【技术实现步骤摘要】
基于达曼光栅的激光直写装置
本专利技术涉及激光直写技术，特别是一种基于达曼光栅的激光直写装置。
技术介绍
大尺寸衍射光栅在高功率激光、啁啾脉冲压缩技术中有着越来越多的应用，是光学系统和科学仪器如大型天文望远镜、惯性约束核聚变激光点火系统中的核心关键光学器件。制备大尺寸、高精度、满足高功率激光等应用的衍射光学元器件成为了现在急需解决的问题。微电子加工技术在衍射光学元件的制备领域已经取得了巨大的进展。激光直写技术作为微电子加工技术中的一类新兴技术，其发展受到了越来越多的关注，激光直写技术发展日趋成熟。激光直写技术是一种可以实现大面积和任意图案分布的低成本无掩模光刻技术。相比传统全息技术、电子束光刻技术，激光直写技术具有更高的灵活性、价格相对较低。且激光直写技术相对其他有掩膜光刻技术而言,不需要昂贵的掩膜版,降低了成本及损耗。激光直写装置的进一步发展受到刻写速度和精度的影响及约束。现有技术中采用达曼光栅能够实现大面积光栅的制备，然而仅采用达曼光栅，可以提高直写速度，但是直写的精度仍受限于激光的瑞利分辨的衍射极限。为了提高大面积光栅的精度，我们需要在光束精度上进一步提高改...
【技术保护点】
1.基于达曼光栅的激光直写装置，其包括，移动平台(20)，达曼光栅激光直写光路以及自聚焦光路，其中，所述达曼光栅激光直写光路包括激发光光源(1)以及损耗光光源(3)，激发光光源(1)及损耗光光源(3)输出的光束传输经过二色相镜(5)以及达曼光栅(7)之后聚焦于待刻写的光栅基片表面，激发光光源(1)与损耗光光源(3)的光斑重叠，形成超分辨的多束光点；所述自聚焦光路包括红光激光器(21)，所述红光激光器(21)输出的光束经偏振分光棱镜(15)后，经由显微物镜(18)聚焦于待刻写的光栅基片表面，被所述待刻写的光栅基片反射后的光束经偏振分光棱镜(15)、柱面透镜组(14)之后，传输...
【技术特征摘要】
1.基于达曼光栅的激光直写装置，其包括，移动平台(20)，达曼光栅激光直写光路以及自聚焦光路，其中，所述达曼光栅激光直写光路包括激发光光源(1)以及损耗光光源(3)，激发光光源(1)及损耗光光源(3)输出的光束传输经过二色相镜(5)以及达曼光栅(7)之后聚焦于待刻写的光栅基片表面，激发光光源(1)与损耗光光源(3)的光斑重叠，形成超分辨的多束光点；所述自聚焦光路包括红光激光器(21)，所述红光激光器(21)输出的光束经偏振分光棱镜(15)后，经由显微物镜(18)聚焦于待刻写的光栅基片表面，被所述待刻写的光栅基片反射后的光束经偏振分光棱镜(15)、柱面透镜组(14)之后，传输至四象限探测器(13)。2.根据权利要求1的所述激光直写装置，其特征在于，所述激发光光源(1)输出光束方向设置有反射镜(2)，所述损耗光光源(3)输出光束方向设置有涡旋相位板(4)以及二色相镜(5)，在所述反射镜(2)的反射方向是二色相镜(5)，光束经过二色相镜(5)之后依次经过第一小孔光阑(6)、达曼光栅(7)、第一扩束透镜组(9)、第二小孔光阑(10)、反射镜(11)以及第二扩束透镜组(12)，经所述第二扩束透镜组(12)的光束经分光镜(16)后聚焦于待刻写的光栅基片表面。3.根据权利要求1或2的所述激光直写装置，所述激发光光源(1)的光斑为艾里斑，所述损耗光光源(3)经过所述涡旋相位板(4)的空间调制以后形成甜甜圈状光斑。4.根据权利要求1或2的所...
【专利技术属性】
技术研发人员：王津，周常河，贾伟，谢永芳，赵冬，项长铖，
申请(专利权)人：暨南大学，
类型：发明
国别省市：广东,44
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