掩膜板制造技术

本实用新型专利技术涉及一种掩膜板，包括掩膜板主体，掩膜板主体具有第一中心线与第二中心线，第一中心线与第二中心线垂直；开设于掩膜板主体上的两组蒸镀区，每组蒸镀区包括至少一个蒸镀区，每个蒸镀区开设有凹陷部，每相邻两个蒸镀区之间具有间距，两组蒸镀区关于第一中心线轴对称，且两组蒸镀区关于第二中心线轴对称。两组蒸镀区关于第一中心线与第二中心线均轴对称设置，则位于第一中心线与第二中心线两侧的凹陷部数量相同，则此时掩膜板主体在张网时第一中心线与第二中心线两侧受力均匀，降低了与凹陷部配合的遮挡部位置的褶皱，张网精度提高，从而也使得后续显示屏像素蒸镀位置精度较高，且也提高了后续显示屏的开口区(即异形区)的显示效果。

mask

The utility model relates to a mask plate, which comprises a main body of the mask plate, the main body of which has a first central line and a second central line, and the first central line is perpendicular to the second central line; two groups of evaporation plating areas are arranged on the main body of the mask plate, each group of evaporation plating areas includes at least one evaporation plating area, each group of evaporation plating areas is provided with a depression, and each adjacent two evaporation plating areas has a space between them, and two groups of evaporation plating The area is axisymmetric with respect to the first central line, and the two groups of evaporated areas are axisymmetric with respect to the second central line. The number of depressions on both sides of the first central line and the second central line is the same in the two groups of evaporation plating areas, when the first central line and the second central line are set symmetrically, then the force on both sides of the first central line and the second central line is uniform when the main body of the mask is stretched, which reduces the fold of the shelter position matched with the depression and improves the stretching accuracy, thus making the subsequent display screen more accurate. Pixel evaporation positioning accuracy is high, and it also improves the display effect of the open area (i.e. abnormal area) of the follow-up display screen.

【技术实现步骤摘要】
掩膜板
本技术涉及显示
，特别是涉及一种掩膜板。
技术介绍
有机发光二极管(OrganicLight-EmittingDiode,OLED)又称为有机电激光显示或有机发光半导体。OLED具有驱动电压低、主动发光、视角宽、效率高、响应速度快、易实现全彩色大面积壁挂式显示和柔性显示的许多特点而逐渐取代液晶显示器(LiquidCrystalDisplay，LCD)显示。在OLED制造技术中，真空蒸镀用的掩膜板是至关重要的部件，掩膜板可以控制有机材料沉积在基板上的位置。掩膜板主要包括通用金属掩膜板(CommonMetalMask，CMM)及精密金属掩膜板(FineMetalMask，FMM)，CMM用于蒸镀共通层，FMM用于蒸镀发光层。专利技术人发现，采用现有技术中的掩膜板张网时出现褶皱，导致后续显示屏像素蒸镀位置精度降低。
技术实现思路
基于此，本技术提供了一种掩膜板，解决了掩膜板张网时出现褶皱的问题，提高了后续显示屏像素蒸镀位置的精度。为实现以上目的，本技术提供了一种掩膜板。所述掩膜板包括：掩膜板主体，所述掩膜板主体具有第一中心线与第二中心线，所述第一中心线与所述第二中心线垂直；开设于所述本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种掩膜板，其特征在于，所述掩膜板包括：掩膜板主体，所述掩膜板主体具有第一中心线与第二中心线，所述第一中心线与所述第二中心线垂直；开设于所述掩膜板主体上的两组蒸镀区，每组所述蒸镀区包括至少一个所述蒸镀区，每个所述蒸镀区开设有凹陷部，每相邻两个所述蒸镀区之间具有间距，两组所述蒸镀区关于所述第一中心线轴对称，且两组所述蒸镀区关于所述第二中心线轴对称。

【技术特征摘要】
1.一种掩膜板，其特征在于，所述掩膜板包括：掩膜板主体，所述掩膜板主体具有第一中心线与第二中心线，所述第一中心线与所述第二中心线垂直；开设于所述掩膜板主体上的两组蒸镀区，每组所述蒸镀区包括至少一个所述蒸镀区，每个所述蒸镀区开设有凹陷部，每相邻两个所述蒸镀区之间具有间距，两组所述蒸镀区关于所述第一中心线轴对称，且两组所述蒸镀区关于所述第二中心线轴对称。2.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述蒸镀区沿第一方向具有相对的第一端与第二端，所述第一端开设有所述凹陷部，或所述第二端开设有所述凹陷部，所述第一方向与所述第一中心线平行。3.根据权利要求2所述的掩膜板，其特征在于，所述掩膜板主体上沿第二方向开设有一排所述蒸镀区，所述第二方向与所述第二中心线平行。4.根据权利要求2所述的掩膜板，其特征在于，所述掩膜板主体上沿第二方向开设有至少两排所述蒸镀区，且所述蒸镀区沿所述第一方向的数量为偶数个，所述第二方向与所述第二中心线平行。5.根据权利要求2或3或4所述的掩膜板，其特征在于，位于所述第二中心线同侧...

【专利技术属性】
技术研发人员：王梦凡，王国兵，康梦华，叶訢，苏倩，李金库，
申请(专利权)人：昆山国显光电有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32