掩模粘合剂，在1cm×1cm的区域内包括对于所述表膜用膜垂直入射波长365nm的光的情况与以10°的角度入射的情况的相位差为0.5rad以下的区域。

【技术特征摘要】
2017.09.29 JP 2017-1895721.一种表膜，其包括具备面积1000cm2以上的俯视矩形状的开口部的表膜用框体、被该表膜用框体的一端面以覆盖所述开口部的方式展开支承的表膜用膜、和所述表膜用框体的另一端面的掩模粘合剂，在1cm×1cm的区域内包括对于所述表膜用膜垂直入射波长365nm的光的情况与以10°的角度入射的情况的相位差为0.5rad以下的区域。2.根据权利要求1所述的表膜，其中，所述表膜用膜的膜厚为1.0μm以上且4.0μm以下。3.根据权利要求1所述的表膜，其中，所述表膜用膜的膜厚为1.0μm以上且3.0μm以下。4.根据权利要求1所述的表膜，其中，所述表膜用膜的膜厚为1.7μm以上且3.0μm以下。5.根据权利要求1所述的表膜，其中，所述表膜用膜的膜厚为2.0μm以上且3.0μm以下。6.根据权利要求1～5中任一项所述的表膜，其中，自掩模剥离表膜时的剥离力为0.4kgf/cm2以上且6.0...

【专利技术属性】
技术研发人员：丸山公幸，藤川尊，中原辰典，
申请(专利权)人：旭化成株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP