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一种纳米去污膏及制备方法技术

技术编号:20786773 阅读:35 留言:0更新日期:2019-04-06 05:36
本发明专利技术公开了一种纳米去污膏,按重量份数包括下述原料:表面活性剂15~25份、纳米碳酸钙5~35份、无机助洗剂5~35份、黏合剂1~5份、增稠剂1~4份、钙镁离子螯合剂0.02~0.05份、去离子水20~70份;制法包括:首先将表面活性剂放入反应釜中,加温至55~70℃,搅拌1~2h;后加入无机助洗剂、黏合剂、增稠剂、钙镁离例子螯合剂,充分搅拌;后加入纳米碳酸钙,再充分搅拌反应1h左右;最后加入去离子水,充分搅拌均匀约1h成膏状,静置4h后即可使用。优点为本发明专利技术的纳米去污膏生产工艺简单、无污染、实用性强,去污高效、使用长久,湿润、渗透力强,对顽垢效果良好。

【技术实现步骤摘要】
一种纳米去污膏及制备方法
本专利技术属于去污膏产品加工
,具体涉及一种纳米去污膏及制备方法。
技术介绍
去污膏对于健康和卫生有着非常积极、有效的作用。随着社会的发展、科学技术水平的提高、原料工业的进步,去污用品工业得以快速发展。而人们健康意识和文明水平的不断提高,也推动着去污膏市场发生日新月异的变化。目前市场上去污产品种类繁多,趋向多样化、专用化,产品越分越细。无疑,去污用品将朝着更加专业的方向发展,将出现更多的新产品。去污膏的主要成分是表面活性剂,表面活性剂是分子结构中含有亲水基和亲油基两部分的有机化合物。一般根据表面活性剂在水溶液中能否分解为离子,又将其分为离子型表面活性剂和非离子型表面活性剂两大类。离子型表面活性剂又可分为阳离子表面活性剂、阴离子表面活性剂和两性离子表面活性剂三种。现有的去污膏一般PH值偏高,有机溶剂使用欠佳,对使用物有一定的伤害,并有异味,对彩色皮面有退色现象,生产工艺复杂,需加温加压,所需厂房大,设备复杂,投资大。
技术实现思路
专利技术目的:本专利技术的第一目的是提供一种制作简单、去污高效的纳米去污膏;本专利技术的第二目的是提供该纳米去污膏的制备方法。技术方案:本专利技术所述的纳米去污膏,按重量份数包括下述原料:表面活性剂15~25份、纳米碳酸钙5~35份、无机助洗剂5~35份、黏合剂1~5份、增稠剂1~4份、钙镁离子螯合剂0.02~0.05份、去离子水20~70份。优选的,表面活性剂为18~22份。优选的,纳米碳酸钙为8~32份。优选的,无机助洗剂为8~32份。优选的,黏合剂为2~4份。优选的,增稠剂为2~3份。优选的,钙镁离子螯合剂为0.03~0.04份。优选的,去离子水为25~60份。本专利技术所述纳米去污膏的制备方法,包括如下步骤:首先将表面活性剂放入反应釜中,加温至55~70℃,搅拌1~2h;后加入无机助洗剂、黏合剂、增稠剂、钙镁离例子螯合剂,充分搅拌;后加入纳米碳酸钙,再充分搅拌反应1h左右;最后加入去离子水,充分搅拌均匀约1h成膏状,静置4h后即可使用。有益效果:与现有技术相比,其显著优点为本专利技术的纳米去污膏生产工艺简单、无污染、实用性强,去污高效、使用长久,湿润、渗透力强,对顽垢效果良好。具体实施方式下面结合实施例对本专利技术的技术方案作进一步说明。实施例1原料:表面活性剂18份、纳米碳酸钙8份、无机助洗剂8份、黏合剂2份、增稠剂2份、钙镁离子螯合剂0.03份、去离子水25份。方法:首先将表面活性剂放入反应釜中,加温至55~70℃,搅拌1~2h;后加入无机助洗剂、黏合剂、增稠剂、钙镁离例子螯合剂,充分搅拌;后加入纳米碳酸钙,再充分搅拌反应1h左右;最后加入去离子水,充分搅拌均匀约1h成膏状,静置4h后即可使用。该纳米去污膏生产工艺简单、无污染、实用性强,去污高效、使用长久,湿润、渗透力强,对顽垢效果良好。实施例2原料:表面活性剂22份、纳米碳酸钙32份、无机助洗剂32份、黏合剂4份、增稠剂3份、钙镁离子螯合剂0.04份、去离子水60份。方法:首先将表面活性剂放入反应釜中,加温至55~70℃,搅拌1~2h;后加入无机助洗剂、黏合剂、增稠剂、钙镁离例子螯合剂,充分搅拌;后加入纳米碳酸钙,再充分搅拌反应1h左右;最后加入去离子水,充分搅拌均匀约1h成膏状,静置4h后即可使用。该纳米去污膏生产工艺简单、无污染、实用性强,去污高效、使用长久,湿润、渗透力强,对顽垢效果良好。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种纳米去污膏,其特征在于按重量份数包括下述原料:表面活性剂15~25份、纳米碳酸钙5~35份、无机助洗剂5~35份、黏合剂1~5份、增稠剂1~4份、钙镁离子螯合剂0.02~0.05份、去离子水20~70份。

【技术特征摘要】
1.一种纳米去污膏,其特征在于按重量份数包括下述原料:表面活性剂15~25份、纳米碳酸钙5~35份、无机助洗剂5~35份、黏合剂1~5份、增稠剂1~4份、钙镁离子螯合剂0.02~0.05份、去离子水20~70份。2.根据权利要求1所述的纳米去污膏,其特征在于:所述表面活性剂18~22份。3.根据权利要求1所述的纳米去污膏,其特征在于:所述纳米碳酸钙8~32份。4.根据权利要求1所述的纳米去污膏,其特征在于:所述无机助洗剂8~32份。5.根据权利要求1所述的纳米去污膏,其特征在于:所述黏合剂2~4份。6.根据权利要求1所述的纳...

【专利技术属性】
技术研发人员:俞有芳
申请(专利权)人:俞有芳
类型:发明
国别省市:江苏,32

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