The utility model discloses a semiconductor device, which comprises a chamber and a vacuum pump, a flexible sealing tube and a vacuum pump bracket, wherein the flexible sealing tube is connected between the outlet of the chamber and the inlet of the vacuum pump to reduce the vibration transmitted by the vacuum pump to the chamber, and the vacuum pump bracket is used to support the vacuum pump. The utility model connects the chamber and the vacuum pump through a flexible sealing tube, and supports the vacuum pump separately through the support of the vacuum pump, so that the vibration and force generated by the vacuum pump can not be transmitted to the chamber, thus avoiding the chamber vibration caused by the vibration of the vacuum pump itself, and increasing the stability of the semiconductor equipment.
【技术实现步骤摘要】
半导体设备
本技术涉及半导体集成电路制造领域，具体地，涉及一种半导体设备。
技术介绍
物理气象沉积(PhysicalVaporDeposition，PVD)的半导体设备对腔室的真空度有很高的要求，一般需要在1e-6以下的真空度中进行工艺。这样的真空度要求需要腔室用普通干泵粗抽腔室后，用高真空泵维持腔室的高真空状态。高真空泵包括分子泵、冷凝泵等，通过KF、CF、ISO等真空法兰与腔室连接起来。图1为相关技术中腔室与真空泵的连接示意图。如图1所示，真空泵18通过阀门19与腔室12实现连接，阀门19的作用是可以调整真空泵18与腔室12之间开口的打开、关闭或者是开口大小。一般的PVD工艺设备工作流程为：机械手通过隔离阀11将基片13放在顶针15上，顶针15下降使得基片13落在基座14上，基片13在基座14上进行物理气象沉积工艺，工艺结束后顶针15从基座14上顶起基片，机械手从隔离阀11深入到基片13与基座14中间的空隙中取走基片13，完成整个工艺过程。在图1中，真空泵18、阀门16以及腔室12之间通过法兰19进行刚性连接，整个系统只对腔室12进行支撑而真空泵18的重量通过...
【技术保护点】
1.一种半导体设备，包括腔室和真空泵，其特征在于，还包括柔性密封管和真空泵支架，其中，所述柔性密封管连接在所述腔室的出口和所述真空泵的入口之间，以减小所述真空泵传递给所述腔室的震动；所述真空泵支架用于支撑所述真空泵。
【技术特征摘要】
1.一种半导体设备，包括腔室和真空泵，其特征在于，还包括柔性密封管和真空泵支架，其中，所述柔性密封管连接在所述腔室的出口和所述真空泵的入口之间，以减小所述真空泵传递给所述腔室的震动；所述真空泵支架用于支撑所述真空泵。2.根据权利要求1所述的半导体设备，其特征在于，所述真空泵支架包括底座、设置在所述底座上的第一卡具组和第二卡具组；所述第一卡具组用于在竖直方向上对所述真空泵限位，所述第二卡具组用于在水平方向上对所述真空泵限位。3.根据权利要求2所述的半导体设备，其特征在于，所述柔性密封管为波纹管。4.根据权利要求3所述的半导体设备，其特征在于，还包括阀门和法兰，其中，所述法兰连接在所述真空泵的入口一侧，所述阀门的出口与所述法兰连接；所述柔性密封管的一端与所述阀门的入口连接，所述柔性密封管的另一端与所述腔室的出口的连接。5.根据权利要求3所述的半导体设备，其特征在于，还包括阀门和法兰，其中，所述法兰连接在所述真空泵的入口一侧，所述阀门的入口连接在所述腔室的...
【专利技术属性】
技术研发人员：武学伟，董博宇，郭冰亮，李丽，徐宝岗，刘玉杰，武树波，杨依龙，
申请(专利权)人：北京北方华创微电子装备有限公司，
类型：新型
国别省市：北京,11
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