保护膜用粘合剂组合物和保护膜制造技术

本发明专利技术涉及保护膜用粘合剂组合物和保护膜，该保护膜用粘合剂组合物含有至少具有交联性官能团的(甲基)丙烯酸系树脂(A)、异氰酸酯化合物(B)、上述异氰酸酯化合物(B)以外的具有聚硅氧烷结构和烯化氧结构的异氰酸酯化合物(C)以及防静电剂(D)，上述异氰酸酯化合物(C)的含量相对于上述(甲基)丙烯酸系树脂(A)100质量份为0.10质量份以上。

Adhesive composition for protective film and protective film

The invention relates to an adhesive composition for a protective film and a protective film. The adhesive composition for a protective film contains at least (methyl) acrylic resin (A), isocyanate compound (B), isocyanate compound (C) with polysiloxane structure and olefin oxygen structure other than the above isocyanate compound (B), and antistatic agent (D), which have cross-linking functional groups. The content of substance (C) is above 0.10 mass fraction compared with the above (methyl) acrylic resin (A) 100 mass fraction.

【技术实现步骤摘要】
保护膜用粘合剂组合物和保护膜
本专利技术涉及保护膜用粘合剂组合物和保护膜。
技术介绍
保护膜为了保护例如液晶型显示装置、有机EL(电致发光)型显示装置等显示装置中使用的光学构件等而被广泛使用。保护膜在光学构件的表面层叠，保护该光学构件的表面不被污染或损伤，在无需表面保护的阶段从光学构件剥离除去。因此，对保护膜要求在剥离后不污染光学构件(被粘物)的表面(耐污染性)。此外，若在从光学构件剥离保护膜时产生静电，则在光学构件产生灰尘等的附着、液晶显示装置电路的破坏等不良情况，因此对保护膜要求能够防止在剥离时产生的静电的性质(防静电性)。例如，在日本特开2015－160907号公报中，作为能够形成可容易地剥离且被粘物的污染少的粘接膜的粘合剂组合物，公开了例如含有具有酸性基团和羟基的(甲基)丙烯酸共聚物、具有反应性基团的二甲基聚硅氧烷化合物、以及交联剂的粘合剂组合物。例如，在日本特开2005－314579号公报中，作为防静电性优异、对被保护体的污染性得到减少的粘合剂组合物，公开了含有碱金属盐且使用(甲基)丙烯酸环氧烷加成物15重量％～100重量％作为单体成分的粘合剂组合物。专利
技术实现思路
近年来，对本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种保护膜用粘合剂组合物，其含有：至少具有交联性官能团的(甲基)丙烯酸系树脂A、异氰酸酯化合物B、所述异氰酸酯化合物B以外的具有聚硅氧烷结构和烯化氧结构的异氰酸酯化合物C、以及防静电剂D，所述异氰酸酯化合物C的含量相对于100质量份的所述(甲基)丙烯酸系树脂A为0.10质量份以上。

【技术特征摘要】
2017.08.10 JP 2017-156120;2018.02.02 JP 2018-017311.一种保护膜用粘合剂组合物，其含有：至少具有交联性官能团的(甲基)丙烯酸系树脂A、异氰酸酯化合物B、所述异氰酸酯化合物B以外的具有聚硅氧烷结构和烯化氧结构的异氰酸酯化合物C、以及防静电剂D，所述异氰酸酯化合物C的含量相对于100质量份的所述(甲基)丙烯酸系树脂A为0.10质量份以上。2.根据权利要求1所述的保护膜用粘合剂组合物，其中，所述异氰酸酯化合物C相对于所述异氰酸酯化合物B的质量比[C/B]为1/1～1/20。3.根据权利要求1或2所述的保护膜用粘合剂组合物，其中，所述异...

【专利技术属性】
技术研发人员：藤川春奈，吉原悠，鸭井彬，中野宏人，
申请(专利权)人：日本电石工业株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP