光敏树脂模型及其后处理方法技术

本公开提供了一种光敏树脂模型及其后处理方法，属于光敏树脂模型技术领域。该光敏树脂模型的后处理方法包括步骤：提供至少一个所述光敏树脂模型；在各所述光敏树脂模型表面涂覆活性剂后进行干燥；对各所述光敏树脂模型进行退火。利用本公开提供的光敏树脂模型的后处理方法所制备的光敏树脂模型，其内部应力比较小，在应用于光弹性技术领域时，其初始应力条纹级数比较小，光弹性试验精度比较高。

Photosensitive Resin Model and Post-processing Method

The invention provides a photosensitive resin model and a post-processing method, belonging to the technical field of photosensitive resin model. The post-processing method of the photosensitive resin model comprises the following steps: providing at least one of the photosensitive resin models; drying after coating the surface of the photosensitive resin models with active agents; and annealing the photosensitive resin models. The photosensitive resin model prepared by the post-processing method of the photosensitive resin model provided in the present disclosure has smaller internal stress, smaller initial stress fringe series and higher photoelastic test accuracy when applied in the field of photoelastic technology.

【技术实现步骤摘要】
光敏树脂模型及其后处理方法
本公开涉及光敏树脂模型
，尤其涉及一种光敏树脂模型及其后处理方法。
技术介绍
光弹性试验目前是验证有限元分析计算结果是否正确的有效手段，光弹性试验对象为光弹性模型，光弹性模型的质量是影响光弹性试验精度的重要因素。采用激光快速成型技术直接成型的光敏树脂模型作为光弹性模型是国内外研究的方向之一，这种技术具有成本低、成型快和环保性好等特点。近年来国内光敏树脂模型制作技术开始在非航产品光弹性试验领域推广应用。当把该技术应用到航空发动机核心机及技术验证机阶段薄壁构件的平面光弹性试验时，发现误差较大，其中光敏树脂模型中存在初始应力是重要因素。在激光快速成型光敏树脂模型时，层与层之间存在热应力而产生初始应力，后处理过程中也容易产生初始应力。这些在加工与后处理过程中产生的初始应力，其引起的变形在光学仪器下表现为初始应力条纹。初始应力条纹与光弹性试验加载产生的应力条纹重叠，会干扰试验条纹的准确判读，从而影响光弹性试验精度。尤其是当厚度不大于3毫米薄壁的构件初始应力条纹级次大于0.2时，它对光弹性试验产生的误差可能超过6.6％。因此，需要采取有效措施降低初始应力条纹级次，减小其对光弹性试验的误差，从而提高光敏树脂模型光弹性试验的精度。为了减小光敏树脂模型的初始应力条纹级次，光敏树脂模型常采用如下后处理流程：成型件清洗、支撑、表面处理打磨、补缺、喷漆、打磨、质量检查、包装和交付。然而，由于不同牌号的光敏树脂的性能的差异，导致不同光敏树脂牌号的模型后处理工艺不一定能共用。某一牌号的光敏树脂的模型如果直接采用其它牌号的处理方法，容易产生减小初始应力条纹级次不理想的情况，并引起较大的试验误差。因此，尽管现有技术中存在一些减小光敏树脂模型的初始应力条纹级次的方法，然而依然有许多牌号的光敏树脂所制备的光敏树脂模型没有适应的处理方法。举例而言，牌号为11122#光敏树脂作为一种具有较好光学性能与力学性能的光敏树脂模型材料，由其所制备的光敏树脂模型尚且没有有效的降低初始应力条纹级次的方法。所述
技术介绍
部分公开的上述信息仅用于加强对本公开的背景的理解，因此它可以包括不构成对本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。
技术实现思路
本公开的目的在于提供一种光敏树脂模型及其后处理方法，该光敏树脂模型的初始应力条纹的级次小，有利于降低光敏树脂模型光弹性试验的误差。为实现上述专利技术目的，本公开采用如下技术方案：根据本公开的第一个方面，提供一种光敏树脂模型的后处理方法，包括：提供至少一个所述光敏树脂模型；在各所述光敏树脂模型表面涂覆活性剂后进行干燥；对各所述光敏树脂模型进行退火。在本公开的一种示例性实施例中，对各所述光敏树脂模型进行退火包括：将所述光敏树脂模型在30～35℃保温5～10h，然后升温至55～60℃并保温5～10h，然后降温至30～35℃并保温5～10h。在本公开的一种示例性实施例中，升温至55～60℃时，升温速率为5～10℃/h。在本公开的一种示例性实施例中，降温至30～35℃时，降温速率为3～5℃/h。在本公开的一种示例性实施例中，所述活性剂为甘油。在本公开的一种示例性实施例中，所述干燥的时间为24～36h，所述干燥的温度为30～35℃。在本公开的一种示例性实施例中，在在各所述光敏树脂模型表面涂覆活性剂之前，所述光敏树脂模型的后处理方法还包括：打磨和抛光所述光敏树脂模型。在本公开的一种示例性实施例中，所述光敏树脂模型的数量为多个，所述后处理方法还包括：取任一退火后的所述光敏树脂模型进行检测，若该退火后的所述光敏树脂模型的初始应力条纹级次满足预设标准，则其余退火后的所述光敏树脂模型作为合格的所述光敏树脂模型。在本公开的一种示例性实施例中，所述预设标准为厚度不大于3毫米时，应力条纹级次不大于0.1。根据本公开的第二个方面，提供一种光敏树脂模型，所述光敏树脂模型经过上述的后处理方法处理过的。本公开提供的光敏树脂模型的后处理方法，通过在光敏树脂模型表面涂覆活性剂并进行干燥，减小了光敏树脂模型内的小分子(如水分子等)含量，进而减小了后处理后的光敏树脂模型的时间边缘效应，使得后处理后的光敏树脂模型的内部初始应力状态可以较长时间维持。光敏树脂模型在恒温干燥后，再进行退火，可以有效消除光敏树脂模型中的部分应力，减小光敏树脂模型的初始应力。光敏树脂模型应用于光弹性试验时，光敏树脂模型的初始应力条纹的级次小，减少了初始应力条纹对试验条纹的干扰，减小了光弹性试验的误差，提高了光弹性试验的精度。附图说明通过参照附图详细描述其示例实施方式，本公开的上述和其它特征及优点将变得更加明显。图1是本公开实施方式的光敏树脂模型的后处理方法的流程图。具体实施方式现在将参考附图更全面地描述示例实施例。然而，示例实施例能够以多种形式实施，且不应被理解为限于在此阐述的范例；相反，提供这些实施例使得本公开将更加全面和完整，并将示例实施例的构思全面地传达给本领域的技术人员。所描述的特征、结构或特性可以以任何合适的方式结合在一个或更多实施例中。在下面的描述中，提供许多具体细节从而给出对本公开的实施例的充分理解。用语“一个”、“一”、“所述”用以表示存在一个或多个要素/组成部分/等；用语“包括”和“具有”用以表示开放式的包括在内的意思并且是指除了列出的要素/组成部分/等之外还可存在另外的要素/组成部分/等。本公开实施方式中提供一种光敏树脂模型的后处理方法，该光敏树脂模型可以是用于光弹性试验的光敏树脂模型。本公开的光敏树脂，可以是牌号为11122#的光敏树脂，该牌号的光敏树脂具有多个生产厂家(可以在光敏树脂网上寻找)，技术人员可以进行选购，例如可以购买DMS公司的WaterShedXC11122树脂。本公开提供的光敏树脂模型的后处理方法，目的是降低光敏树脂模型在试验前存在的初始应力，降低其初始应力条纹，减小其初始应力条纹对光弹性试验的干扰，提高光弹性试验的精度。该后处理方法处理后的光敏树脂模型，主要用于平面光弹性试验，尤其是适用于为航空发动机技术验证机及以前阶段的平面光弹性试验。如图1所示，该光敏树脂模型的后处理方法包括步骤：步骤S100，提供至少一个光敏树脂模型；步骤S200，在各光敏树脂模型表面涂覆活性剂后进行干燥；步骤S300，对各光敏树脂模型进行退火。本公开提供的光敏树脂模型的后处理方法，通过在光敏树脂模型表面涂覆活性剂并进行干燥，减小了光敏树脂模型内的小分子(如水分子等)含量，进而减小了后处理后的光敏树脂模型的时间边缘效应，使得后处理后的光敏树脂模型的内部初始应力状态可以较长时间维持。光敏树脂模型在恒温干燥后，再进行退火，可以有效消除光敏树脂模型中的部分应力，减小光敏树脂模型的初始应力。光敏树脂模型应用于光弹性试验时，光敏树脂模型的初始应力条纹的级次小，减少了初始应力条纹对试验条纹的干扰，减小了光弹性试验的误差(尤其是初始应力引起的试验误差将小于3.3％)，提高了光弹性试验的精度。下面结合附图对本公开实施方式提供的光敏树脂模型的后处理方法的各个步骤进行详细说明。如图1所示，在步骤S100中，提供光敏树脂模型的方法是多样的，包括但不限于制备光敏树脂模型、接收不同部门提供的光敏树脂模型、回收不合格的光敏树脂模型和购买光敏树脂模型中的任何一种本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光敏树脂模型的后处理方法，其特征在于，包括：提供至少一个所述光敏树脂模型；在各所述光敏树脂模型表面涂覆活性剂后进行干燥；对各所述光敏树脂模型进行退火。

【技术特征摘要】
1.一种光敏树脂模型的后处理方法，其特征在于，包括：提供至少一个所述光敏树脂模型；在各所述光敏树脂模型表面涂覆活性剂后进行干燥；对各所述光敏树脂模型进行退火。2.根据权利要求1所述的光敏树脂模型的后处理方法，其特征在于，对各所述光敏树脂模型进行退火包括：将所述光敏树脂模型在30～35℃保温5～10h，然后升温至55～60℃并保温5～10h，然后降温至30～35℃并保温5～10h。3.根据权利要求2所述的光敏树脂模型的后处理方法，其特征在于，升温至55～60℃时，升温速率为5～10℃/h。4.根据权利要求2所述的光敏树脂模型的后处理方法，其特征在于，降温至30～35℃时，降温速率为3～5℃/h。5.根据权利要求1所述的光敏树脂模型的后处理方法，其特征在于，所述活性剂为甘油。6.根据权利要求1所述的光敏树脂模型的后处理方法，其...

【专利技术属性】
技术研发人员：郭天才，李维，朱涛，文华，
申请(专利权)人：中国航发湖南动力机械研究所，
类型：发明
国别省市：湖南,43