X射线双相位光栅相衬成像系统技术方案

本发明专利技术公开了一种X射线双相位光栅相衬成像系统，包括沿X射线发射方向依次设置的X射线管、源光栅G0、相位光栅和X射线探测器，所述相位光栅包括间隔设置第一相位光栅G1和第二相位光栅G′1，所述第一相位光栅G1、第二相位光栅G′1位于源光栅G0和X射线探测器之间，在第一相位光栅G1后形成自成像次级源G2；所述X射线管发出的X射线、源光栅G0与第一相位光栅G1组成一个泰伯劳系统；所述自成像次级源G2与第二相位光栅G′1组成逆泰伯劳系统。本发明专利技术的系统能够避免小周期、高深宽比的源光栅和大面积、小周期、高深宽比吸收光栅的使用，降低光栅相衬成像系统的实现难度。

【技术实现步骤摘要】
X射线双相位光栅相衬成像系统
本专利技术涉及相衬成像系统，尤其涉及一种X射线双相位光栅相衬成像系统。
技术介绍
国际上近20年众多X射线相位衬度成像技术的研究比较表明，基于泰伯劳干涉仪的相衬成像技术在摆脱对同步辐射源依赖的同时，能够提供包括吸收衬度、相位衬度和暗场像等多衬度机制的图像，反映物体的内在结构，是X射线成像技术的重大变革，在临床上对病变早期诊断，材料科学中聚合物的表征，产业和安全的无损检验等领域具有潜在的应用价值。2006年，F.Pfeiffer等人根据泰伯-劳原理修改泰伯干涉仪，提出利用普通X射线源和吸收光栅构成空间相干阵列X射线源。这既解决了部分相干光照明问题，又同时提高了光源亮度，是为X射线泰伯-劳干涉仪。它使该技术摆脱了对同步辐射源的依赖，有可能进入普通实验室甚至临床，成为这一领域的研究热点。现有的泰伯或泰伯-劳干涉仪获得以X射线相位梯度为衬度的图像。它所依赖的是干涉条纹切变量的测量。这些干涉条纹源自作为分束器的光栅(一般是相位光栅)的不同衍射束的相互干涉。当用平行光照明时，这些干涉条纹具有与分束光栅相同的周期(或一半，取决于光栅的性质)，即所谓“自成像”。锥束照明本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种X射线双相位光栅相衬成像系统，包括沿X射线发射方向依次设置的X射线管、源光栅G0、相位光栅和X射线探测器，其特征在于，所述相位光栅包括间隔设置第一相位光栅G1和第二相位光栅G′1，所述第一相位光栅G1、第二相位光栅G′1位于源光栅G0和X射线探测器之间，在第一相位光栅G1后形成自成像次级源G2；所述X射线管发出的X射线、源光栅G0与第一相位光栅G1组成一个泰伯劳系统；所述自成像次级源G2与第二相位光栅G′1组成逆泰伯劳系统。

【技术特征摘要】
1.一种X射线双相位光栅相衬成像系统，包括沿X射线发射方向依次设置的X射线管、源光栅G0、相位光栅和X射线探测器，其特征在于，所述相位光栅包括间隔设置第一相位光栅G1和第二相位光栅G′1，所述第一相位光栅G1、第二相位光栅G′1位于源光栅G0和X射线探测器之间，在第一相位光栅G1后形成自成像次级源G2；所述X射线管发出的X射线、源光栅G0与第一相位光栅G1组成一个泰伯劳系统；所述自成像次级源G2与第二相位光栅G′1组成逆泰伯劳系统。2.根据权利要求1所述的X射线双相位光栅相衬成像系统，其特征在于，所述第一相位光栅G1的位置与周期满足：使X射线经源光栅G0后传播到第一相位光栅G1处的相干长度不小于第一相位光栅G1的周期；所述第二相位光栅G′1的位置与周期满足：自成像次级源G2传播到第二相位光栅G′1处的相干长度不小于第二相位光栅G′1的周期。3.根据权利要求1所述的X射线双相位光栅相衬成像系统，其特征在于，所述自成像次级源G2位于所述第一相位光栅G1的泰伯距离处。4.根据权利要求1所述的X射线双相位光栅相衬成像系统，其特征在于，所述第一相位光栅G1和第二相位光栅G′1的周期相同；所述源光栅G0与第一相位光栅G1之间的间距R1、第二相位光栅G′1与其形成的自成像条纹G′2之间的间距R2′相等；或者所述第一相位光栅G1和第二相位...

【专利技术属性】
技术研发人员：李冀，雷耀虎，黄建衡，刘鑫，
申请(专利权)人：深圳大学，
类型：发明
国别省市：广东,44