提高进入到地下地带能力的方法和系统技术方案

一种用来提高从地表进入地下地带的能力的系统包括具有一第一井孔（１０４）的井孔图形（１００），第一井孔从地表井孔延伸，基本上形成一在地下地带内的区域的第一端至区域的远端。图形还包括多个从第一井孔向外延伸的侧向井孔（１１０）。从一侧向井孔的一端到地表井孔的距离，对于各侧向井孔可构造成基本上相等，以便于形成侧向井孔。该系统和方法还可包括在地下地带内嵌套两个或多个井孔图形，以提供对地带的均匀覆盖。因此，系统和方法可包括在公共的地表井孔内连通的多个井孔图形，以减小进入到地下地带所要求的地表面积。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种地下井孔图形，其用来从地表进入到地下地带的一个区域，包括：一第一井孔，其从一基本上形成地下地带内的区域的第一端的地表井孔延伸到区域的远端；以及多个侧向井孔，其从第一井孔向外延伸，其中，从侧向井孔的一端到地表井孔的距离基本 上等于各个侧向井孔。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：JA祖潘尼克，
申请(专利权)人：CDX天然气有限公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]