多层衍射光学元件薄膜涂层制造技术

一种透射光学元件可以包括基体。透射光学元件可以包括形成在基体上的用于特定波长范围的第一抗反射结构。透射光学元件可以包括形成在第一抗反射结构上的用于特定波长范围的第二抗反射结构。透射光学元件可以包括形成在第二抗反射结构上的用于特定波长范围的第三抗反射结构。透射光学元件可以包括设置在第一抗反射结构和第二抗反射结构之间或设置在第二抗反射结构和第三抗反射结构之间的至少一个层。

【技术实现步骤摘要】
多层衍射光学元件薄膜涂层
本专利技术涉及薄膜结构。更具体地，本专利技术的一些方面涉及用于衍射光学元件(diffractiveopticalelementopticalelement：DOE)的多层薄膜结构，所述衍射光学元件能在多层薄膜结构的已蚀刻区域和未蚀刻区域之间提供特定相位延迟，且针对特定波长范围提供抗反射。
技术介绍
衍射光学元件(DOE)可以用于引导光束。例如，DOE(例如衍射透镜、点阵发光器、点阵生成器、傅里叶阵列生成器和/或类似器件)可以用于将光束分束、让光束成形、将光束聚焦和/或类似操作。DOE可以整合到组播交换机、波长选择开关、姿态识别系统、动作感测系统、深度感测系统和/或类似物中。双层表面浮雕轮廓(有时称为“二元表面浮雕轮廓”)可以被选择为用于表面浮雕DOE。例如，双层表面浮雕轮廓可以被选择以近似出连续表面浮雕轮廓，并使得光刻过程和/或蚀刻过程能用于制造DOE。双层薄膜堆叠结构可以用于形成单级次二元DOE(singleorderbinaryDOE)，例如衍射透镜，且对于单级次二元DOE来说，可以与大约40％的衍射效率关联。双层薄膜堆叠结构可以用于点阵生成器，且可以提本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种透射光学元件，包括:基体；形成在基体上的用于特定波长范围的第一抗反射结构；形成在第一抗反射结构上的用于所述特定波长范围的第二抗反射结构；形成在第二抗反射结构上的用于所述特定波长范围的第三抗反射结构；和至少一个层，设置在第一抗反射结构和第二抗反射结构之间或设置在第二抗反射结构和第三抗反射结构之间，其中，第一抗反射结构的第一表面和第二抗反射结构的第二表面之间的第一浮雕深度与第三抗反射结构的第一表面和第三表面之间的第二浮雕深度配置为形成用于所述特定波长范围的分别与第一相位延迟和第二相位延迟关联的衍射光学元件。

【技术特征摘要】
2017.08.16 US 62/546,172;2018.07.24 US 16/044,0811.一种透射光学元件，包括:基体；形成在基体上的用于特定波长范围的第一抗反射结构；形成在第一抗反射结构上的用于所述特定波长范围的第二抗反射结构；形成在第二抗反射结构上的用于所述特定波长范围的第三抗反射结构；和至少一个层，设置在第一抗反射结构和第二抗反射结构之间或设置在第二抗反射结构和第三抗反射结构之间，其中，第一抗反射结构的第一表面和第二抗反射结构的第二表面之间的第一浮雕深度与第三抗反射结构的第一表面和第三表面之间的第二浮雕深度配置为形成用于所述特定波长范围的分别与第一相位延迟和第二相位延迟关联的衍射光学元件。2.如权利要求1所述的透射光学元件，其中，第一相位延迟为π/2相位延迟且第二相位延迟为π相位延迟。3.如权利要求1所述的透射光学元件，其中，用硅和二氧化硅层的交替形成第一抗反射结构、第二抗反射结构、和第三抗反射结构。4.如权利要求1所述的透射光学元件，其中，用氢化硅和二氧化硅的交替层形成第一抗反射结构和第二抗反射结构。5.如权利要求1所述的透射光学元件，其中，用第一材料的第一层和第二材料的第二层形成第一抗反射结构；其中，用第一材料的第三层形成所述至少一个层；其中，用第二材料的第四层和第一材料的第五层形成第二抗反射结构；和其中，用第二材料的第六层和第一材料的第七层形成第三抗反射结构。6.如权利要求1所述的透射光学元件，其中，第一抗反射结构形成在基体的第一侧上；和光学元件进一步包括：形成在基体的第二侧上的用于所述特定波长范围的多个其他抗反射结构。7.如权利要求1所述的透射光学元件，其中，第一抗反射结构、第二抗反射结构、和第三抗反射结构形成三层浮雕轮廓。8.如权利要求1所述的透射光学元件，其中，所述特定波长范围为930纳米到950纳米。9.如权利要求1所述的透射光学元件，其中，所述特定波长范围为1540纳米到1560纳米。10.一种光学元件，包括：基体；形成在基体上的用于特定波长范围的第一抗反射结构；形成在第一抗反射结构上的用于所述特定波长范围的第二抗反...

【专利技术属性】
技术研发人员：JM米勒，G威尔斯，
申请(专利权)人：朗美通经营有限责任公司，
类型：发明
国别省市：美国,US