【技术实现步骤摘要】
一种双频均匀涡流探头及深裂纹混频检测信号提取技术
本专利技术属于电磁无损检测
，涉及一种用于核电及其他重要工业领域缺陷检测的涡流探头，尤其涉及一种双频均匀涡流探头及深裂纹混频检测信号提取技术。
技术介绍
涡流检测是常规无损检测技术之一，广泛应用于用于石油化工、电力冶金等行业，以及航空航天、核电设备等重要领域。相对于其它无损检测方法，涡流检测方法具有非接触、检测速度快的特点和浅裂纹定量方面的优势，可以在探头不接触试件的情况下，对试件进行快速检测。涡流检测方法是以电磁感应原理为基础，使用激励线圈在试件中产生旋涡状的感应交变电流，通过线圈的电压信号变化来判断缺陷的位置和大小，是一种对材料表面和近表面缺陷进行定量无损评价的有效方法。当材料中的涡流密度达到材料表面涡流密度的37%时的材料深度为涡流的标准渗透深度。在此深度内的涡流信号可以检测到，大于这个深度的涡流信号就检测不到了。制约涡流渗透深度的因素有激励频率、激励电流大小以及材料的电磁特性等。传统的涡流检测探头通常采用圆形线圈作为激励元件,探头极易受试件的电磁特性、结构尺寸以及提离变化的影响而产生很大噪声，存在分辨...
【技术保护点】
1.一种双频均匀涡流探头，包括激励元件、检测元件和外固定骨架(8)；所述检测元件位于激励元件下方；其特征在于：所述外固定骨架(8)上设置有激励元件安装腔(10)；所述激励元件安装腔(10)底部设置有检测元件安装孔(7)；所述激励元件包括大激励线圈(1)、小激励线圈(2)和内固定骨架(3)；所述小激励线圈(2)绕制在内固定骨架(3)上，所述大激励线圈(1)绕制在小激励线圈(2)上，所述激励元件嵌套安装于所述外固定骨架(8)的激励元件安装腔(10)内；所述检测元件包括检测线圈(4)、屏蔽罩外筒(5)和屏蔽罩顶盖(6)；所述屏蔽罩外筒(5)嵌套安装于检测元件安装孔(7)内；所述检...
【技术特征摘要】
1.一种双频均匀涡流探头，包括激励元件、检测元件和外固定骨架(8)；所述检测元件位于激励元件下方；其特征在于：所述外固定骨架(8)上设置有激励元件安装腔(10)；所述激励元件安装腔(10)底部设置有检测元件安装孔(7)；所述激励元件包括大激励线圈(1)、小激励线圈(2)和内固定骨架(3)；所述小激励线圈(2)绕制在内固定骨架(3)上，所述大激励线圈(1)绕制在小激励线圈(2)上，所述激励元件嵌套安装于所述外固定骨架(8)的激励元件安装腔(10)内；所述检测元件包括检测线圈(4)、屏蔽罩外筒(5)和屏蔽罩顶盖(6)；所述屏蔽罩外筒(5)嵌套安装于检测元件安装孔(7)内；所述检测线圈(4)嵌套安装于屏蔽罩外筒(5)内；所述屏蔽罩顶盖(6)可拆卸安装在屏蔽罩外筒(5)顶部，与屏蔽罩外筒(5)共同构成检测线圈(4)的屏蔽外壳。2.如权利要求1所述的一种双频均匀涡流探头，其特征在于：所述大激励线圈(1)和小激励线圈(2)均为矩形涡流线圈，所述激励元件安装腔(10)为长方体通孔。3.如权利要求2所述的一种双频均匀涡流探头，其特征在于：所述检测线圈(4)为圆形涡流线圈，直径小于小激励线圈(2)的宽度。4.如权利要求3所述的一种双频均匀涡流探头，其特征在于：所述大激励线圈(1)的截面长Lx1为20mm，轴向长Ly1为20mm，截面高Lz1为20mm，厚Δt1=1mm，所述小激励线圈(2)的截面长Lx2为18mm，轴向长Ly2为18mm，截面高Lz2为20mm，厚Δt2=1mm，所述检测线圈(4)的外半径ro3为1.6mm，内半径ri3为0.6mm，截面高hc3为0.8mm。5.如权利要求1所述的一种双频均匀涡流探头，其特征在于：所述大激励线圈(1)、小激励线圈(2)和内固定骨架(3)两端端面均分别与外固定骨架(8)激励元件安装腔(10)的两个端口齐平。6.如权利要求1所述的一种双频均匀涡流探头，其特征在于：所述检测线圈(4)位于大激励线圈(1)的正下方几何中心位置；所述屏蔽罩外筒(5)、检测线圈(4)以及屏蔽罩顶盖(6)中心位于同一轴线上。7.如权利要求1所述的一种双频均匀涡流探头，其特征在于：所述外固定骨架(8)呈长方体，其上还设置有供大激励线圈(1)、小激励线圈(2)的引线穿出外固定骨架(8)的甲出线孔(9)和供检测线圈(...
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