【技术实现步骤摘要】
一种纳米去污膏及制备方法
本专利技术属于去污膏产品加工
,具体涉及一种纳米去污膏及制备方法。
技术介绍
去污膏对于健康和卫生有着非常积极、有效的作用。随着社会的发展、科学技术水平的提高、原料工业的进步,去污用品工业得以快速发展。而人们健康意识和文明水平的不断提高,也推动着去污膏市场发生日新月异的变化。目前市场上去污产品种类繁多,趋向多样化、专用化,产品越分越细。无疑,去污用品将朝着更加专业的方向发展,将出现更多的新产品。去污膏的主要成分是表面活性剂,表面活性剂是分子结构中含有亲水基和亲油基两部分的有机化合物。一般根据表面活性剂在水溶液中能否分解为离子,又将其分为离子型表面活性剂和非离子型表面活性剂两大类。离子型表面活性剂又可分为阳离子表面活性剂、阴离子表面活性剂和两性离子表面活性剂三种。现有的去污膏一般PH值偏高,有机溶剂使用欠佳,对使用物有一定的伤害,并有异味,对彩色皮面有退色现象,生产工艺复杂,需加温加压,所需厂房大,设备复杂,投资大。
技术实现思路
专利技术目的:本专利技术的第一目的是提供一种制作简单、去污高效的纳米去污膏;本专利技术的第二目的是提供该纳米去污膏的制备方法。技术方案:本专利技术所述的纳米去污膏,按重量份数包括下述原料:表面活性剂15~25份、纳米碳酸钙5~35份、无机助洗剂5~35份、黏合剂1~5份、增稠剂1~4份、钙镁离子螯合剂0.02~0.05份、去离子水20~70份。优选的,表面活性剂为18~22份。优选的,纳米碳酸钙为8~32份。优选的,无机助洗剂为8~32份。优选的,黏合剂为2~4份。优选的,增稠剂为2~3份。优选的,钙镁 ...
【技术保护点】
1.一种纳米去污膏,其特征在于按重量份数包括下述原料:表面活性剂15~25份、纳米碳酸钙5~35份、无机助洗剂5~35份、黏合剂1~5份、增稠剂1~4份、钙镁离子螯合剂0.02~0.05份、去离子水20~70份。
【技术特征摘要】
1.一种纳米去污膏,其特征在于按重量份数包括下述原料:表面活性剂15~25份、纳米碳酸钙5~35份、无机助洗剂5~35份、黏合剂1~5份、增稠剂1~4份、钙镁离子螯合剂0.02~0.05份、去离子水20~70份。2.根据权利要求1所述的纳米去污膏,其特征在于:所述表面活性剂18~22份。3.根据权利要求1所述的纳米去污膏,其特征在于:所述纳米碳酸钙8~32份。4.根据权利要求1所述的纳米去污膏,其特征在于:所述无机助洗剂8~32份。5.根据权利要求1所述的纳米去污膏,其特征在于:所述黏合剂2~4份。6.根据权利要求1所述的纳...
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