使用边缘场感测反射镜的位置制造技术

本申请涉及使用边缘场感测反射镜的位置。机械装置(20，60)包括基座(22)和移动元件(24)，移动元件被安装成围绕轴相对于基座旋转。电容式旋转传感器包括：在邻近基座的位置在移动元件上布置的至少一个第一电极(34，38，66)，以及在所述至少一个第一电极的附近在基座上布置的至少一个第二电极(32，36，62，64)。感测电路(50)被耦接以感测第一电极和第二电极之间的可变电容。

【技术实现步骤摘要】
使用边缘场感测反射镜的位置本申请是申请日为2015年1月20日，申请号为201510026430.5，专利技术名称为“使用边缘场感测反射镜的位置”的专利技术专利申请的分案申请。
本专利技术涉及监测旋转机械设备的运动，并且具体涉及监测扫描微镜的运动。
技术介绍
PCT国际公开WO2014/016794描述了基于微机电系统(MEMS)的扫描微镜，此公开通过参考被结合在此。在此公开中描述的实施例提供了扫描镜组件，包括：支撑结构；基座(也称为平衡架)，其被安装成围绕第一轴相对于支撑结构旋转；以及反射镜，其被安装以围绕第二轴相对于基座旋转。在WO2014/016794中描述的一种实施例中，使用在旋转轴的相对侧上的反射镜附近布置的电容式传感器板，电容式感测被用于监测反射镜的旋转。在所公开的实施例中，所述板相对于支撑结构的平面成一定角度，不过在其他实施中，所述板可以与支撑结构的平面平行。测量所述板和所述反射镜之间的电容变化以监测反射镜的旋转。
技术实现思路
在此描述的本专利技术的实施例提供了用于微型移动元件的电容式感测的改进技术。根据本专利技术的实施例，因而提供了一种机械装置，所述机械装置包括：基座和本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种机械装置，包括：基座，由半导体衬底形成并且包括平衡架；包括反射镜的移动元件，所述移动元件由半导体衬底形成并且被安装在所述平衡架上以围绕轴相对于所述平衡架旋转；沉积在所述反射镜的表面上的金属反射涂层；以及电容式旋转传感器，包括：置于所述平衡架上的所述半导体衬底上方的绝缘层；在所述反射镜的附近置于所述平衡架上的所述绝缘层上方的至少一个电极；以及感测电路，所述感测电路被耦接以感测沉积在所述反射镜的表面上的所述金属反射涂层与所述至少一个电极之间的可变电容。

【技术特征摘要】
2014.01.20 US 61/929,1401.一种机械装置，包括：基座，由半导体衬底形成并且包括平衡架；包括反射镜的移动元件，所述移动元件由半导体衬底形成并且被安装在所述平衡架上以围绕轴相对于所述平衡架旋转；沉积在所述反射镜的表面上的金属反射涂层；以及电容式旋转传感器，包括：置于所述平衡架上的所述半导体衬底上方的绝缘层；在所述反射镜的附近置于所述平衡架上的所述绝缘层上方的至少一个电极；以及感测电路，所述感测电路被耦接以感测沉积在所述反射镜的表面上的所述金属反射涂层与所述至少一个电极之间的可变电容。2.根据权利要求1所述的机械装置，其中所述基座限定一平面，以及所述移动元件在所述平面中具有机械均衡位置，使得当所述移动元件处于机械均衡位置时，所述反射镜和所述至少一个电极共面。3.根据权利要求1或2所述的机械装置，其中所述至少一个电极具有沿着与所述移动元件围绕其旋转的轴垂直的方向伸长的形状。4.根据权利要求1或2所述的机械装置，其中所述至少一个电极具有沿着与所述移动元件围绕其旋转的轴平行的方向伸长的形状。5.根据权利要求1或2所述的机械装置，其中所述感测电路被配置为响应于感测到的电容输出所述移动元件相对于所述平衡架的旋转角的指示。6.根据权利要求5所述的机械装置，其中由所述感测电路感测到的电容随着所述移动元件的旋转角非线性变化，并且其中所述感测电路被配置为在依据感测到的电容变化得出...

【专利技术属性】
技术研发人员：R·埃尔里奇，
申请(专利权)人：苹果公司，
类型：发明
国别省市：美国,US