光学薄膜、偏振片及图像显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术的课题在于提供一种取向性高且倾斜方向的相位差的显现也良好的光学薄膜、使用了该光学薄膜的偏振片及图像显示装置。本发明专利技术的光学薄膜具有基材和相邻设置于基材上的相位差层，所述光学薄膜中，相位差层为将液晶性化合物的垂直取向进行固定而成的层，所述液晶性化合物包括在含有具有聚合性基团的液晶性化合物和高分子化合物的液晶组合物中，使用三维SP值算出的高分子化合物与基材的δa值之差为3以下，高分子化合物的含量相对于液晶性化合物100质量份为小于10质量份。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光学薄膜、偏振片及图像显示装置
本专利技术涉及一种光学薄膜、偏振片及图像显示装置。
技术介绍
通常，在液晶显示装置中使用相位差膜。作为相位差膜的制作方法，已知有在进行取向处理而在基材上形成取向膜(中间层)之后，制作相位差层膜。例如在专利文献1中记载有一种相位差膜，其至少依次具有支撑体、中间层及相位差层，所述相位差膜中，上述支撑体为规定的纤维素酰化物薄膜，上述中间层含有聚乙烯醇树脂或具有极性基团之丙烯酸树脂，上述相位差层为将液晶化合物的垂面取向状态进行了固定的层。另一方面，在专利文献2中记载有一种垂面取向液晶薄膜，其特征在于，作为不需要取向膜的垂面取向液晶薄膜，通过垂面取向液晶薄膜的制造方法而被制造，所述垂面取向液晶薄膜的制造方法包括在对表面进行了亲水性处理的塑料基材上直接涂覆包含表面活性剂、能够聚合且为反应性的液晶混合物溶液的阶段([权利要求1][权利要求10])。以往技术文献专利文献专利文献1：日本特开2013-235232号公报专利文献2：日本特表2008-523443号公报
技术实现思路
专利技术要解决的技术课题本专利技术人等经过对专利文献1及2中所记载的薄膜进行研究的结果，明确了在省略形成取向膜的操作和实施亲水化处理的操作而简化了制造工序的情况下，存在相位差层中的取向状态紊乱的问题和倾斜方向的相位差的显现变得不充分的问题。于是，本专利技术的课题在于提供一种即使在简化了制造工序的情况下，取向性高且倾斜方向的相位差的显现也良好的光学薄膜、使用了该光学薄膜的偏振片及图像显示装置。用于解决技术课题的手段本专利技术人等为了实现上述课题而进行了深入研究的结果，发现了如下情况并完成了本专利技术，即，在固定液晶性化合物的取向状态之前的液晶组合物中，配合特定量的在与基材的关系中满足规定的SP值的关系的高分子化合物，由此简化了制造工序，即使在该情况下，取向性也高且倾斜方向的相位差的显现也变得良好。即，发现了根据以下结构能够实现上述课题。[1]一种光学薄膜，其具有基材和相邻设置于基材上的相位差层，所述光学薄膜中，相位差层为将液晶性化合物的垂直取向进行固定而成的层，所述液晶性化合物包括在含有具有聚合性基团的液晶性化合物和高分子化合物的液晶组合物中，使用三维SP值算出的高分子化合物与基材的δa值之差为3以下，高分子化合物的含量相对于液晶性化合物100质量份为小于10质量份。[2]根据[1]所述的光学薄膜，其中，与相位差层中的与基材相反的一侧的表面相比，所述高分子化合物更多地存在于所述相位差层中的所述基材侧的表面。[3]根据[1]或[2]所述的光学薄膜，其中，高分子化合物具有亲水性基团。[4]根据[1]～[3]中任一项所述的光学薄膜，其中，高分子化合物不具有氟原子。[5]根据[1]～[4]中任一项所述的光学薄膜，其中，高分子化合物具有亲水性基团，液晶组合物含有鎓盐化合物。[6]根据[1]～[5]中任一项所述的光学薄膜，其中，高分子化合物具有亲水性基团，液晶组合物含有硼酸化合物。[7]根据[1]～[6]中任一项所述的光学薄膜，其中，使用三维SP值算出的基材的δa值为10以上。[8]根据[1]～[7]中任一项所述的光学薄膜，其中，使用三维SP值算出的高分子化合物的δa值为15～19。[9]根据[1]～[8]中任一项所述的光学薄膜，其中，高分子化合物具有由下述式(M)表示的介晶基团。-L-X-(A-Y)n-Z(M)其中，L表示碳原子数为1～8的连接基团；X及Y分别独立地表示单键、-O-、-C(O)O-、-OC(O)-、-OC(O)O-、-C(O)OCH2CH2-或-CH2CH2C(O)O-；A表示可以具有取代基的1,4-亚苯基、2,6-亚萘基或1,4-反式亚环己基；Z表示氢原子、碳原子数为1～8的烷基、碳原子数为1～8的烯基、卤素原子、氰基或-L1-P，L1表示碳原子数为1～8的连接基团，P表示聚合性基团；n表示2～5的整数；n为2以上的整数的情况下，多个A分别可以相同，也可以不同，多个Y分别可以相同，也可以不同。[10]根据[1]～[9]中任一项所述的光学薄膜，其中，高分子化合物为具有由下述式(I)表示的重复单元的聚合物。[化学式1]其中，式(I)中，R1表示氢原子或甲基，X表示-O-或-NH-，R2表示氢原子或有机基团。[11]根据[1]～[10]中任一项所述的光学薄膜，其中，使用三维SP值算出的基材的δa值为10以上，高分子化合物为具有使用三维SP值算出的δa值为13以上且小于18的重复单元的聚合物。[12]根据[1]～[10]中任一项所述的光学薄膜，其中，使用三维SP值算出的基材的δa值为5以上且小于10，高分子化合物为具有使用三维SP值算出的δa值为5以上且小于11的重复单元的聚合物。[13]一种偏振片，其具有[1]～[12]中任一项所述的光学薄膜。[14]根据[13]所述的偏振片，其还具有起偏器。[15]一种图像显示装置，其具有[1]～[12]中任一项所述的光学薄膜或[13]或[14]所述的偏振片。专利技术效果根据本专利技术，能够提供一种即使在简化了制造工序的情况下，取向性高且倾斜方向的相位差的显现也良好的光学薄膜、使用了该光学薄膜的偏振片及图像显示装置。附图说明图1是用于说明本专利技术的光学薄膜中的推定机理的示意性剖视图。具体实施方式以下，关于本专利技术详细地进行说明。以下记载的构成要件的说明是根据本专利技术的代表性实施方式而完成的，但本专利技术并不限定于这种实施方式。另外，在本说明书中，使用“～”表示的数值范围是指将记载于“～”前后的数值作为下限值及上限值而包含的范围。[光学薄膜]本专利技术的光学薄膜为具有基材和相邻设置于基材上的相位差层的光学薄膜。并且，本专利技术的光学薄膜中，相位差层为将液晶性化合物的垂直取向进行固定而成的层，所述液晶性化合物包括在含有具有聚合性基团的液晶性化合物和高分子化合物的液晶组合物中。并且，本专利技术的光学薄膜中，使用三维SP值算出的高分子化合物与基材的δa值之差为3以下。并且，本专利技术的光学薄膜中，高分子化合物的含量相对于液晶性化合物100质量份为小于10质量份。＜δa值＞本说明书中，δa值是指通过Hoy等人的方法算出的SP值(参考VANKREVELEN，D.W.编著，“PROPERTIESOFPOLYMERS(ED.3)”ELSEVIER出版(1990))的非分散力成分。即，δa值能够使用通过Hoy等人的方法算出的三维SP值(δd、δp、δh)，并通过下述式(X)算出。δa＝(δp2+δh2)0.5式(X)根据Hoy等人的方法，能够通过欲求出的化合物的化学结构式算出δd、δp、δh各个值。另外，在由多个重复单元构成的共聚物的情况下，对各重复单元的三维SP值的平方值(δd2、δp2、δh2)乘以各重复单元的体积分数并求和，由此算出共聚物的三维SP值的平方值(δd2、δp2、δh2)，通过将该平方值代入上述式(X)而能够求出共聚物的δa值。本专利技术中，如上所述，在固定液晶性化合物的取向状态之前的液晶组合物中，以相对于液晶性化合物100质量份为小于10质量份的比例，配合与基材的δa值之差为3以内的高分子化合物，由此，即使在简化了制造工序的情况下，取向性高且倾斜方向的相位差的显现也变得良好。其详细内容尚不明确，但本专利技术人等如下进行推测。首先本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光学薄膜，其具有基材和相邻设置于所述基材上的相位差层，其中，所述相位差层为将含有具有聚合性基团的液晶性化合物和高分子化合物的液晶组合物中所含的所述液晶性化合物的垂直取向进行固定而成的层，使用三维SP值算出的所述高分子化合物与所述基材的δa值之差为3以下，所述高分子化合物的含量相对于所述液晶性化合物100质量份为小于10质量份。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.08.12 JP 2016-1584191.一种光学薄膜，其具有基材和相邻设置于所述基材上的相位差层，其中，所述相位差层为将含有具有聚合性基团的液晶性化合物和高分子化合物的液晶组合物中所含的所述液晶性化合物的垂直取向进行固定而成的层，使用三维SP值算出的所述高分子化合物与所述基材的δa值之差为3以下，所述高分子化合物的含量相对于所述液晶性化合物100质量份为小于10质量份。2.根据权利要求1所述的光学薄膜，其中，与所述相位差层中的与所述基材相反的一侧的表面相比，所述高分子化合物更多地存在于所述相位差层中的所述基材侧的表面。3.根据权利要求1或2所述的光学薄膜，其中，所述高分子化合物具有亲水性基团。4.根据权利要求1至3中任一项所述的光学薄膜，其中，所述高分子化合物不具有氟原子。5.根据权利要求1至4中任一项所述的光学薄膜，其中，所述高分子化合物具有亲水性基团，所述液晶组合物含有鎓盐化合物。6.根据权利要求1至5中任一项所述的光学薄膜，其中，所述高分子化合物具有亲水性基团，所述液晶组合物含有硼酸化合物。7.根据权利要求1至6中任一项所述的光学薄膜，其中，使用三维SP值算出的所述基材的δa值为10以上。8.根据权利要求1至7中任一项所述的光学薄膜，其中，使用三维SP值算出的所述高分子化合物的δa值为15～19。9.根据权利要求1至8中任一项所述的光学薄膜，其中，所述高分子化合物具有由下述式(M)表示的介晶基团，-L-X-(A-Y)n-Z(M)其中...

【专利技术属性】
技术研发人员：加藤峻也，饭岛晃治，市桥光芳，吉川将，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP