【技术实现步骤摘要】
位移测量装置、测量系统及位移测量方法
本专利技术涉及一种位移测量装置、包括位移测量装置的系统及位移测量方法。
技术介绍
以往,例如,已知有如专利文献1所示使用白光共聚焦方式(whiteconfocalmethod)作为测量方式的位移测量装置。该位移测量装置是一边使非接触型传感器头移动,一边连续地测量与测量对象物之间的距离(位移)。此外,存在一种工件,通过基于来自多个位置的反射光测量构件的厚度或位移,而进行品质管理。作为这种工件,例如,可列举包含不易反射光的原材料的工件(被实施了抗反射(AntiReflective,AR)涂布等抗反射加工的光学零件等)、形成为多层构成的工件(透镜组群等)。此外,以往,已知有如专利文献2所示使用三角测距方式作为测量方式的位移测量装置。[
技术介绍
文献][专利文献][专利文献1]日本专利特开2012-208102号公报[专利文献2]日本专利特开2013-90045号公报
技术实现思路
[专利技术欲解决的课题]在如上所述的工件中,并不一定能够稳定地从所有测量位置获得反射光。例如,当如以图22的波形911所示,在第一个测量对象面上反射的光的受光量较小而成为面检测阈值以下时,位移测量装置将以波形912所示的在第二个测量对象面反射的光作为在第一测量对象面反射的光进行处理。具体来说,位移测量装置将到第一个测量对象面的距离作为距离L912而非距离L911进行处理。此外,当存在来自多个位置的反射光时,工件的微小的位置偏差会导致测量对象面向测量范围外偏离。例如,如果像图23所示那样第一个测量对象面偏离测量范围,那么位移测量装置将以波形922所示的在第 ...
【技术保护点】
1.一种位移测量装置,其特征在于,包括:投光部,产生光;传感器头,对测量对象物照射所述光,且接收所照射的所述光中在所述测量对象物的测量对象面反射的光;以及控制部,基于所述传感器头所接收的光,算出表示与所述测量对象面之间的距离的值,且所述控制部是以算出的所述值包含在预先设定的数值范围内为条件,将所算出的所述值作为表示到所述测量对象面的距离的值进行处理,且基于所算出的所述值,重新设定所述预先设定的数值范围。
【技术特征摘要】
2017.09.26 JP 2017-1849951.一种位移测量装置,其特征在于,包括:投光部,产生光;传感器头,对测量对象物照射所述光,且接收所照射的所述光中在所述测量对象物的测量对象面反射的光;以及控制部,基于所述传感器头所接收的光,算出表示与所述测量对象面之间的距离的值,且所述控制部是以算出的所述值包含在预先设定的数值范围内为条件,将所算出的所述值作为表示到所述测量对象面的距离的值进行处理,且基于所算出的所述值,重新设定所述预先设定的数值范围。2.根据权利要求1所述的位移测量装置,其特征在于,所述测量对象物在基材上具有能够使所述光透射的第一层,所述传感器头接收所照射的所述光中在所述基材的测量对象面和所述第一层的测量对象面的各面反射的光,所述控制部基于所述传感器头所接收的光,算出表示与各所述测量对象面之间的距离的值,且将算出的多个所述值中的第一值作为表示到所述第一层的测量对象面的距离的值进行处理,所述第一值包含在作为所述预先设定的数值范围的第一数值范围内。3.根据权利要求2所述的位移测量装置,其特征在于,所述控制部将算出的多个所述值中的第二值作为表示到所述基材的测量对象面的距离的值进行处理,所述第二值包含在不与所述第一数值范围重复且作为所述预先设定的数值范围的第二数值范围内。4.根据权利要求2所述的位移测量装置,其特征在于,所述测量对象物具有积层在所述第一层的第二层,所述传感器头还接收所照射的所述光中在所述第二层的测量对象面反射的光,所述控制部是将算出的多个所述值中的第二值作为表示到所述第二层的测量对象面的距离的值进行处理,所述第二值包含在不与所述第一数值范围重复且作为所述预先设定的数值范围的第二数值范围内。5.根据权利要求1所述的位移测量装置,其特征在于,所述传感器头与所述测量对象物的相对位置根据所述传感器头或所述测量对象物的移动而发生变化,所述控制部基于所述相对位置发生变化后由所述传感器头接收的光,再次算出表示与所述测量对象面之间的距离的值,且将再次算出的所述值中包含在重新设定后的所述数值范围内的值,作为所述相对位置发生变化后的位置上的到所述测量对象面的距离进行处理。6.根据权利要求3或4所述的位移测量装置,其特征在于,所述传感器头与所述测量对象物的相对位置根据所述传感器头或所述测量对象物的移动而发生变化,所述控制部基于所述相对位置发生变化后由所述传感器头接收的光,再次算出表示与各所述测量对象面之间的距离的值,且将再次算出的多个所述值中包含在重新设定后的所述第一数值范围内的第三值,作为所述相对位置发生变化后的位置上的到所述第一层的测量对象面的距离进行处理。7.根据权利要求5所述的位移测量装置,其特征在于,所述位移测量装置是通过使所述传感器头沿垂直于光轴的方向移动,而使所述相对位置变化。8.根据权利要求6所述的位移测量装置,其特征在于,所述控制部是以所述第一值成为重新设定...
【专利技术属性】
技术研发人员:近藤智则,铃木祐太,的场贤一,金谷义宏,
申请(专利权)人:欧姆龙株式会社,
类型:发明
国别省市:日本,JP
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