The invention relates to an internal coating of glass structure in electronic equipment. The present invention provides an electronic device which may include electronic components and other components mounted in a housing. The device can have a display on the front of the device and a glass layer forming a part of the housing on the back of the device. Glass layers and other glass structures in electronic equipment may have coatings. Internal coatings on glass layers may include multilayer materials, such as adhesion accelerant layers, material film layers such as silicon, niobium oxides and other metal oxides, and metals that help to regulate the appearance of coatings. The metal layer can be formed on the top of the coating for environmental protection and opacity enhancement. In some configurations, the coating may consist of four layers.
【技术实现步骤摘要】
电子设备中玻璃结构的内部涂层本申请要求于2018年6月5日提交的美国专利申请No.16/000,606以及2017年6月20日提交的美国临时专利申请No.62/522,561的优先权,所述两个申请通过引用被整体并入本文。
技术介绍
这通常涉及涂层,并且更具体地涉及用于电子设备中的玻璃结构的涂层。电子设备诸如蜂窝电话、计算机、手表和其他设备可包含玻璃结构。例如,电子设备可具有显示器,其中像素阵列用透明玻璃层覆盖。在一些设备中,后壳壁可覆盖有玻璃层。如果不小心,玻璃结构在经受升高的应力诸如在意外跌落事件期间可能容易破裂。可通过在玻璃结构上形成薄膜涂层来改善电子设备中的玻璃结构的外观。然而,在内部玻璃表面上存在薄膜涂层具有产生应力集中的可能性,该应力集中使得玻璃结构易于断裂。
技术实现思路
电子设备可包括安装在外壳内的电子部件和其他部件。该设备可包括玻璃结构。例如,该设备可在设备的正面上具有显示器,并且可具有在设备的背面上形成外壳的一部分的玻璃层。电子设备中的玻璃层和其他玻璃结构可具有涂层。玻璃层上的内部涂层可包括多个材料层,诸如粘附促进层,诸如硅,氧化铌和其他金属氧化物之类的材料薄膜层,以及有助于调节涂层外观以及因此调节电子设备的外观的金属。金属层可在涂层的顶部上形成,以用作环境保护层和不透明度加强层。在一些构型中,涂层可包括四个材料层。这些层可包括在玻璃层的内表面上的层。该层可由用作粘附促进层的材料诸如钛形成。高模量材料诸如钛在玻璃层的内表面上的厚度可被限制为相对较小的值,以防止这些材料向玻璃赋予应力。涂层中的钛层和/或附加层可用作缓冲层,该缓冲层防止来自易碎材料诸如 ...
【技术保护点】
1.一种具有相对的正面和背面的电子设备,包括:所述正面上的显示器;外壳,所述外壳具有位于所述背面上的玻璃层;以及所述玻璃层上的涂层,其中所述涂层包括位于所述玻璃层的内表面上的第一层,第二层和置于所述第一层和所述第二层之间的第三层,并且所述第三层由不同于所述第一层和所述第二层中的至少一者的材料形成。
【技术特征摘要】
2017.06.20 US 62/522,561;2018.06.05 US 16/000,6061.一种具有相对的正面和背面的电子设备,包括:所述正面上的显示器;外壳,所述外壳具有位于所述背面上的玻璃层;以及所述玻璃层上的涂层,其中所述涂层包括位于所述玻璃层的内表面上的第一层,第二层和置于所述第一层和所述第二层之间的第三层,并且所述第三层由不同于所述第一层和所述第二层中的至少一者的材料形成。2.根据权利要求1所述的电子设备,其中所述第一层包括金属粘附促进层,并且其中所述第二层被配置为从环境上保护所述涂层不暴露于空气。3.根据权利要求2所述的电子设备,其中所述第三层包括金属氧化物。4.根据权利要求3所述的电子设备,其中所述金属氧化物包括氧化铌。5.根据权利要求2所述的电子设备,其中所述第三层包括硅,所述电子设备还包括:置于所述第一层和所述第二层之间的第四层,其中所述第四层包含氧化铌。6.根据权利要求2所述的电子设备,其中所述第三层包括金属。7.根据权利要求2所述的电子设备,其中所述第三层包含选自锡、铜和铝的金属。8.根据权利要求1所述的电子设备,其中所述第二层包含钛,并且其中所述第一层包含钛。9.根据权利要求1所述的电子设备,其中所述第一层和所述第二层由共同材料形成,其中所述共同材料为钛,并且其中所述第一层具有小于20纳米的厚度。10.根据权利要求1所述的电子设备,其中所述第一层具有第一厚度,所述第二层具有第二厚度,所述第三层具有第三厚度,所述第二层包括金属氧化物层,并且所述第一厚度和所述第三厚度的总和与所述第二厚度的比率至少为一。11.根据权利要求10所述的电子设备,其中所述第一层和所述第三层由不同的金属形成。12.根据权利要求11所述的电子设备,其中所述第一层包括钛...
【专利技术属性】
技术研发人员:M·S·罗杰斯,Q·A·S·阮,
申请(专利权)人:苹果公司,
类型:发明
国别省市:美国,US
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