一种柔性电容触摸屏的制造方法技术

一种柔性电容触摸屏的制造方法，包括：步骤一、在一玻璃基板的第一面涂布聚酰胺酸溶液并聚合为PI膜，所述PI膜的边缘处于玻璃基板的第一面，PI膜之外存在玻璃基板的裸露区；步骤二、在PI膜的边缘上形成一隔阻层，所述阻隔层跨过PI膜的边缘，从所述裸露区覆盖至所述PI膜边缘的部分膜体上；步骤三、在PI膜上制作电容触摸屏的触控电路层；步骤四、将带有触控电路层的PI膜从玻璃基板上剥离出来，得到基于PI膜的柔性电容触摸屏。这种柔性电容触摸屏的制造方法，其可避免构成的触摸屏的PI膜提前从玻璃基板上脱落，由此可提高整个柔性电容触摸屏制程的成功率。

【技术实现步骤摘要】
一种柔性电容触摸屏的制造方法
本专利技术涉及一种电容触摸屏的制造方法，尤其是一种柔性电容触摸屏的制造方法，属于电容触摸屏的制造

技术介绍
有人提出，将电容触摸屏的触控电路层制作在聚酰亚胺膜(PI膜)的基板上以得到一种柔性电容触摸屏，这种柔性电容触摸屏的制造方法一般包括：步骤一、在玻璃基板的第一面涂布聚酰胺酸溶液并聚合为PI膜；步骤二、在PI膜上制作电容触摸屏的触控电路层；步骤三、将带有触控电路层的PI膜从玻璃基板上剥离出来，得到基于PI膜的柔性电容触摸屏。在上述制造方法中，触控电路层由多个图形化的功能性薄膜相互叠合而成，其主要包括但不限于用来形成感应电极的透明导电层(如ITO层)、用于形成周边线路的金属层(如Mo-Al-Mo层)，以及绝缘层、遮挡层等膜层，上述膜层一般采用黄光工艺或光刻工艺图形化为触摸屏所需的图案(如电极图案、周边线路图案)，其过程需要采用水对PI膜进行清洗。当采用水对PI膜进行清洗时，水往往会从PI膜的边缘(PI膜边缘与玻璃基板的接合处)侵入并渗透到其与玻璃基板之间的界面上，由此造成整片PI膜提前从玻璃基板上脱落，从而造成了制程的失败。
技术实现思路
本专利技术的目的为提供一种柔性电容触摸屏的制造方法，其可避免构成的触摸屏的PI膜提前从玻璃基板上脱落，由此可提高整个柔性电容触摸屏制程的成功率，所采用的技术方案如下：一种柔性电容触摸屏的制造方法，其特征为，包括以下加工步骤：步骤一、在一玻璃基板的第一面涂布聚酰胺酸溶液并聚合为PI膜，所述PI膜的边缘处于玻璃基板的第一面，PI膜之外存在玻璃基板的裸露区；步骤二、在PI膜的边缘上形成一隔阻层，所述阻隔层跨过PI膜的边缘，从所述裸露区覆盖至所述PI膜边缘的部分膜体上；步骤三、在PI膜上制作电容触摸屏的触控电路层；步骤四、将带有触控电路层的PI膜从玻璃基板上剥离出来，得到基于PI膜的柔性电容触摸屏。具体地，所述玻璃基板优选为厚度0.5〜2.0mm的玻璃基板,尤其是钠钙玻璃基板，玻璃基板可采用碱液、表面活性剂等去油污清洁剂进行清洗以去除玻璃基板表面的油脂，保证PI膜在其表面具有良好的结合力。在所述步骤一中，聚酰胺酸溶液可以采用夹缝涂布法(slitcoating)、旋涂法或是丝印等方法涂布在玻璃基板的第一面，在预加热去除溶剂之后，通过高温或是化学催化等方法聚合形成所述PI膜；优选所述PI膜的厚度为5〜200μm。在所述步骤二中，所述阻隔层用于将PI膜的边缘覆盖起来，其可为不溶于水、不渗水的覆层，如聚合物、油墨等覆层，由此可避免在后续的加工步骤中，PI膜的边缘与水接触而被侵入。在所述步骤三中，所述触控电路层一般由构成触控电路的各个图形化膜层叠合而成，所述膜层可以包括但不限于金属薄膜(如钼铝钼薄膜、铬薄膜、铜薄膜)、透明导电膜(如ITO薄膜)、绝缘薄膜(如SiO2薄膜、光敏树脂涂层)，其可通过镀膜(如磁控溅射、化学气相沉积、蒸镀)、涂布(如slitcoating)、黄光工艺、光刻工艺或是印刷(如丝印)等方法成膜和图形化而形成电容触摸屏所需的电路(具体电路可参考触控行业的现有设计)。上述各个膜层在图形化(如显影或光刻)之后，一般需要采用水进行冲洗。在所述步骤四中，一般可采用刀片切割等方式将PI膜的边缘刮破形成破损口，再使水、酒精等极性液体或溶液与破损口接触、侵入，以致渗透到其与玻璃基板之间的界面中，由此使得整片制作好触控电路层的PI膜从玻璃基板上剥离下来而得到基于PI膜的柔性电容触摸屏；除此之外，上述PI膜还可以采用其他机械剥离方法或是激光剥离方法进行剥离，其剥离过程，还可以借助一定的紫外降粘胶层进行保护。在本专利技术的一优选方案中，所述隔阻层为一疏水涂层。所述阻隔层为疏水涂层，在后续工序采用水对玻璃基板进行清洗时，阻隔层可以利用其疏水的作用，将一定的气泡保持在PI膜边缘与玻璃基板的接合处(接合处一般存在凹角，气泡会被夹持在凹角处)，由此可更彻底地杜绝接合处与水的接触而被侵入；除此之外，这种阻隔层主要利用的是其疏水作用，因而不要求其具有较大的厚度，可优选其厚度小于1μm，由此可避免其对触控电路层的制作过程造成影响，例如，其不会影响到制作触控电路层时，光刻胶、光敏树脂等胶体的夹缝涂布(要求涂布的基底较为平整)。进一步优选地，所述阻隔层为硅胶层，尤其是有机硅涂层；或者，所述阻隔层为含氟聚合物涂层，如聚四氟乙烯层；无论是硅胶层或是含氟聚合物涂层，其均具有良好的疏水作用，且可以做得非常薄。所述阻隔层可通过喷涂方法，在PI膜的边缘喷涂并固化而成，或是采用真空蒸镀法，将其蒸镀在PI膜的边缘而成；在PI膜的形成过程中，可采用挡板或是掩膜挡住PI膜的其他位置，以避免阻隔层覆盖到PI膜的其他位置上而影响到触控电路层的制作。在本专利技术的一优选方案中，所述隔阻层为采用磁控溅射方式形成的无机或金属薄膜。由于磁控溅射过程中，镀膜的粒子(如原子)具有较大的能量，其轰击到PI膜边缘以及玻璃基板裸露区上，使得阻隔层与PI膜边缘和玻璃基板均具有良好的结合力且致密性非常好，因而能够有效地杜绝PI膜边缘被水所侵入；除此之外，磁控溅射所形成的无机或金属薄膜，其厚度一般也非常低，可优选其厚度小于1μm，由此可避免其对触控电路层的制作过程造成影响。进一步优选地，所述阻隔层与构成所述触控电路层的第一个膜层为同一膜层。由此，形成阻隔层的同时可形成触控电路层的第一个膜层，节省了步骤三中制作触控电路层时的相应工序，提高了制作的效率。在本专利技术的一具体方案中，所述阻隔层优选为二氧化硅(SiO2)薄膜，SiO2薄膜具有非常好的致密性，与PI基底和玻璃基板的结合均非常好，由此能够更好地对PI膜的边缘进行覆盖以杜绝水的侵入。更进一步优选地，所述SiO2薄膜还覆盖至PI膜的其他位置，形成了在PI膜之上制作触控电路层的缓冲层，其有利于改善触控电路层与PI膜膜体的结合。在本专利技术的一具体方案中，所述阻隔层为金属层，金属层具有良好的致密性，不透水，由此可以做得很薄。所述金属层可更进一步优选为金、钼、钨等耐酸金属层，由此其可避免阻隔层在后续的光刻过程中受到破坏，这种耐酸的金属层，在采用磁控溅射成膜时，可以采用掩膜的方法来避免其覆盖到PI膜的其他位置上。在本专利技术的一具体方案中，优选所述阻隔层为触控电路层中所用到的金属层，如用于形成周边线路的金属层，由此制作完阻隔层即可同时形成触控电路层中的金属层，节省了触控电路层相应的制作工序。优选地，所述金属层为钼铝钼薄膜，钼铝钼薄膜即具有“钼合金—铝合金—钼合金”三层结构的合金薄膜，尤其是具有“钼铌—铝钕—钼铌”三层合金结构的薄膜，其铝合金夹心层使得金属层具有良好的导电性，适合用于形成触摸屏的电路，而钼合金层一般化学性质更加稳定，可避免铝合金层与水发生化学反应，由此可保证阻隔层对水的阻隔性(仅在采用酸液蚀刻金属薄膜或其他薄膜时，阻隔层需要覆盖光刻胶进行保护)。在本专利技术的一具体方案中，优选所述阻隔层为触控电路层中所用到的透明导电层，如用于形成感应电极的透明导电层，由此制作完阻隔层即可同时形成触控电路层中的感应电极，节省了触控电路层相应的制作工序。具体地，所述阻隔层为氧化铟锡(ITO)薄膜，氧化铟锡薄膜也具有较高的致密性，由此可保证阻隔层的阻隔性(仅在采用酸液蚀刻氧化铟锡薄膜或其他薄膜时，本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种柔性电容触摸屏的制造方法，其特征为，包括以下加工步骤：步骤一、在一玻璃基板的第一面涂布聚酰胺酸溶液并聚合为PI膜，所述PI膜的边缘处于玻璃基板的第一面，PI膜之外存在玻璃基板的裸露区；步骤二、在PI膜的边缘上形成一隔阻层，所述阻隔层跨过PI膜的边缘，从所述裸露区覆盖至所述PI膜边缘的部分膜体上；步骤三、在PI膜上制作电容触摸屏的触控电路层；步骤四、将带有触控电路层的PI膜从玻璃基板上剥离出来，得到基于PI膜的柔性电容触摸屏。

【技术特征摘要】
1.一种柔性电容触摸屏的制造方法，其特征为，包括以下加工步骤：步骤一、在一玻璃基板的第一面涂布聚酰胺酸溶液并聚合为PI膜，所述PI膜的边缘处于玻璃基板的第一面，PI膜之外存在玻璃基板的裸露区；步骤二、在PI膜的边缘上形成一隔阻层，所述阻隔层跨过PI膜的边缘，从所述裸露区覆盖至所述PI膜边缘的部分膜体上；步骤三、在PI膜上制作电容触摸屏的触控电路层；步骤四、将带有触控电路层的PI膜从玻璃基板上剥离出来，得到基于PI膜的柔性电容触摸屏。2.如权利要求1所述的柔性电容触摸屏的制造方法，其特征为：所述隔阻层为疏水涂层。3.如权利要求2所述的柔性电容触摸屏的制造方法，其特征为：所述阻隔层为硅胶层或含氟聚合物涂层。4.如权利要求1所述的柔性电容触摸屏的制造方法，其特征为：所述隔阻层为采用磁控溅射方式形成的无机或金属薄膜。5.如权利要求1所述的柔性电容触摸屏的制造方法，其特征为：所述阻隔层与构成所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：蔡泽锋，欧建平，彭继达，刘余东，吕岳敏，张汉焱，林德志，
申请(专利权)人：汕头超声显示器技术有限公司，汕头超声显示器二厂有限公司，汕头超声显示器有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44