The invention provides a polishing machine capable of suppressing the overall length while fully implementing the cooling of the circuit substrate. The polishing machine (1) has: an output shaft (65), a top tool (67), extending in the direction orthogonal to the working surface; a main body shell (2), extending in the direction orthogonal to the output shaft (65); a motor (30), which is installed in the main body shell (2); and a circuit substrate (35), which is arranged side by side with the motor (30) in the direction extending along the main body shell (2).
【技术实现步骤摘要】
抛光机
本专利技术涉及一种抛光机,特别是涉及一种具有电路基板的抛光机。
技术介绍
在现有技术中,作为磨削、研磨对象物的表面的工具,已知各种磨削工具、研磨工具。在此,在下述对比文件1中,作为磨削工具,已知一种角型的研磨机701(参照图19)。另外,作为研磨工具,已知一种角型的抛光机(未图示)。当使用这些研磨机701、抛光机时,能够简便地实施对对象物的表面的磨削作业、研磨作业。【现有技术文献】专利文献1:日本专利技术专利公开公报特开2015-174201号
技术实现思路
【专利技术所要解决的技术问题】但是,在上述的专利文献1的技术中,电路基板735配置于无刷电机730的后方,因此,有时会使研磨机701的整体长度变长。另外,如专利文献1所示,当手柄壳体704的后侧存在有进气口738时,该手柄壳体704变得狭窄,而使由无刷电机730的冷却风扇733所带来的空气难以到达电路基板735,因此,有时会导致对该电路基板735的冷却不足。本专利技术是想要解决这种技术问题而创作出的,其目的在于,提供一种能够抑制整体长度的同时充分地实施对电路基板的冷却的抛光机。本专利技术是用于达成上述目的 ...
【技术保护点】
1.一种抛光机,其特征在于,具有:输出轴,其具有顶端工具,沿与作业面正交的方向延伸;主体壳体,其沿与所述输出轴正交的方向延伸;电机,其收装于所述主体壳体;和电路基板,其沿所述主体壳体延伸的方向与所述电机并排配置。
【技术特征摘要】
2017.08.09 JP 2017-1541001.一种抛光机,其特征在于,具有:输出轴,其具有顶端工具,沿与作业面正交的方向延伸;主体壳体,其沿与所述输出轴正交的方向延伸;电机,其收装于所述主体壳体;和电路基板,其沿所述主体壳体延伸的方向与所述电机并排配置。2.一种抛光机,其特征在于,具有:电机,其具有沿前后方向延伸的转子轴;电机壳体,其收装所述电机;齿轮壳体,其配置于所述电机的前侧;输出轴,其保持于所述齿轮壳体,与所述转子轴大致正交;手柄壳体,其配置于所述电机壳体的后侧;和电路基板,其配置于所述电机的外周位置。3.一种抛光机,其特征在于,具有:...
【专利技术属性】
技术研发人员:仲村真,水谷彰良,石川纯也,
申请(专利权)人:株式会社牧田,
类型:发明
国别省市:日本,JP
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