【技术实现步骤摘要】
Mura侦测方法及装置
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种Mura侦测方法及装置。
技术介绍
平板显示装置具有机身薄、省电、无辐射等众多优点，得到了广泛的应用。目前的显示面板由于生产工艺等原因经常会具有亮暗不均(Mura)缺陷，因而需要适合面板制造行业的Mura侦测方法。参见图1，其为传统离散余弦变换(DCT)背景重建的Mura侦测流程图，侦测Mura的流程主要包括：将输入图像进行DCT变换；提取DCT系数，经验性选择合适的截止频率；进行DCT逆变换得到重建的背景图像；采用差分图像的方式进行Mura缺陷分割，用输入图像减去背景图像，从而得到反映Mura缺陷分割结果的Mura图像，将Mura图像作为结果输出。传统DCT背景重建需要选用合适的截止频率来进行背景重建；但由于截止频率的选择有主观特性，因此还原出的背景并不准确，侦测的结果有很大误差；当Mura缺陷对比度较低时，还原的效果较差，Mura侦测类型单一。
技术实现思路
因此，本专利技术的目的在于提供一种Mura侦测方法及装置，改善传统背景重建算法准确性及流程，克服Mura侦测类型单一的缺点。为实现上述目的，本专...
【技术保护点】
1.一种Mura侦测方法，其特征在于，包括：步骤10、输入测试图像；步骤20、对测试图像执行直方图均衡化操作后，选择合适的或最佳化CV模型参数进行Mura缺陷分割，获得第一Mura图像；步骤30、对测试图像执行PCA操作，选择合适的或最佳化主特征值参数进行背景重建以获得第一背景图像，差分测试图像和第一背景图像以获得第二Mura图像；步骤40、对测试图像执行DCT操作，选择合适的或最佳化截止频率参数进行背景重建以获得第二背景图像，差分测试图像和第二背景图像以获得第三Mura图像；步骤50、对第二Mura图像和第三Mura图像进行交集操作，以获得第四Mura图像；步骤60、对第...
【技术特征摘要】
1.一种Mura侦测方法，其特征在于，包括：步骤10、输入测试图像；步骤20、对测试图像执行直方图均衡化操作后，选择合适的或最佳化CV模型参数进行Mura缺陷分割，获得第一Mura图像；步骤30、对测试图像执行PCA操作，选择合适的或最佳化主特征值参数进行背景重建以获得第一背景图像，差分测试图像和第一背景图像以获得第二Mura图像；步骤40、对测试图像执行DCT操作，选择合适的或最佳化截止频率参数进行背景重建以获得第二背景图像，差分测试图像和第二背景图像以获得第三Mura图像；步骤50、对第二Mura图像和第三Mura图像进行交集操作，以获得第四Mura图像；步骤60、对第一Mura图像和第四Mura图像进行并集操作，以获得第五Mura图像。2.如权利要求1所述的Mura侦测方法，其特征在于，还包括使用带有Mura缺陷的训练样本图像训练最佳化CV模型参数的步骤。3.如权利要求1所述的Mura侦测方法，其特征在于，还包括使用带有Mura缺陷的训练样本图像训练最佳化主特征值参数的步骤。4.如权利要求1所述的Mura侦测方法，其特征在于，还包括使用带有Mura缺陷的训练样本图像训练最佳化截止频率参数的步骤。5.如权利要求1所述的Mura侦测方法，其特征在于，所述CV模型所采用的能量函数如下：E(C)＝μL(C)+v*Area(insid(C))+λ1∫inside(C)|I(x，y)-c0|2dxdy+λ2∫outside(C)|I(x，y)cb|2dxdy，其中，C表示用于分割图像中Mura缺陷与非Mura区的闭合曲线，μL(C)为长度约束项，v*Area(inside(C))为面积约束项，λ1∫inside(C)|I(x，y)-c0|2dxdy表示曲线C的内部均方差之和；λ2∫outside(C)|I(x，y)-cb|2dxdy表示曲线C的外部均方差之和；I(x，y)是图像内任一像素点的灰度；C0表示曲线C内部区域的平均灰度；Cb表示曲线C外部区域的平均灰度；μ，v，λ1，以及λ2为固定系数。6.一种Mura侦测装置，其特征在于，包括：输...
【专利技术属性】
技术研发人员：史超超，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44
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