真空面源辐射板及具有其的面源黑体辐射源装置制造方法及图纸

技术编号:20762142 阅读:36 留言:0更新日期:2019-04-03 13:44
本发明专利技术提供了一种真空面源辐射板及具有其的面源黑体辐射源装置,该真空面源辐射板的有效辐射口径大于1000mm×1000mm,真空面源辐射板包括:基体,基体包括多个微锥,多个微锥间隔设置在基体上,基体的材质包括紫铜;涂层,涂层设置在基体上,涂层用于提高基体的发射率。应用本发明专利技术的技术方案,以解决现有技术中黑体辐射源设备无法在满足真空低温条件下以及具有大辐射面积的前提下保持高的发射率的技术问题。

【技术实现步骤摘要】
真空面源辐射板及具有其的面源黑体辐射源装置
本专利技术涉及红外辐射测量与校准
,尤其涉及一种真空面源辐射板及具有其的面源黑体辐射源装置。
技术介绍
目前空间侦察系统、临近空间预警系统、外太空红外导引打击系统、星载红外遥感系统等空间红外成像载荷的应用越来越多,而这些空间应用的红外成像载荷在研制、生产、试验过程中,必须根据系统的工作环境,在地面真空低温环境中对这些系统中的红外成像载荷进行精确的辐射定标和性能测试,以取得精确的标定系数,准确掌握红外成像载荷的各项性能指标。各类空间红外成像载荷技术的发展对于作为定标设备的面源黑体辐射源的辐射面积、有效发射率、温度均匀性等性能指标有了更高的需求。空间红外成像载荷光学系统一般都具有长焦距、大口径的特点,在对这些红外成像载荷进行辐射定标和性能测试过程中,为了覆盖其口径,必然要求定标用的面源黑体具有超大的辐射面积。黑体辐射源的发射率是其主要指标之一,与理想黑体相比,定标黑体的发射率越接近于1,黑体的辐射性能越完备,用于测试校准时,校准的准确度和精度越高。黑体辐射源温度均匀性也是决定其性能优劣的因素之一,若实际黑体温度分布不均匀程度过大,则辐射出本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种真空面源辐射板,其特征在于,所述真空面源辐射板的有效辐射口径大于1000mm×1000mm,所述真空面源辐射板包括:基体(10),所述基体(10)包括多个微锥(11),多个所述微锥(11)间隔设置在所述基体(10)上,所述基体(10)的材质包括紫铜;涂层,所述涂层设置在所述基体(10)上,所述涂层用于提高所述基体(10)的发射率。

【技术特征摘要】
1.一种真空面源辐射板,其特征在于,所述真空面源辐射板的有效辐射口径大于1000mm×1000mm,所述真空面源辐射板包括:基体(10),所述基体(10)包括多个微锥(11),多个所述微锥(11)间隔设置在所述基体(10)上,所述基体(10)的材质包括紫铜;涂层,所述涂层设置在所述基体(10)上,所述涂层用于提高所述基体(10)的发射率。2.根据权利要求1所述的真空面源辐射板,其特征在于,每个所述微锥(11)的结构均为正四棱锥。3.根据权利要求2所述的真空面源辐射板,其特征在于,所述正四棱锥的高度为8mm,所述正四棱锥的相对的两个斜面间的夹角为30°。4.根据权利要求1所述的真空面源辐射板,其特征在于,所述涂层的发射率大于0.92,TML小于0.5%,CVCM小于0.01%。5.根据权利要求1所述的真空面源辐射板,其特征在于,所述基体(10)包括多个加热区域,多个所述...

【专利技术属性】
技术研发人员:宋春晖杨旺林魏建强曹清政王志
申请(专利权)人:北京振兴计量测试研究所
类型:发明
国别省市:北京,11

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