The invention provides a film with excellent rupture resistance and uniform elongation and a manufacturing method thereof. The film of the invention is a single layer film, which is characterized by a composite resin consisting of two resins belonging to ETFE, PFA, FEP, ECTFE and PMP. The melt flow rate of the film is 6 g/10 minutes or less than 20 g/10 minutes, and the alpha of the film determined by the prescribed determination method is above 0.99.
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】膜及其制造方法
本专利技术涉及膜及其制造方法。
技术介绍
通常,为了阻断、保护半导体芯片不受外部气体影响,将其收纳(密封)在称为封装体的容器中,然后作为半导体元件被安装在基板上。封装体中,使用环氧树脂等固化性树脂。作为半导体元件的制造方法,例如,已知将安装有半导体芯片等的基板以使其位于模具内的规定的场所的方式进行配置、在模具内填充固化性树脂使其固化的所谓传递成形法或压缩成形法的方法。此外,为了提高生产性,在基板上安装多个半导体芯片等、将其用固化性树脂一次性密封后,以使多个半导体芯片等分离的方式切断封装体以及基板,进行单片化。在上述传递成形法或压缩成形法中,为了使模具和封装体的脱模容易,有时在模具的与固化性树脂相接的面上配置脱模膜。密封时,由于脱模膜因为真空抽吸等而被拉伸、与模具随动,因此通常对脱模膜要求脱模性、模具随动性等。作为脱模膜,例如提出以下的内容。(1)由相对于选自热塑性树脂以及热固化性树脂的至少1种的树脂100质量份、含有0.01~10质量份的具有规定的极限粘度以及熔点的4-甲基-1-戊烯系聚合物的树脂组合物而得的脱模膜(专利文献1)。(2)在由将JIS ...
【技术保护点】
1.一种膜,其是单层的膜,其特征在于,由同时属于以下的ETFE、PFA、FEP、ECTFE以及PMP的任1种树脂的2种树脂的混合树脂构成,以下的测定方法所测定的膜的熔体流动速率为6g/10分钟以上低于20g/10分钟,且以下的测定方法所测定的膜的α在0.99以上;ETFE:含有四氟乙烯单元和乙烯单元、四氟乙烯单元/乙烯单元的摩尔比为60/40~40/60、相对于四氟乙烯单元和乙烯单元的总计的基于其它单体的单元的比例为0~6摩尔%的共聚物;PFA:含有四氟乙烯单元和全氟(烷基乙烯基醚)单元、四氟乙烯单元/全氟(烷基乙烯基醚)单元的摩尔比为99/1~85/15、相对于四氟乙烯单 ...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.07.04 JP 2016-1324431.一种膜,其是单层的膜,其特征在于,由同时属于以下的ETFE、PFA、FEP、ECTFE以及PMP的任1种树脂的2种树脂的混合树脂构成,以下的测定方法所测定的膜的熔体流动速率为6g/10分钟以上低于20g/10分钟,且以下的测定方法所测定的膜的α在0.99以上;ETFE:含有四氟乙烯单元和乙烯单元、四氟乙烯单元/乙烯单元的摩尔比为60/40~40/60、相对于四氟乙烯单元和乙烯单元的总计的基于其它单体的单元的比例为0~6摩尔%的共聚物;PFA:含有四氟乙烯单元和全氟(烷基乙烯基醚)单元、四氟乙烯单元/全氟(烷基乙烯基醚)单元的摩尔比为99/1~85/15、相对于四氟乙烯单元和全氟(烷基乙烯基醚)单元的总计的基于其它单体的单元的比例为0~5摩尔%的共聚物;FEP:含有四氟乙烯单元和六氟丙烯单元、四氟乙烯单元/六氟丙烯单元的摩尔比为75/25~95/5、相对于四氟乙烯单元和六氟丙烯单元的总计的基于其它单体的单元的比例为0~5摩尔%的共聚物;ECTFE:含有氯三氟乙烯单元和乙烯单元、氯三氟乙烯单元/乙烯单元的摩尔比为60/40~40/60、相对于氯三氟乙烯单元和乙烯单元的总计的基于其它单体的单元的比例为0~5摩尔%的共聚物;PMP:由85~100摩尔%4-甲基-1-戊烯单元和0~15摩尔%基于选自乙烯以及碳数3~20的α-烯烃的至少1种单体的单元构成的聚合物;(膜的熔体流动速率的测定方法)在所述2种树脂为ETFE的情况下,根据ASTMD3159在荷重49N、297℃下测定,在为PFA的情况下,根据ASTMD1238在荷重49N、372℃下测定,在为FEP的情况下,根据ASTMD1238在荷重49N、372℃下测定,在为ECTFE的情况下,根据ASTMD1238在荷重21.168N、温度271.5℃下测定,在PMP的情况下,根据ASTMD1238在荷重49N、温度260℃下测定;(膜的α的测定方法)对于所述膜,根据ISO6721-10:1999,使用熔融粘弹性测定机,在与所述熔体流动速率相同的测定温度下,20mm的同轴平行圆板设为1mm间隙、以形变控制方式、在形变1%的条件下测定分别施加以下的15个角频率的正弦波时的复数剪切粘度、单位Pa·s;角频率:0.31、0.52、0.84、1.4、2.3、3.7、6.1、10、16、27、44、73、120、210、310rad/s;将测定的复数剪切粘度设为η、角频率设为ω,将各自的自然对数LN(η)作为纵轴、将LN(ω)作为横轴的图中,按照下述步骤用最小二乘法求出包含所有的点的近似二次函数,按照下述步骤求出此时的决定系数R2,将其值作为α;<求近似二次函数的方法:最小二乘法>在(x,y)平面中,对(LN(ηi),LN(ωi))进行作图,建立下式E=Σ{LN(ηi)-a2LN2(ωi)-a1LN(ωi)-a0}时,建立用各自的系数对E进行偏微分后的式为...
【专利技术属性】
技术研发人员:笠井涉,铃木政己,
申请(专利权)人:AGC株式会社,
类型:发明
国别省市:日本,JP
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