基板走线结构和走线制作方法技术

本发明专利技术实施例提供一种基板走线结构和走线制作方法。其中，所述基板走线结构上布设有信号线组和冗余线组；所述冗余线组包括第一冗余线和第二冗余线，在所述信号线组中的各信号线的排列方向上，所述信号线组位于所述第一冗余线和所述第二冗余线之间，从而使得位于两条冗余线之间的信号线的线宽均匀，以提高应用该基板走线结构的显示设备的显示质量。

【技术实现步骤摘要】
基板走线结构和走线制作方法
本专利技术涉及显示器
，具体而言，涉及一种基板走线结构和走线制作方法。
技术介绍
随着“全面屏”时代的到来，对于液晶显示设备，尤其是智能终端，由于显示区占比变大，导致用于走线的空间越来越小，进而使得走线线宽、线距做得越来越极限，但当走线线距小到曝光机精度附近时，走线的线宽会变大，如对于一列走线，左右两端走线线宽偏小，中间的偏大，这就会造成同种功能走线线宽不均，进而导致显示设备的显示不均。
技术实现思路
有鉴于此，本专利技术提供了一种基板走线结构和走线制作方法，能够有效解决上述问题。一方面，本专利技术较佳实施例提供一种基板走线结构，所述基板走线结构上布设有信号线组和冗余线组；所述冗余线组包括第一冗余线和第二冗余线，在所述信号线组中的各信号线的排列方向上，所述信号线组位于所述第一冗余线和所述第二冗余线之间。在本专利技术较佳实施例的选择中，所述第一冗余线、所述第二冗余线以及所述信号线组中的各信号线的线宽相等。在本专利技术较佳实施例的选择中，所述冗余线组还包括第三冗余线，所述第三冗余线布设于间距大于第一预设值的相邻信号线之间。在本专利技术较佳实施例的选择中，所述第三冗余线与相邻的信号线之间的间距与其他各相邻信号线之间的间距相等。在本专利技术较佳实施例的选择中，在所述信号线组中的各信号线的排列方向上，所述第一冗余线、所述第二冗余线、所述第三冗余线以及各所述信号线等间隔设置。另一方面，本专利技术较佳实施例还提供一种走线制作方法，所述走线制作方法包括：提供一基板；基于所述基板制作形成金属层；基于所述金属层制作形成一蚀刻保护层；通过掩膜板对所述蚀刻保护层进行曝光后显影，去除所述蚀刻保护层的其中一部分；对所述金属层进行蚀刻，去除未被所述蚀刻保护层保护的部分，以在所述基板上制作形成第一冗余线、第二冗余线以及位于该第一冗余线和第二冗余线之间的多条信号线；其中：所述掩膜板上包括透光图案以及与所述第一冗余线对应的第一非透光图案、与所述第二冗余线对应的第二非透光图案以及与多条所述信号线对应的多个第三非透光图案。在本专利技术较佳实施例的选择中，在多个所述第三非透光图案的排列方向上，所述第一非透光图案、第二非透光图案以及各所述第三非透光图案的图案宽度相等。在本专利技术较佳实施例的选择中，所述掩膜板还包括位于间距大于第一预设值的相邻第三非透光图案之间的第四非透光图案；对所述金属层进行蚀刻，去除未被所述蚀刻保护层保护的部分之后，该金属层上还形成有与该第四非透光图案对应的第三冗余线，且所述第三冗余线和相邻的信号线之间的间距与其他各相邻信号线之间的间距相等。在本专利技术较佳实施例的选择中，所述掩膜板还包括图案宽度与所述信号线组中的信号线的线宽之间满足预设关系的第五非透光图案；对所述金属层进行蚀刻，去除未被所述蚀刻保护层保护的部分之后，该金属层上还制作形成有与该第五非透光图案对应的信号线，且该信号线与其他相邻信号线之间的间距小于第二预设值；其中，所述预设关系为所述第五非透光图案的图案宽度＝(第五非透光图案对应的信号线的实验设计线宽)2*第五非透光图案对应的信号线的实验实际线宽。在本专利技术较佳实施例的选择中，所述信号线包括数据线、扫描线、触摸线和GIP(GateInPanel，门面板)线中的一种或多种。与现有技术相比，本专利技术提供一种基板走线结构和走线制作方法，其中，对于走线线距小到曝光机精度附近的情况，本专利技术采用在走线的两侧增加冗余线的方式，将边缘位置转移至冗余线，从而使得信号线的线宽一致，尤其对于具有同种功能的走线，能够有效提高走线的均匀性，确保应用本专利技术给出的基板走线结构的显示设备的显示效果。此外，对于线距过小的情况，本专利技术还可通过对掩膜板上对应的光照图案的巧妙设计，使得绘制的走线满足实际需求，进一步提高走线的均匀性。为使本专利技术的上述目的、特征和优点能更明显易懂，下文特举较佳实施例，并配合所附附图，作详细说明如下。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本专利技术的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。图1为本专利技术实施例提供的基板走线结构的结构示意图。图2为与图1中对应的现有技术中的基板走线结构示意图。图3为现有技术中的基板走线结构的另一结构示意图。图4为本专利技术实施例提供的基板走线结构的另一结构示意图。图5为本专利技术实施例提供的走线制作方法的流程示意图。图6为基于图5中所示走线制作方法制作的基板走线结构的剖面结构示意图。图7为本专利技术实施例提供的掩膜板的结构示意图。图8为本专利技术实施例提供的掩膜板的另一结构示意图。图9为本专利技术实施例提供的基板走线结构的又一结构示意图。图10为现有技术中与图9对应的基板走线结构的结构示意图。图11为本专利技术实施例提供的用于制作图9中所示的基板走线结构的掩膜板的结构示意图。图标：10-基板走线结构；11-信号线组；12-冗余线组；120-第一冗余线；121-第二冗余线；122-第三冗余线；13-基板；14-金属层；15-蚀刻保护层；16-掩膜板；160-第一非透光图案；161-第二非透光图案；162-第三非透光图案；163-第四非透光图案；164-第五非透光图案；165-透光图案；20-过孔。具体实施方式为使本专利技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例只是本专利技术的一部分实施例，而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本专利技术实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。因此，以下对在附图中提供的本专利技术的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本专利技术的范围，而是仅仅表示本专利技术的选定实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。在本专利技术的描述中，术语“第一、第二、第三、第四等仅用于区分描述，而不能理解为只是或暗示相对重要性。在本专利技术的描述中，除非另有明确的规定和限定，术语“设置”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本专利技术中的具体含义。如图1所示，为本专利技术实施例提供的基板走线结构10的结构示意图，该基板走线结构10上布设有信号线组11和冗余线组12；所述冗余线组12包括第一冗余线120和第二冗余线121，在所述信号线组11中的各信号线的排列方向上，所述信号线组11位于所述第一冗余线120和所述第二冗余线121之间。其中，在本专利技术实施例给出的上述基板走线结构10中，采用在信号线组11的两侧增加冗余线的方式，以将信号线组11中原本的边缘位置转移到冗余线上，能够有效解决现有技术中由于信号线组11中的相邻信号线之间的线距小到曝光机精度附近时，出现本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基板走线结构，其特征在于，所述基板走线结构上布设有信号线组和冗余线组；所述冗余线组包括第一冗余线和第二冗余线，在所述信号线组中的各信号线的排列方向上，所述信号线组位于所述第一冗余线和所述第二冗余线之间。

【技术特征摘要】
1.一种基板走线结构，其特征在于，所述基板走线结构上布设有信号线组和冗余线组；所述冗余线组包括第一冗余线和第二冗余线，在所述信号线组中的各信号线的排列方向上，所述信号线组位于所述第一冗余线和所述第二冗余线之间。2.根据权利要求1所述的基板走线结构，其特征在于，所述第一冗余线、所述第二冗余线以及所述信号线组中的各信号线的线宽相等。3.根据权利要求1所述的基板走线结构，其特征在于，所述冗余线组还包括第三冗余线，所述第三冗余线布设于间距大于第一预设值的相邻信号线之间。4.根据权利要求3所述的基板走线结构，其特征在于，所述第三冗余线与相邻的信号线之间的间距与其他各相邻信号线之间的间距相等。5.根据权利要求3所述的基板走线结构，其特征在于，在所述信号线组中的各信号线的排列方向上，所述第一冗余线、所述第二冗余线、所述第三冗余线以及各所述信号线等间隔设置。6.一种走线制作方法，其特征在于，所述走线制作方法包括：提供一基板；基于所述基板制作形成金属层；基于所述金属层制作形成一蚀刻保护层；通过掩膜板对所述蚀刻保护层进行曝光后显影，去除所述蚀刻保护层的其中一部分；对所述金属层进行蚀刻，去除未被所述蚀刻保护层保护的部分，以在所述基板上制作形成第一冗余线、第二冗余线以及位于该第一冗余线和第二冗余线之间的多条信号线；其中：所述掩膜板上包括透光图案以及与所述第一冗余...

【专利技术属性】
技术研发人员：于靖，庄崇营，李林，
申请(专利权)人：信利半导体有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44