一种量子点彩色滤光片基板及其制备方法和显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种量子点彩色滤光片基板及其制备方法和显示装置，涉及显示器件技术领域，用以解决现有的QDCF基板中的红绿量子点墨水材料在制备后直接暴露于生产环境中，在后期工艺中影响量子点像素光学效率的问题。本发明专利技术实施例包括衬底；形成于衬底上的黑矩阵层，其中所述黑矩阵层有多个红色子像素层开口和绿色子像素层开口；填充于红色子像素层开口内的红色量子点和填充于绿色子像素层开口内红色量子点；覆盖于红色子像素层和绿色子像素层背离衬底一侧的水氧阻隔防溶剂层。由于本发明专利技术在子像素层之上覆盖有水氧阻隔防溶剂层，使得红绿量子点墨水材料在制备后不会直接暴露于生产环境中，降低了后期工艺对量子点像素光学效率的影响。

A quantum dot color filter substrate and its preparation method and display device

The invention discloses a quantum dot color filter substrate and its preparation method and display device, which relates to the technical field of display devices to solve the problem that the red-green quantum dot ink material in the existing QDCF substrate is directly exposed to the production environment after preparation and affects the optical efficiency of quantum dot pixels in the later process. The embodiments of the invention include a substrate; a black matrix layer formed on a substrate, wherein the black matrix layer has multiple red sub-pixel layer openings and green sub-pixel layer openings; a red quantum dot filled in the red sub-pixel layer openings and a red quantum dot filled in the green sub-pixel layer openings; and a water oxygen barrier covering the red sub-pixel layer and the green sub-pixel layer away from the substrate side. Anti-solvent layer. Because the invention covers the water-oxygen barrier and solvent-proof layer above the sub-pixel layer, the red-green quantum dot ink material will not be directly exposed to the production environment after preparation, thus reducing the influence of the later process on the optical efficiency of the quantum dot pixel.

【技术实现步骤摘要】
一种量子点彩色滤光片基板及其制备方法和显示装置
本专利技术涉及显示器件
，特别涉及一种量子点彩色滤光片基板及其制备方法和显示装置。
技术介绍
一般OLED(OrganicLight-EmittingDiode，有机电致发光器件)显示器件的生命周期易受周围水汽与氧气所影响而降低。水汽来源主要分为两种：一是经由外在环境渗透进入组件内，另一种是在OLED工艺中被每一层物质所吸收的水汽，这些水汽导致电子与显示器件中部分很容易发生氧化反应而出现老化从而影响器件的寿命。QDCF(Quantumdotcolorfilter，量子点彩色滤光片)基板需要对量子点像素进行封装，如果没有水氧阻隔保护层，封装层的材料势必会影响QDCF量子点像素的光学效率，需要重新进行封装层材料的选取。另由于QDCF中量子点的光散射作用，造成量子点散射的光很大一部分返回至激发光源部分。因此，为了阻隔水氧对器件的影响，需要一个防水氧的阻隔结构。传统的水氧阻隔层主要为有机无机复合层结构，其通过蒸镀或磁控溅射在有机层表面制备无机氧化物层，得到核心水氧阻隔层，通过调整不同的薄膜沉积参数，便可以使得薄膜以不同结构、不同膜生长模式进行生长，再进行多层复合。膜片中前一个膜层的水汽通路和后面的水汽通路失配，便可以得到薄膜的水氧阻隔性。由于采用有机无机复合的多层结构形式，其制备主要为不间断的涂层制备，制备好的涂层如果进行QDCF基板的复合保护，需要涂胶、贴合两个步骤，并且制备的QDCF基板保护层容易出现褶皱，造成QD-OLED器件制备良率降低。而且此种制备形式，主要是采用磁控溅射或蒸镀的形式进行，设备需要的真空度及其他条件比较苛刻，非封闭的面板产线一般不能满足需求，即使满足需求，由于块状基板行进过程中，必然造成间隔出现大量的溅射或蒸镀的浪费，同时上述水氧阻隔膜的技术方案不能在自动化QDCF喷墨产线上进行实施。综上所述，由于QDCF基板中的红绿量子点墨水材料在制备后直接暴露于生产环境中，在后期工艺中影响量子点像素光学效率。
技术实现思路
本专利技术提供一种量子点彩色滤光片基板及其制备方法和显示装置，用以解决现有技术中存在的QDCF基板中的红绿量子点墨水材料在制备后直接暴露于生产环境中，在后期工艺中影响量子点像素光学效率的问题。为达到上述目的，本专利技术提供以下技术方案：第一方面，本专利技术实施例提供的一种量子点彩色滤光片QDCF基板，该基板包括：衬底；形成于衬底上的黑矩阵层，其中所述黑矩阵层有多个红色子像素层开口和绿色子像素层开口；填充于红色子像素层开口内的红色量子点和填充于绿色子像素层开口内红色量子点；覆盖于红色子像素层和绿色子像素层背离衬底一侧的水氧阻隔防溶剂层。上述QDCF基板，包括：衬底；形成于衬底上的黑矩阵层，其中所述黑矩阵层有多个红色子像素层开口和绿色子像素层开口；填充于红色子像素层开口内的红色量子点和填充于绿色子像素层开口内红色量子点；覆盖于红色子像素层和绿色子像素层背离衬底一侧的水氧阻隔防溶剂层。在本专利技术中的QDCF基板与原有的封装盖板作用相同，将其作为一个整体直接用于OLED的后期封装，由于其包含覆盖于红色子像素层和绿色子像素层背离衬底一侧的水氧阻隔防溶剂层，使得QDCF中的红绿量子点墨水材料在制备后不会直接暴露于生产环境中，减少了在后期工艺中对量子点像素光学效率的影响。进一步地，所述基板还包括：覆盖于水氧阻隔防溶剂层背离衬底一侧的Brugg(布拉格)反射膜。上述QDCF基板，在进行水氧阻隔和溶剂阻隔的同时，在水氧阻隔防溶剂层之上覆盖了具有透射蓝光反射红绿光作用的Brugg反射膜，提高了QDCF基板的外量子光转换效率，同时提高了QDCF基板的显示亮度。进一步地，所述Brugg反射膜包括多层依次层叠且折射率不同的聚酯层。上述QDCF基板，其所包含的Brugg反射膜采用聚合物涂层拉伸的制备工艺，对环境要求低，相比于磁控溅射的工艺，降低了对环境条件的需求，同时可以有效减少材料的浪费。进一步地，所述水氧阻隔防溶剂层的墨水配方组分包括主体树脂、交联剂、引发剂、表面助剂、溶剂。上述QDCF基板，其所包含的水氧阻隔防溶剂层的墨水配方工艺简单，成本低，且该水氧阻隔防溶剂层具有高致密交联度，采用的树脂单体通过交联剂交联后可以提高其水氧阻隔效率，其溶剂阻隔效率高。进一步地，所述主体树脂包括但不限于丙烯酸酯单体或预聚体。第二方面，本专利技术实施例提供的一种显示装置，该显示装置包括有机电致发光基板以及第一方面任一所述的QDCF基板。上述显示装置，由于包括第一方面中的QDCF基板，则减少了在后期工艺中对QDCF基板量子点像素光学效率的影响。第三方面，本专利技术实施例提供的一种制备QDCF基板的方法，该方法包括：在衬底上形成黑矩阵层，并通过构图工艺在所述黑矩阵层上形成多个红色子像素层开口和绿色子像素层开口；在所述红色子像素层开口内填充红色量子点，且在所述绿色子像素层开口内填充绿色量子点；在红色子像素层和绿色子像素层背离衬底一侧形成水氧阻隔防溶剂层，且所述水氧阻隔防溶剂层覆盖于红色子像素层和绿色子像素层背离衬底一侧。上述方法，通过构图工艺在所述黑矩阵层上形成多个红色子像素层开口和绿色子像素层开口，在子像素开口中填充量子点像素，其中的黑矩阵可以起到吸光的作用，防止红光和绿光之间的相互干扰，并且在红色子像素层和绿色子像素层之上覆盖水氧阻隔防溶剂层，使得QDCF中的红绿量子点墨水材料在制备后不会直接暴露于生产环境中，减少了在后期工艺中对量子点像素光学效率的影响。进一步地，所述在所述红色子像素层开口内填充红色量子点、且在所述绿色子像素层开口内填充绿色量子点，包括：通过喷墨打印的方式将所述红色量子点填充于红色子像素层开口内；通过喷墨打印的方式将所述绿色量子点填充于绿色子像素层开口内。上述方法，通过喷墨打印的形式形成红色子像素层和绿色子像素层，降低了对设备的要求，同时采用喷墨打印的形式减少了材料的浪费。进一步地，所述在红色子像素层和绿色子像素层背离衬底一侧形成水氧阻隔防溶剂层，包括：将水氧阻隔防溶剂层通过喷墨打印的方式覆盖于红色子像素层和绿色子像素层背离衬底一侧；通过紫外线UV(Ultravioletrays，紫外线)将水氧阻隔防溶剂层进行固化。上述方法，采用喷墨打印及UV固化的工艺，工艺简单，解决了传统的水氧阻隔层制备工艺对设备要求高的问题，并且提高了其水样阻隔和溶剂阻隔的效率。进一步地，将水氧阻隔防溶剂层覆盖于红色子像素层和绿色子像素层背离衬底一侧之后，且在通过紫外线UV将水氧阻隔防溶剂层进行固化之前，还包括：在水氧阻隔防溶剂层背离衬底一侧覆盖一层Brugg反射膜。上述方法，在水氧阻隔防溶剂层背离衬底一侧通过辊压的方式覆盖一层Brugg反射膜，减少了褶皱，同时Brugg反射膜具有透射蓝光反射红绿光作用，提高了QDCF基板的外量子光转换效率，同时提高了QDCF基板的显示亮度。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简要介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域的普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本专利技术实施例提供的一种传统的水氧阻隔层示意图；图2为本专利技术实施例提供的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种量子点彩色滤光片QDCF基板，其特征在于，该基板包括：衬底；形成于衬底上的黑矩阵层，其中所述黑矩阵层有多个红色子像素层开口和绿色子像素层开口；填充于红色子像素层开口内的红色量子点和填充于绿色子像素层开口内的绿色量子点；覆盖于红色子像素层和绿色子像素层背离衬底一侧的水氧阻隔防溶剂层。

【技术特征摘要】
1.一种量子点彩色滤光片QDCF基板，其特征在于，该基板包括：衬底；形成于衬底上的黑矩阵层，其中所述黑矩阵层有多个红色子像素层开口和绿色子像素层开口；填充于红色子像素层开口内的红色量子点和填充于绿色子像素层开口内的绿色量子点；覆盖于红色子像素层和绿色子像素层背离衬底一侧的水氧阻隔防溶剂层。2.如权利要求1所述的QDCF基板，其特征在于，所述基板还包括：覆盖于水氧阻隔防溶剂层背离衬底一侧的布拉格Brugg反射膜。3.如权利要求2所述的QDCF基板，其特征在于，所述Brugg反射膜包括多层依次层叠且折射率不同的聚酯层。4.如权利要求1所述的QDCF基板，其特征在于，所述水氧阻隔防溶剂层的墨水配方组分包括主体树脂、交联剂、引发剂、表面助剂、溶剂。5.如权利要求4所述的QDCF基板，其特征在于，所述主体树脂包括但不限于丙烯酸酯单体或预聚体。6.一种显示装置，其特征在于，该显示装置包括有机电致发光基板以及如权利要求1～5任一所述的QDCF基板。7.一种制备QDCF基板的方法，其特征在于，该方法包括：在衬底上形成黑矩阵层，并通过构图工艺在所述黑矩阵层上形成多...

【专利技术属性】
技术研发人员：岳春波，宋志成，刘卫东，
申请(专利权)人：青岛海信电器股份有限公司，
类型：发明
国别省市：山东,37