一种光学元件像差检测装置及系统制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供了一种光学元件像差检测装置及系统，用于解决光学元件的像差状态的有效测试的问题。所述装置包括：光源发射器、调制组件以及光斑检测分析仪，所述调制组件包括待测光学元件，所述光源发射器，用于发射无像差的平行光；所述调制组件，用于接收所述无像差的平行光，并将所述无像差的平行光通过所述待测光学元件后得到的有像差光聚焦到所述光斑检测分析仪；所述光斑检测分析仪，用于接收所述调制组件聚焦的有像差光，并根据所述有像差光聚焦产生的光斑信息得到所述待测光学元件的像差。

【技术实现步骤摘要】
一种光学元件像差检测装置及系统
本技术涉及光学检测
，具体为一种光学元件像差检测装置及系统。
技术介绍
激光加工是利用激光经过聚焦后在焦点上达到很高的能量密度，广泛应用于材料的加工，如打孔、切割、划片、焊接、热处理等，而激光加工系统中各个光学元件，包括聚焦镜、扩束镜、振镜及场镜等常用的光学元件，其存在的像差对激光加工的工艺效果及加工效率随着激光加工产生较大的影响，而现有的激光加工系统中并没有单独针对光学元件的像差进行检测。
技术实现思路
有鉴于此，本技术的目的在于提供一种光学元件像差检测装置及系统，以解决现有技术难以测试光学元件的像差状态的问题。为了解决上述技术问题，本技术提供了以下技术方案：第一方面：本申请提供一种光学元件像差检测装置，所述装置包括：光源发射器、调制组件以及光斑检测分析仪，所述调制组件包括待测光学元件，所述光源发射器，用于发射无像差的平行光；所述调制组件，用于接收所述无像差的平行光，并将所述无像差的平行光通过所述待测光学元件后得到的有像差光聚焦到所述光斑检测分析仪；所述光斑检测分析仪，用于接收所述调制组件聚焦的有像差光，并根据所述有像差光聚焦产生的光斑信息得到所述待测光学元件的像差。上述方案设计的光学元件像差检测装置，通过光斑检测分析仪对通过待测光学元件后形成的有像差光进行聚焦光斑检测分析，有效的解决了光学元件像差检测问题，使得能够有效地测试待测光学元件的像差，有力的提升激光加工系统中的光学元件的光学性能一致性，同时也可以用于激光加工系统中新的光学元件性能评估，从源头上提高激光加工系统的稳定性、一致性和精细化。在第一方面的可选实施方式中，所述待测光学元件包括具有聚焦特征的光学元件，所述具有聚焦特征的光学元件，用于接收所述光源发射器发射的无像差的平行光，并将所述无像差的平行光通过所述具有聚焦特征的光学元件后产生的有像差光聚焦到所述光斑检测分析仪。上述方案设计的光学元件像差检测装置，使得具有聚焦特征的光学元件的像差能够进行检测，使得带有聚焦特征的光学元件的加工系统具有光学性能的一致性，同时也可以对新的具有聚焦特征的光学元件进行性能评估，判断其像差是否在合理范围内。在第一方面的可选实施方式中，所述调制组件还包括聚焦镜，所述待测光学元件包括无聚焦特征的光学元件，所述无聚焦特征的光学元件，用于接收所述光源发射器发射的无像差的平行光，并将所述无像差的平行光通过所述无聚焦特征的光学元件后产生的有像差光传输给所述聚焦镜；所述聚焦镜，用于接收所述有像差光，并将所述有像差光聚焦到所述光斑检测仪。上述方案设计的光学元件像差检测装置，使得无聚焦特征的光学元件也能检测其像差状态，使得检测的元件不只是检测具有聚焦特征的，检测元件的范围更加广泛，通用性更强。在第一方面的可选实施方式中，所述调制组件还包括反射镜，所述待测光学元件包括具有扫描聚焦特征的光学元件，所述反射镜，用于接收所述光源发射器发射的无像差的平行光，并将所述无像差的平行光反射传输给所述具有扫描聚焦特征的光学元件；所述具有扫描聚焦特征的光学元件，接收所述反射镜反射的无像差的平行光，并将所述无像差的平行光通过所述具有聚焦特征的光学元件后产生的有像差光聚焦到所述光斑检测分析仪。在第一方面的可选实施方式中，所述具有扫描聚焦特征的光学元件包括场镜或振镜。在第一方面的可选实施方式中，所述光源发射器包括激光光源、光纤以及准直镜，所述激光光源，用于产生激光，并将所述激光发射给所述光纤；所述光纤，用于接收所述激光光源发射的激光，并将所述激光传输给所述准直镜；所述准直镜，用于接收所述光纤传输的激光，并将所述激光准直成无像差的平行光，并将所述无像差的平行光传输给所述调制组件。上述方案设计的光学元件像差检测装置，使得在进入待测光学元件之前，形成无像差的平行光，使得检测更加准确。在第一方面的可选实施方式中，所述光源发射器还包括光纤固定器，所述光纤固定器，用于固定所述光纤的两端，使得光纤能够准确接收所述激光光源发射的激光，并能够准确的将所述激光传输给所述准直镜。上述方案设计的光学元件像差检测装置，使得光纤能够准确的将激光接收和传输。在第一方面的可选实施方式中，所述激光光源包括可切换波长的激光光源。在第一方面的可选实施方式中，所述光斑检测分析仪设置在精密三维调节架上。上述方案设计的光学元件像差检测装置，使得聚焦的光斑信息能够更加准确的被光斑检测分析仪捕捉、检测，最终获得检测的像差更加准确。第二方面：本技术还提供一种光学元件像差检测系统，包括如第一方面所述的光学元件像差检测装置的全部技术特征。上述方案设计的光学元件像差检测系统，通过光斑检测分析仪对通过待测光学元件后形成的有像差光进行聚焦光斑检测分析，有效的解决了光学元件像差检测问题，使得能够有效地测试待测光学元件的像差，有力的提升激光加工系统中的光学元件的光学性能一致性，同时也可以用于激光加工系统中新的光学元件性能评估，从源头上提高激光加工系统的稳定性、一致性和精细化。本技术提供了一种光学元件像差检测装置及系统，具备以下有益效果：本技术通过光斑检测分析仪对通过待测光学元件后形成的有像差光进行聚焦光斑检测分析，有效的解决了光学元件像差检测问题，使得能够有效地测试待测光学元件的像差，有力的提升激光加工系统中的光学元件的光学性能一致性，同时也可以用于激光加工系统中新的光学元件性能评估，从源头上提高激光加工系统的稳定性、一致性和精细化。附图说明为了更清楚地说明本技术实施方式的技术方案，下面将对实施方式中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本技术的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。图1是本技术第一实施例提供的光学元件像差检测装置第一示意图；图2是本技术第一实施例提供的光学元件像差检测装置第二示意图；图3是本技术第一实施例提供的光学元件像差检测装置第三示意图；图4是本技术第一实施例提供的光学元件像差检测装置第四示意图；图5是本技术第一实施例提供的光学元件像差检测装置第五示意图。图标：10-光源发射器；101-激光光源；102-光纤；103-准直镜；104-光纤固定器；20-调制组件；201-待测光学元件；202-聚焦镜；203-反射镜；2011-具有聚焦特征的光学元件；2012-无聚焦特征的光学元件；2013-具有扫描聚焦特征的光学元件；30-光斑检测分析仪。具体实施方式为使本技术实施方式的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本技术实施方式中的附图，对本技术实施方式中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施方式是本技术一部分实施方式，而不是全部的实施方式。基于本技术中的实施方式，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施方式，都属于本技术保护的范围。因此，以下对在附图中提供的本技术的实施方式的详细描述并非旨在限制要求保护的本技术的范围，而是仅仅表示本技术的选定实施方式。基于本技术中的实施方式，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施方式，都属于本技术本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光学元件像差检测装置，其特征在于，所述装置包括：光源发射器、调制组件以及光斑检测分析仪，所述调制组件包括待测光学元件，所述光源发射器，用于发射无像差的平行光；所述调制组件，用于接收所述无像差的平行光，并将所述无像差的平行光通过所述待测光学元件后得到的有像差光聚焦到所述光斑检测分析仪；所述光斑检测分析仪，用于接收所述调制组件聚焦的有像差光，并根据所述有像差光聚焦产生的光斑信息得到所述待测光学元件的像差。

【技术特征摘要】
1.一种光学元件像差检测装置，其特征在于，所述装置包括：光源发射器、调制组件以及光斑检测分析仪，所述调制组件包括待测光学元件，所述光源发射器，用于发射无像差的平行光；所述调制组件，用于接收所述无像差的平行光，并将所述无像差的平行光通过所述待测光学元件后得到的有像差光聚焦到所述光斑检测分析仪；所述光斑检测分析仪，用于接收所述调制组件聚焦的有像差光，并根据所述有像差光聚焦产生的光斑信息得到所述待测光学元件的像差。2.根据权利要求1所述装置，其特征在于，所述待测光学元件包括具有聚焦特征的光学元件，所述具有聚焦特征的光学元件，用于接收所述光源发射器发射的无像差的平行光，并将所述无像差的平行光通过所述具有聚焦特征的光学元件后产生的有像差光聚焦到所述光斑检测分析仪。3.根据权利要求1所述装置，其特征在于，所述调制组件还包括聚焦镜，所述待测光学元件包括无聚焦特征的光学元件，所述无聚焦特征的光学元件，用于接收所述光源发射器发射的无像差的平行光，并将所述无像差的平行光通过所述无聚焦特征的光学元件后产生的有像差光传输给所述聚焦镜；所述聚焦镜，用于接收所述有像差光，并将所述有像差光聚焦到所述光斑检测分析仪。4.根据权利要求1所述装置，其特征在于，所述调制组件还包括反射镜，所述待测光学元件包括具有扫描聚焦特征的光学元件，所述反射镜，用于接收所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：王雪辉，王建刚，雷桂明，温彬，许维，马云峰，
申请(专利权)人：武汉华工激光工程有限责任公司，
类型：新型
国别省市：湖北,42