【技术实现步骤摘要】
研磨装置及研磨方法
本专利技术涉及显示技术制成领域，尤其涉及一种研磨装置及研磨方法。
技术介绍
薄膜晶体管(ThinFilmTransistor，TFT)是目前液晶显示装置(LiquidCrystalDisplay，LCD)和有源矩阵驱动式有机电致发光显示装置(ActiveMatrixOrganicLight-EmittingDiode，AMOLED)中的主要驱动元件，直接关系平板显示装置的显示性能。现有市场上的液晶显示器大部分为背光型液晶显示器，其包括液晶显示面板及背光模组(backlightmodule)。液晶显示面板的工作原理是在薄膜晶体管阵列基板(ThinFilmTransistorArraySubstrate，TFTArraySubstrate)与彩色滤光片(ColorFilter，CF)基板之间灌入液晶分子，并在两片基板上分别施加像素电压和公共电压，通过像素电压和公共电压之间形成的电场控制液晶分子的旋转方向，以将背光模组的光线透射出来产生画面。目前在面板的制作过程中需要各式各样的设备，针对于切割(CUT)线的各类设备，发生频率最高，损失最严重的问题，就...
【技术保护点】
1.一种研磨装置，其特征在于，包括：具有间隔设置的放片区域(11)与取片区域(12)的运动轴(10)、设于所述运动轴(10)侧边并位于放片区域(11)与取片区域(12)之间的研磨单元(20)、设于所述运动轴(10)上的承载平台(30)、设于所述研磨单元(20)上的清洗单元(40)以及与所述清洗单元(40)连接的控制单元(50)；所述承载平台(30)用于在放片区域(11)、研磨单元(20)及取片区域(12)之间往复运动，并将待研磨的面板(60)从放片区域(11)搬运至研磨单元(20)，将研磨后的面板(60)从研磨单元(20)搬运至取片区域(12)；所述研磨单元(20)用于对待...
【技术特征摘要】
1.一种研磨装置，其特征在于，包括：具有间隔设置的放片区域(11)与取片区域(12)的运动轴(10)、设于所述运动轴(10)侧边并位于放片区域(11)与取片区域(12)之间的研磨单元(20)、设于所述运动轴(10)上的承载平台(30)、设于所述研磨单元(20)上的清洗单元(40)以及与所述清洗单元(40)连接的控制单元(50)；所述承载平台(30)用于在放片区域(11)、研磨单元(20)及取片区域(12)之间往复运动，并将待研磨的面板(60)从放片区域(11)搬运至研磨单元(20)，将研磨后的面板(60)从研磨单元(20)搬运至取片区域(12)；所述研磨单元(20)用于对待研磨的面板(60)进行研磨；所述控制单元(50)用于控制清洗单元(40)在承载平台(30)从取片区域(12)运动至研磨单元(20)时对承载平台(30)进行清洗。2.如权利要求1所述的研磨装置，其特征在于，还包括设于所述运动轴(10)的放片区域(11)上方的放片单元(70)；所述放片单元(70)用于在承载平台(30)位于放片区域(11)时将待研磨的面板(60)放置在承载平台(30)上。3.如权利要求1所述的研磨装置，其特征在于，还包括设于所述运动轴(10)的取片区域(12)上方的取片单元(80)；所述取片单元(80)用于在承载平台(30)位于取片区域(12)时取走研磨后的面板(60)。4.如权利要求1所述的研磨装置，其特征在于，所述控制单元(50)为PLC系统。5.如权利要求1所述的研磨装置，其特征在于，所述清洗单元(40)包括间隔设置的风刀及水刀。6.一种研磨方法，其特征在于，包括如下步骤：步...
【专利技术属性】
技术研发人员：高鹏，王军，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44
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