一种等离子炬的轴向进气通道制造技术

技术编号:20437008 阅读:25 留言:0更新日期:2019-02-26 23:03
本发明专利技术涉及一种等离子炬的轴向进气通道,属于电弧等离子体炬领域。该通道位于空心电极套内,由电极套和电极间的空腔构成,可将从空心电极套顶部导入的气体由电极套末端导出并流入等离子炬腔体内。该通道顶部和底部区域由电极外表面和电极套内表面沿轴向不接触形成的空腔构成,而中部区域由电极外表面和电极套内表面沿轴向部分接触形成的空腔构成,且该通道中部区域的横截面积小于顶部和底部区域的横截面积。从电极套末端流出的气体流动速度远大于从电极套顶部进气时的流动速度,高速流动的气流有利于喷嘴处电弧的压缩和电弧热效应的增强,同时气体在流动过程中分布均匀,有利于提高电弧的稳定性。

An Axial Intake Channel for Plasma Torch

The invention relates to an axial air inlet channel of a plasma torch, belonging to the field of arc plasma torch. The channel is located in the hollow electrode sleeve, which consists of the electrode sleeve and the cavity between the electrodes. The gas introduced from the top of the hollow electrode sleeve can be exported from the end of the electrode sleeve and flowed into the plasma torch chamber. The top and bottom areas of the channel are composed of holes formed by contacting the outer surface of the electrode and the inner surface of the electrode sleeve along the axis, while the middle area is composed of holes formed by contacting the outer surface of the electrode and the inner surface of the electrode sleeve along the axis, and the cross-sectional area of the middle area of the channel is smaller than that of the top and bottom areas. The gas flow velocity from the end of the electrode sleeve is much faster than that from the top of the electrode sleeve. The high-speed gas flow is conducive to the compression of the arc at the nozzle and the enhancement of the arc thermal effect. At the same time, the gas distributes uniformly in the flow process, which is conducive to improving the stability of the arc.

【技术实现步骤摘要】
一种等离子炬的轴向进气通道
本专利技术涉及一种等离子炬的轴向进气通道,属于电弧等离子体炬领域。
技术介绍
压缩等离子弧相比自由等离子弧是经由等离子炬实现“机械压缩效应”、“热压缩效应”和“自磁压缩效应”三重压缩效应而获得的高能量的压缩电弧,因其高的能量广泛应用于焊接、喷涂、切割、淬火和堆焊等材料加工领域。机械压缩效应主要是利用等离子炬的喷嘴来限制弧柱直径,提高其能量密度;热压缩效应也称为流体压缩效应,是利用气流或水流的冷却作用使得电弧得到压缩,气体的压力和流速越高,越有利于电弧的压缩。等离子炬常见的进气通道有轴向、径向和切向三种,轴向和径向进气通道是在等离子炬腔体上开设进气孔直接将气体导入腔体内,气体在腔体内沿腔体轴向流动;切向进气通道气体由腔体上的进气孔导入后进入气体分配环,从气体分配环流出后形成旋转气流沿腔体内旋转流动。气体沿腔体轴向流动时,只有采用较高的气流量或进气压力获得较高的气体流速才能在喷嘴处获得较好的热压缩效应,但是高流速容易使气体在等离子炬腔体内沿轴向流动时分布不均匀,影响电弧的稳定性。而气体沿腔体旋转流动时,气体流量较小时即可获得较高的流速,对电弧的压缩效果较好,气体在腔体内高速流动时分布也较均匀,电弧的稳定性较好。因此,与切向进气通道相比,轴向和径向进气通道在等离子炬上的应用较少。
技术实现思路
本专利技术的目的是为了克服现有等离子炬轴向进气通道进气时,气流沿腔体轴向高速流动时在等离子炬腔体内分布不均匀从而影响电弧稳定性的缺点,而提出的一种等离子炬的轴向进气通道。本专利技术所采用的技术方案如下:一种等离子炬的轴向进气通道,该通道位于空心电极套内,由电极套和电极间的空腔构成,可将从空心电极套顶部导入的气体由电极套末端导出并流入等离子炬腔体内。该通道顶部和底部区域由电极外表面和电极套内表面沿轴向不接触形成的空腔构成,而该通道中部区域由电极外表面和电极套内表面沿轴向部分接触形成的空腔构成,且该通道中部区域的横截面积小于顶部和底部区域的横截面积。采用上述方案后,本专利技术的优点为:本专利技术的等离子炬轴向进气通道对流经其中的气体具有压缩和加速作用。采用较小的气体流量从空心电极套的顶部导入该通道,即可使气体从该通道末端流出时具有较高的流动速度。高速流动的气流有利于喷嘴处电弧的压缩和电弧热效应的增强。同时气体从电极套末端流出时沿电极外表面轴向流动至喷嘴内,气体在电极和喷嘴间流动方向性强,分布均匀,有利于提高电弧的稳定性。附图说明图1现有技术等离子炬轴向进气通道结构示意图。图2本专利技术等离子炬的轴向进气通道结构示意图。图3(a)本专利技术等离子炬的轴向进气通道顶部区域沿A-A横截面结构示意图。图3(b)本专利技术等离子炬的轴向进气通道中部区域沿B-B横截面结构示意图。图3(c)本专利技术等离子炬的轴向进气通道底部区域沿C-C横截面结构示意图。图中所示:1.电极,2.电极套,3.绝缘体,4.炬身,5.水冷通道,6.工件,7.进气管,8.顶部空腔,9-12.中部空腔,13.底部空腔。具体实施方式为了使本专利技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本专利技术进行进一步详细说明。实施例1本专利技术的等离子炬的轴向进气通道结构示意图如图2所示,该通道位于电极套2内,由电极套2和电极1间的空腔构成,可将从空心电极套2顶部导入的气体由电极套2末端导出并流入等离子炬腔体内。该进气通道顶部区域由电极1外表面和电极套2内表面沿轴向不接触形成的空腔构成,该空腔如图3(a)中8所示;中部区域由电极1外表面和电极套2内表面沿轴向部分接触形成的空腔构成,该空腔为如图3(b)中所示的9、10、11和12四路空腔;底部区域由电极1外表面和电极套2内表面沿轴向不接触形成的空腔构成,该空腔如图3(c)中13所示。电极1通过其外表面和电极套2内表面沿轴向部分接触固定于电极套2内。中部四路空腔9、10、11和12的横截面积总和小于顶部空腔8和底部空腔13的横截面积。气体从进气管7经过电极套2顶部进入顶部空腔8,气体流动通道横截面积减小,气体受到压缩,气体流动速度增加;气体从顶部空腔8流出进入中部四路空腔9、10、11和12,气体流动通道横截面积进一步减小,气体再次受到压缩,气体流动速度进一步增加;气体从中部空腔9、10、11和12时流出,进入底部空腔13,气体流动通道横截面积增大,气体流动速度降低;气体最终经过底部空腔13由电极套2末端流出并沿电极外表面轴向地流进等离子炬腔体内。气体最终从电极套2末端流出时的速度远高于从进气管7流进电极套2顶部时的速度。高速流动的气流有利于喷嘴处电弧的压缩和电弧热效应的增强,同时气体在电极和喷嘴间流动方向性强,分布均匀,有利于提高电弧的稳定性。本领域的技术人员容易理解,以上所述仅为本专利技术的较佳实施例而已,并不用以限制本专利技术,凡在本专利技术的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本专利技术的保护范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种等离子炬的轴向进气通道,其特征在于:该通道位于空心电极套内,由电极套和电极间的空腔构成,可将从空心电极套顶部导入的气体由电极套末端导出并流入等离子炬腔体内。

【技术特征摘要】
1.一种等离子炬的轴向进气通道,其特征在于:该通道位于空心电极套内,由电极套和电极间的空腔构成,可将从空心电极套顶部导入的气体由电极套末端导出并流入等离子炬腔体内。2.根据权利要求1所述的一种等离子炬的轴向进气通道,其特征在于:该通道顶部和底部区域由电极外表面和电极套内表面沿轴向...

【专利技术属性】
技术研发人员:黄齐文潘璋熊钊颋黄闻欣
申请(专利权)人:武汉华材表面科技有限公司
类型:发明
国别省市:湖北,42

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