【技术实现步骤摘要】
雷达料位测量装置及雷达料位测量装置的操作方法
本专利技术总体涉及基于雷达的料位测量领域。本专利技术特别涉及用于判断介质的料位的具有适配发射功率的雷达料位测量装置。本专利技术还涉及这种雷达料位测量装置的操作方法。本专利技术进一步涉及指令雷达料位测量装置执行该方法的程序单元，还涉及存储有该程序单元的计算机可读存储介质。相关申请的交叉引用本申请要求2017年7月25日提交的欧洲专利申请第17183047.4号的优先权，该申请的内容通过引用并入本文。
技术介绍
基于雷达的料位测量装置和/或雷达料位测量装置通常包括雷达模块，该雷达模块用于生成发射信号，特别是高频雷达发射信号。通常，在雷达料位测量装置中，发射信号或雷达发射信号被发送至介质表面，于是，发射信号的一部分被表面反射，相应地由雷达料位测量装置作为接收信号接收。因此，基于传播时间法，能够判断出雷达料位测量装置离介质表面和/或介质的料位的距离。实际上，为了确定料位，接收信号通常转换成与接收信号相关的数字测量信号。之后，在考虑至少一个估算参数的情况下，通常估计和/或处理所得到的测量信号。例如，可使用接收信号的幅度的事先规定...
【技术保护点】
1.一种雷达料位测量装置(10)，用于确定介质的料位，该雷达料位测量装置(10)包括：发射单元(12)，其用于向所述介质发送发射信号；接收单元(13)，其用于接收被所述介质反射的接收信号；以及控制器(11)，其配置成基于所述接收信号以及基于至少一个估算参数确定所述介质的所述料位；其中，所述雷达料位测量装置(10)被配置用于改变所述发射信号的发射功率；其中，所述控制器(11)被配置用于确定所述发射信号的当前发射功率；并且，其中，为了确定所述的料位，所述控制器(11)被配置成基于所确定的所述当前发射功率改变所述至少一个估算参数的值和/或与所述接收信号相关的至少一个测量信号(30...
【技术特征摘要】
2017.07.25 EP 17183047.41.一种雷达料位测量装置(10)，用于确定介质的料位，该雷达料位测量装置(10)包括：发射单元(12)，其用于向所述介质发送发射信号；接收单元(13)，其用于接收被所述介质反射的接收信号；以及控制器(11)，其配置成基于所述接收信号以及基于至少一个估算参数确定所述介质的所述料位；其中，所述雷达料位测量装置(10)被配置用于改变所述发射信号的发射功率；其中，所述控制器(11)被配置用于确定所述发射信号的当前发射功率；并且，其中，为了确定所述的料位，所述控制器(11)被配置成基于所确定的所述当前发射功率改变所述至少一个估算参数的值和/或与所述接收信号相关的至少一个测量信号(30)，使得在考虑所述发射功率的情况下确定所述料位。2.根据权利要求1所述的雷达料位测量装置(10)，其中，所述至少一个估算参数包括用于与所述接收信号相关的所述测量信号(30)的幅度的阈值(23，24)，并且，其中，所述控制器(11)配置成基于确定的所述当前发射功率确定和/或改变所述阈值(23，24)。3.根据权利要求1或2所述的雷达料位测量装置(10)，其中，所述控制器(11)配置成基于多个估算参数确定所述介质的所述料位，并且，其中，为了确定所述的料位，所述控制器(11)配置成基于确定的所述当前发射功率确定和/或改变所述多个估算参数中的各者的值。4.根据权利要求1或2所述的雷达料位测量装置(10)，其中，所述控制器(11)配置成与所述发射功率成线性关系或成对数关系地改变所述至少一个估算参数的值，和/或其中，所述控制器(11)配置成与所述发射功率成线性关系或成对数关系地改变与所述接收信号相关的所述至少一个测量信号(30)。5.根据权利要求1或2所述的雷达料位测量装置(10)，其中，所述至少一个估算参数包括干扰信号抑制(25，26)，所述干扰信号抑制(25，26)包括与干扰物体的位置相关的信息。6.根据权利要求5所述的雷达料位测量装置(10)，其中，所述干扰信号抑制(25，26)包括杂波曲线，所述杂波曲线与所述干扰物体的位置相关，和/或其中，所述干扰信号抑制(25，26)包括空容器曲线，所述空容器曲线与所述介质的容器的几何形状相关。7.根据权利要求1或2所述的雷达料位测量装置(10)，其中，所述控制器(11)配置成利用预定发射...
【专利技术属性】
技术研发人员：克里斯蒂安·霍福里尔，约阿希姆·本茨，托马斯·德克，约翰内斯·弗朗茨，马丁·盖瑟，卡尔·格里斯鲍姆，于尔根·哈斯，安德烈亚斯·伊森曼，曼努埃尔·考夫曼，于尔根·莫茨尔，丹尼尔·舒尔特海斯，罗兰·韦勒，
申请(专利权)人：VEGA格里沙贝两合公司，
类型：发明
国别省市：德国,DE
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