根据大气压力下的一系列溶剂分压来研究多孔有效衬底表面的光学性质的变化的系统和方法技术方案

用于研究多孔有效衬底表面的光学性质的变化的系统和方法，所述光学性质涉及例如有效表面深度和折射率、孔径、孔体积和大气压力下的孔径分布。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】根据大气压力下的一系列溶剂分压来研究多孔有效衬底表面的光学性质的变化的系统和方法本申请要求于2016年3月18日提交的美国申请序列号14/999,015的优先权。
本专利技术涉及用于研究衬底的系统和方法，更具体地涉及用于研究多孔有效衬底表面的光学性质的变化的系统和方法，所述光学性质涉及例如有效表面深度和折射率、孔径、孔体积和大气压力下的孔径分布。
技术介绍
已知从含有分析物的液体将含有已知分析物的薄膜沉积到衬底上。例如，Pfeiffer等人名下的第8,531,665、8,493,565、8,130,375和7,817,266号的专利描述了小室，使含有分析物的流体流入该小室中，使得存在于所述流体中的分析物沉积到衬底上。还规定将椭圆偏振仪波束引导到含有分析物的所述薄膜上，并且在使用期间，使偏振的电磁辐射束与所述衬底上的薄膜相互作用，然后进入检测器。还已知表征包括孔的衬底的有效表面，通过瞬时使溶剂渗透到其中足够长以允许针对一系列溶剂值对其进行椭圆偏振测量研究。已知的相关参考文献是：Baklanov等人名下的第6,435,008、6,319,736和6,662,631号专利；Boissire本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于研究多孔有效衬底的光学性质的变化的系统，所述衬底包括表面，所述光学性质涉及选自由以下各项构成的组中的至少一种选择：有效表面深度和折射率；孔径；孔体积；和大气压力下的孔径分布；所述系统能够使气体在一系列不同的已知溶剂分压下流动，所述气体在其中含有至少一种溶剂并且在监测温度下流过所述衬底的表面，所述系统包括：a)至少一种溶剂流的至少一个源和引起溶剂质量流的控制器；b)气体流的源和引起气体质量流的控制器；c)雾化喷嘴，其用于接收气体流和至少一种溶剂流，并且使所述至少一种溶剂在所述气体中的混合物在一系列溶剂分压下排出在所述衬底上；d)包括所述衬底和温度监测传感器的开放室，所述衬底包括表面；...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.03.18 US 14/999,0151.一种用于研究多孔有效衬底的光学性质的变化的系统，所述衬底包括表面，所述光学性质涉及选自由以下各项构成的组中的至少一种选择：有效表面深度和折射率；孔径；孔体积；和大气压力下的孔径分布；所述系统能够使气体在一系列不同的已知溶剂分压下流动，所述气体在其中含有至少一种溶剂并且在监测温度下流过所述衬底的表面，所述系统包括：a)至少一种溶剂流的至少一个源和引起溶剂质量流的控制器；b)气体流的源和引起气体质量流的控制器；c)雾化喷嘴，其用于接收气体流和至少一种溶剂流，并且使所述至少一种溶剂在所述气体中的混合物在一系列溶剂分压下排出在所述衬底上；d)包括所述衬底和温度监测传感器的开放室，所述衬底包括表面；所述系统不包括用于控制所述开放室中的分压值的分压传感器反馈回路，而是根据所测量的温度完全通过直接控制所述至少一种溶剂的溶剂流量来设定所述开放室中的分压值；使得在使用中，所述温度监测传感器提供温度的测量，并且所述雾化喷嘴接收来自分别与所述气体流的源和所述至少一种溶剂流的至少一个源相关联的所述引起气体质量流的控制器和所述引起溶剂质量流的控制器的气体流和至少一种溶剂流，并且作为响应，排出所述至少一种溶剂在所述气体中的混合物，所述混合物被致使经过所述开放室中的所述衬底的表面，使得对于一系列溶剂分压中的每一个而言，所述溶剂瞬时渗透所述衬底表面足够长以从其获得数据；所述溶剂的所述分压由所测量的温度和溶剂流量确定。2.根据权利要求1所述的系统，所述系统还包括椭圆偏振仪系统，所述椭圆偏振仪系统包括：偏振态发生器，其定向成将偏振的电磁辐射束引导在所述衬底的所述表面处；以及偏振态检测器，其定向成在所述电磁辐射束与所述衬底的所述表面相互作用之后检测所述电磁辐射束并且产生衬底表面表征数据。3.根据权利要求1所述的系统，其中，所述系统存在于开放大气中，并且其中所述开放室中的静压既不大于也不小于所述开放大气的静压。4.根据权利要求1所述的系统，其中，所述系统存在于具有处于其常规比率的非大气组分的常规环境中，并且其中所述开放室中的静压既不大于也不小于常规环境大气的静压，所述常规环境大气基本等于当时大气压力。5.一种用于研究衬底表面的光学性质的变化的方法，所述方法包括以下步骤：A)提供用于研究多孔有效衬底的光学性质的变化的系统，所述衬底包括表面，所述光学性质涉及选自由以下各项构成的组中的至少一种选择：有效表面深度和折射率；孔径；孔体积；和大气压力下的孔径分布；所述系统能够使气体在一系列不同的已知溶剂分压下流动，所述气体在其中含有至少一种溶剂并且在监测温度下流过所述衬底的表面，所述系统包括：a)至少一种溶剂流的至少一个源和引起溶剂质量流的控制器；b)气体流的源和引起气体质量流的控制器；c)雾化喷嘴，其用于接收气体流和至少一种溶剂流，并且使所述至少一种溶剂在所述气体中的混合物在一系列溶剂分压下排出在所述衬底上；d)包括所述衬底和温度监测传感器的开放室，所述衬底包括表面；所述系统不包括用于控制所述开放室中的分压值的分压传感器反馈回路，而是根据所测量的温度完全通过直接控制所述至少一种溶剂的溶剂流量来设定所述开放室中的分压值；使得在使用中，所述温...

【专利技术属性】
技术研发人员：J·A·范德斯利斯，C·A·歌德，M·M·理帕特，
申请(专利权)人：JA伍兰牡股份有限公司，
类型：发明
国别省市：美国,US