剥离层形成用组合物制造技术

本发明专利技术提供剥离层形成用组合物，其包含作为二胺成分与四羧酸二酐成分的反应物的聚酰胺酸和有机溶剂，上述二胺成分包含2,2'‑双(三氟甲基)‑4,4'‑二氨基联苯，上述四羧酸二酐成分包含由式(B1)或(B2)表示的芳族四羧酸二酐。

Composition for peeling layer formation

The invention provides a composition for peeling layer formation, which comprises polyamic acid and organic solvent as a reactant between diamine component and tetracarboxylic dianhydride component. The diamine component comprises 2,2'bis (trifluoromethyl) 4,4' diaminobiphenyl. The tetracarboxylic dianhydride component comprises aromatic tetracarboxylic dianhydride expressed by formula (B1) or (B2).

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】剥离层形成用组合物
本专利技术涉及剥离层形成用组合物，详细地说，涉及用于形成在基体上设置的剥离层的剥离层形成用组合物。
技术介绍
近年来，对于电子器件，除了需要薄型化和轻质化这样的特性以外，还需要赋予能够弯曲这样的功能。由此出发，要求替代以往的重、脆弱、不能弯曲的玻璃基板而使用轻质的柔性塑料基板。特别地，对于新一代显示器而言，要求开发使用了轻质的柔性塑料基板(以下表记为树脂基板)的有源矩阵型全色TFT显示器面板。期待着将与该新一代显示器有关的技术转用于柔性显示器、柔性智能手机、镜面显示器等各种领域。因此，开始研究各种以树脂膜作为基板的电子器件的制造方法，对于新一代显示器而言，在进行可转用现有的TFT显示器面板制造用的设备的工艺的研究。另外，在触摸面板式显示器中，在研究用于有效率地制造在显示器面板中组合使用的触摸面板的透明电极用的树脂基板等的对策。一般地，触摸面板中所使用的树脂基板与TFT显示器面板等同样地使用了具有与玻璃同等程度的透明性的聚酰亚胺树脂基板、丙烯酸系树脂基板、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)树脂基板、环烯烃树脂基板等的膜基板。例如，在专利文献1、2和3中公开了如下的方法：在玻璃基板上形成无定形硅薄膜层，在该薄膜层上形成了塑料基板后，从玻璃面侧照射激光，利用随着无定形硅的结晶化而产生的氢气将塑料基板从玻璃基板剥离。另外，在专利文献4中公开了如下的方法：使用专利文献1～3中公开的技术将被剥离层(专利文献4中记载为“被转印层”)粘贴于塑料膜，完成液晶显示装置。但是，在专利文献1～4中公开的方法、特别是专利文献4中公开的方法中，存在如下问题：为了使激光透过，必须使用透光性高的基板；需要足以使其通过基板、进而使无定形硅中所含的氢放出的比较大的能量的激光的照射；通过激光的照射，有时对被剥离层造成损伤。并且，在被剥离层为大面积的情况下，激光处理需要长时间，因此难以提高器件制作的生产率。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开平10-125929号公报专利文献2：日本特开平10-125931号公报专利文献3：国际公开第2005/050754号专利文献4：日本特开平10-125930号公报
技术实现思路
专利技术要解决的课题本专利技术鉴于上述实际情况而完成，目的在于提供给予剥离层的剥离层形成用组合物，该剥离层可以在不损伤柔性电子器件的树脂基板、特别是使用聚酰亚胺树脂、丙烯酸系树脂、环烯烃聚合物树脂等形成的树脂基板的情况下剥离。用于解决课题的手段本专利技术人为了解决上述课题反复认真研究，结果发现：含有作为包含2,2’-双(三氟甲基)-4,4’-二氨基联苯的二胺成分与包含特定的芳族四羧酸二酐的四羧酸二酐成分的反应物的聚酰胺酸和有机溶剂的组合物给予具有与基体的优异的密合性以及与作为柔性电子器件使用的树脂基板的适度的密合性和适度的剥离性的剥离层，完成了本专利技术。即，本专利技术提供：1.剥离层形成用组合物，其特征在于，包含作为二胺成分与四羧酸二酐成分的反应物的聚酰胺酸和有机溶剂，所述二胺成分包含2,2’-双(三氟甲基)-4,4’-二氨基联苯，所述四羧酸二酐成分包含由式(B1)或(B2)表示的芳族四羧酸二酐，[化1]2.1所述的剥离层形成用组合物，其包含全部二胺中的70摩尔％以上的2,2’-双(三氟甲基)-4,4’-二氨基联苯、全部四羧酸二酐中的70摩尔％以上的由式(B1)或(B2)表示的芳族四羧酸二酐，3.2所述的剥离层形成用组合物，其包含全部二胺中的100摩尔％的2,2’-双(三氟甲基)-4,4’-二氨基联苯和全部四羧酸二酐中的100摩尔％的由式(B1)或(B2)表示的芳族四羧酸二酐，4.1～3中任一项所述的剥离层形成用组合物，其中，所述有机溶剂包含选自由式(S1)表示的酰胺类、由式(S2)表示的酰胺类和由式(S3)表示的酰胺类中的至少1种，[化2](式中，R1和R2相互独立地表示碳原子数1～10的烷基。R3表示氢原子或碳原子数1～10的烷基。h表示自然数。)5.使用1～4中任一项所述的剥离层形成用组合物形成的剥离层，6.具备树脂基板的柔性电子器件的制造方法，其特征在于，使用5所述的剥离层，7.具备树脂基板的触摸面板传感器的制造方法，其特征在于，使用5所述的剥离层，8.6或7所述的制造方法，其中，所述树脂基板是聚酰亚胺树脂基板或波长400nm的透光率为80％以上的树脂基板。专利技术的效果通过使用本专利技术的剥离层形成用组合物，从而能够再现性良好地得到具有与基体的优异的密合性和与树脂基板的适度的密合性和适度的剥离性的膜。通过使用本专利技术的组合物，在柔性电子器件的制造工艺中，不会对在基体上形成了的树脂基板、进而在其上设置的电路等造成损伤，可将该树脂基板与该电路等一起从该基体分离。因此，本专利技术的剥离层形成用组合物可有助于具备树脂基板的柔性电子器件的制造工艺的简便化、其收率的提高等。具体实施方式以下对本专利技术更详细地说明。本专利技术的剥离层形成用组合物含有：作为包含2,2’-双(三氟甲基)-4,4’-二氨基联苯的二胺成分与包含特定的芳族四羧酸二酐的四羧酸二酐成分的反应物的聚酰胺酸、和有机溶剂。其中，本专利技术中的剥离层是出于规定的目的而在玻璃基体正上方设置的层，作为其典型例，可列举出在柔性电子器件的制造工艺中为了在基体与由聚酰亚胺树脂、丙烯酸系树脂、环烯烃聚合物树脂等形成的柔性电子器件的树脂基板之间将该树脂基板在规定的工艺中固定而设置、并且在该树脂基板上形成了电子电路等后为了使得该树脂基板能够从该基体容易地剥离而设置的剥离层。[二胺成分]本专利技术中，在组合物中所含的聚酰胺酸中，使用2,2’-双(三氟甲基)-4,4’-二氨基联苯作为二胺成分。另外，作为二胺成分，能够与上述2,2’-双(三氟甲基)-4,4’-二氨基联苯一起使用其以外的二胺。作为这样的二胺，脂肪族二胺、芳族二胺均可，从确保得到的薄膜的强度和耐热性的观点出发，优选不具有酯键和醚键任一者的芳族二胺。作为其具体例，可列举出1,4-二氨基苯(对苯二胺)、1,3-二氨基苯(间苯二胺)、1,2-二氨基苯(邻苯二胺)、2,4-二氨基甲苯、2,5-二氨基甲苯、2,6-二氨基甲苯、4,6-二甲基间苯二胺、2,5-二甲基对苯二胺、2,6-二甲基对苯二胺、2,4,6-三甲基-1,3-苯二胺、2,3,5,6-四甲基对苯二胺、间苯二甲胺、对苯二甲胺、5-三氟甲基苯-1,3-二胺、5-三氟甲基苯-1,2-二胺、3,5-双(三氟甲基)苯-1,2-二胺等含有1个苯环的二胺；1,2-萘二胺、1,3-萘二胺、1,4-萘二胺、1,5-萘二胺、1,6-萘二胺、1,7-萘二胺、1,8-萘二胺、2,3-萘二胺、2,6-萘二胺、4,4’-联苯二胺、3,3’-二甲基-4,4’-二氨基二苯基甲烷、3,3’-二羧基-4,4’-二氨基二苯基甲烷、3,3’,5,5’-四甲基-4,4’-二氨基二苯基甲烷、4,4’-二氨基苯甲酰苯胺、3,3’-二氯联苯胺、3,3’-二甲基联苯胺、2,2’-二甲基联苯胺、3,3’-二氨基二苯基甲烷、3,4’-二氨基二苯基甲烷、4,4’-二氨基二苯基甲烷、2,2-双(3-氨基苯基)丙烷、2,2-双(4-氨基苯基)丙烷、2,2-双(3-氨基苯基)-1,1,1,3,3,3-六氟丙烷、2,2-双(4-氨基苯基)-1,1,1,3,3本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.剥离层形成用组合物，其特征在于，包含作为二胺成分与四羧酸二酐成分的反应物的聚酰胺酸和有机溶剂，所述二胺成分包含2,2’‑双(三氟甲基)‑4,4’‑二氨基联苯，所述四羧酸二酐成分包含由式(B1)或(B2)表示的芳族四羧酸二酐，[化1]

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.08.03 JP 2016-1525381.剥离层形成用组合物，其特征在于，包含作为二胺成分与四羧酸二酐成分的反应物的聚酰胺酸和有机溶剂，所述二胺成分包含2,2’-双(三氟甲基)-4,4’-二氨基联苯，所述四羧酸二酐成分包含由式(B1)或(B2)表示的芳族四羧酸二酐，[化1]2.根据权利要求1所述的剥离层形成用组合物，其包含全部二胺中的70摩尔％以上的2,2’-双(三氟甲基)-4,4’-二氨基联苯、全部四羧酸二酐中的70摩尔％以上的由式(B1)或(B2)表示的芳族四羧酸二酐。3.根据权利要求2所述的剥离层形成用组合物，其包含全部二胺中的100摩尔％的2,2’-双(三氟甲基)-4,4’-二氨基联苯和全部四羧酸二酐中的100摩尔...

【专利技术属性】
技术研发人员：进藤和也，江原和也，
申请(专利权)人：日产化学株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP