压印材料制造技术

本发明专利技术提供一种新的压印材料，含有下述(A)成分、(B)成分和(C)成分，(A)：下述式(1)所示的化合物(式中，2个R分别独立地表示氢原子或甲基)，(B)：具有碳原子数为6～10的直链亚烷基和/或选自环戊烷结构、环己烷结构、降冰片烷结构、异冰片结构和金刚烷结构中的脂环结构、以及至少1个聚合性基的化合物，(C)：光聚合引发剂。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】压印材料
本专利技术涉及压印材料(压印用膜形成组合物)和由该材料制作的、被转印了图案的膜。更具体地说，涉及由该材料制作、即使是厚膜的状态也保持高透明性、具有高折射率并且高阿贝数的被转印了图案的膜。本说明书中“厚膜”表示厚度为0.01mm～1.5mm的膜。
技术介绍
1995年、现普林斯顿大学的チョウ教授提出了纳米压印的新技术(专利文献1)。纳米压印，是使具有任意图案的模具与形成有树脂膜的基材接触，对该树脂膜加压，同时作为外部刺激使用热或光，形成目标图案被固化的该树脂膜的技术。该纳米压印，以以往的半导体器件制造中的光刻等相比，具有能够方便且便宜地进行纳米级别加工的优点。因此，期待纳米压印能够取代光刻技术用于半导体器件、光学器件、显示器、存储介质、生物芯片等的制造中，所以关于纳米压印中使用的光纳米压印用固化性组合物有各种报导(专利文献2、专利文献3)。此外，光纳米压印中，作为以高效率大量生产被转印了图案的膜的方法，提出了辊对辊方式。过去在光纳米压印提出的辊对辊方式中，使用柔性膜作为基材，作为纳米压印中使用的材料(下文中，本说明书中简称为「压印材料」。)，为了不使图案尺寸容易变化，使用不添加溶剂的无溶剂型材料的方法成为主流。现有技术文献专利文献专利文献1:美国专利第5772905号说明书专利文献2:日本特开2008-105414号公报专利文献3:日本特开2008-202022号公报
技术实现思路
专利技术要解决的课题如前所述，在过去提出的压印材料中使用无溶剂型材料，但对于在以厚膜进行光压印后、在可见光区域中具有高透明性，具有高折射率并且高阿贝数的材料尚没有具体的研究和报告。本专利技术鉴于前述的现状而完成，其要解决的课题是，提供在以厚膜进行的光压印后、在可见光区域中具有高透明性，具有高折射率并且高阿贝数的压印材料。解决课题的手段本专利技术人为了解决上述课题进行了深入研究，结果发现，通过使用含有以下成分的材料作为压印材料，获得以下认识，从而完成本专利技术成。即、本专利技术的压印材料、即使是在以厚膜进行的光压印后，也在可见光区域中具有高透明性，具有高折射率并且高阿贝数。所述成分是：具有1,3-二氧杂环己烷并且两末端有聚合性基的化合物、具有碳原子数6～10的直链亚烷基和/或选自环戊烷结构、环己烷结构、降冰片烷结构、异冰片结构和金刚烷结构中的脂环结构以及至少1个聚合性基的化合物、和光聚合引发剂。即本专利技术，作为观点1是一种压印材料，含有下述(A)成分、(B)成分和(C)成分，(A)：下述式(1)所示的化合物，式中，2个R分别独立地表示氢原子或甲基，(B)：具有碳原子数为6～10的直链亚烷基和/或选自环戊烷结构、环己烷结构、降冰片烷结构、异冰片结构和金刚烷结构中的脂环结构、以及至少1个聚合性基的化合物，(C)：光聚合引发剂。作为观点2，是如观点1所述的压印材料，所述聚合性基是丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基、乙烯基或烯丙基。作为观点3，是如观点1或2所述的压印材料，所述聚合性基的个数为1个或2个。作为观点4，是如观点1～3的任一项所述的压印材料，相对于(A)成分和(B)成分的总质量100质量％，该(A)成分的比例为10～90质量％。作为观点5，是如观点1～4的任一项所述的压印材料，还含有具有至少1个巯基的化合物作为(D)成分。作为观点6，是如观点1～5的任一项所述的压印材料，还含有抗氧化剂作为(E)成分。作为观点7，是如观点1～6的任一项所述的压印材料，还含有表面活性剂作为(F)成分。作为观点8，是如观点1～7的任一项所述的压印材料，还含有溶剂作为(G)成分。作为观点9，是一种被转印了图案的膜，使用观点1～8的任一项所述的压印材料而制作。作为观点10，是如观点9所述的被转印了图案的膜，所述图案是透镜形状。作为观点11，是如观点9或10所述的被转印了图案的膜，所述被转印了图案的膜是照相机模块用透镜。作为观点12，是如观点9～11的任一项所述的被转印了图案的膜，所述被转印了图案的膜的最大膜厚是1.5mm。作为观点13，是一种被转印了图案的膜的制作方法，含有：将观点1～8的任一项所述的压印材料填充到彼此接触的基材和模具之间的空间、或能够拆分的模具的内部空间的工序，以及将填充在该空间内的压印材料曝光而光固化的工序。作为观点14，是如观点13所述的被转印了图案的膜的制作方法，包含：在所述光固化的工序后，将得到的光固化物取出而脱模的工序，以及将该光固化物在该脱模的工序之前、中途或之后进行加热的工序。专利技术效果本专利技术的压印材料通过含有所述式(1)所示的化合物、以及具有碳原子数6～10的直链亚烷基和/或选自环戊烷结构、环己烷结构、降冰片烷结构、异冰片结构和金刚烷结构中的脂环结构以及至少1个聚合性基的化合物，由该压印材料制作的固化膜，即使是厚膜，可见光区域中也具有高透明性，具有高折射率并且高阿贝数。此外，本专利技术的压印材料能够光固化，并且由于在从模具的剥离时不发生部分图案剥离，所以能够得到准确形成所希望图案的膜。因此，能够形成良好光压印的图案。此外，本专利技术的压印材料，能够在任意的基材上制膜，该膜即使是厚膜在可见光区域中也具有高透明性，具有高折射率并且高阿贝数。因此，压印后形成的被转印了图案的膜，能够很好地用于固体成像元件、照相机模块用透镜、传感器用透镜等要求高透明性、高折射率和高阿贝数的光学部件的制造。在此，作为所述透镜，可以列举出例如凹透镜、凸透镜、非球面透镜、球面透镜、菲涅尔透镜、线性菲涅尔透镜、曲面上具有微细凹凸形状(反射防止结构)的透镜。本说明书中，将前述凹透镜、凸透镜、非球面透镜、球面透镜、菲涅尔透镜、线性菲涅尔透镜、和曲面上具有微细凹凸形状(反射防止结构)的透镜中的、透镜的曲面的形状称作透镜形状。进而，本专利技术的压印材料，通过改变作为前述(B)成分的化合物的种类和含有比例，能够控制固化速度、动态粘度、膜厚。所以，本专利技术的压印材料能够按照要制造的器件种类和曝光工艺和烧成工艺的种类来设计相应材料，能够扩大工艺裕量，所以能够很好地用于光学零件的制造。具体实施方式[(A)成分](A)成分的化合物是下述式(1)所示的化合物。(式中，2个R分别独立地表示氢原子或甲基。)作为前述式(1)所示的化合物的具体例子，可以列举出二氧杂环己烷二醇二丙烯酸酯、二氧杂环己烷二醇二甲基丙烯酸酯。前述式(1)所示的化合物，可以作为市售品获得，作为其具体例子可以列举出NKエステルA-DOG(新中村化学工业株式会社制)。前述作为(A)成分的化合物，可以1种单独使用或2种以上组合使用。本专利技术的压印材料中的前述(A)成分的含有比例，优选相对于前述(A)成分和后述(B)成分的总质量100质量％为10质量％以上且90质量％以下，更优选为40质量％以上且60质量％以下。(A)成分的比例小于10质量％或者大于90质量％时，有时在光压印后通过加热得到的膜的透明性降低。[(B)成分]作为(B)成分的化合物是具有碳原子数6～10的直链亚烷基和/或选自环戊烷结构、环己烷结构、降冰片烷结构、异冰片结构和金刚烷结构中的脂环结构、以及至少1个聚合性基的化合物。所述碳原子数6～10的直链亚烷基表示(-CH2CH2CH2CH2CH2CH2-)、(-CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2-)、(-CH2CH2CH2本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种压印材料，含有下述(A)成分、(B)成分和(C)成分，(A)：下述式(1)所示的化合物，

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.08.10 JP 2016-1573211.一种压印材料，含有下述(A)成分、(B)成分和(C)成分，(A)：下述式(1)所示的化合物，式中，2个R分别独立地表示氢原子或甲基，(B)：具有碳原子数为6～10的直链亚烷基和/或选自环戊烷结构、环己烷结构、降冰片烷结构、异冰片结构和金刚烷结构中的脂环结构、以及至少1个聚合性基的化合物，(C)：光聚合引发剂。2.如权利要求1所述的压印材料，所述聚合性基是丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基、乙烯基或烯丙基。3.如权利要求1或2所述的压印材料，所述聚合性基的个数为1个或2个。4.如权利要求1～3的任一项所述的压印材料，相对于(A)成分和(B)成分的总质量100质量％，该(A)成分的比例为10～90质量％。5.如权利要求1～4的任一项所述的压印材料，还含有具有至少1个巯基的化合物作为(D)成分。6.如权利要求1～5的任一项所述的压印材料，还含有抗氧化剂作为(E...

【专利技术属性】
技术研发人员：小林淳平，DA·樱叶汀，长泽伟大，首藤圭介，加藤拓，铃木正睦，
申请(专利权)人：日产化学株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP