多层电磁屏蔽脉冲远场涡流检测传感器制造技术

技术编号:20220459 阅读:52 留言:0更新日期:2019-01-28 19:25
本发明专利技术公开了一种多层电磁屏蔽脉冲远场涡流检测传感器,在激励线圈和检测线圈之间使用三层分别由高磁导率和高电导率的材料所制成的屏蔽层作为直接耦合能量的隔离装置,使得直接耦合能量被束缚在屏蔽层内,屏蔽层外间接耦合能量占主要部分,通过检测线圈即可检测到远场信号。本发明专利技术使用三层电磁屏蔽装置,在铁磁性平板中产生远场涡流现象,使得检测深度更深,实现亚表面缺陷的检测。

【技术实现步骤摘要】
多层电磁屏蔽脉冲远场涡流检测传感器
本专利技术属于远场涡流无损检测
,更为具体地讲,涉及一种多层电磁屏蔽脉冲远场涡流检测传感器。
技术介绍
无损检测是指不损害被测工件的内部结构为前提,利用一些物理、化学方法来对工件进行检测,进而评估其性能。涡流检测是无损检测中最常见的一种检测方法,因其无需接触、无需耦合剂、成本低等优点一直受到国内外学者的青睐。远场涡流技术是涡流技术的一类,最先发现于管道的检测中,是指在距离激励线圈2~3倍管道内径处会产生远场涡流现象,通常激励线圈产生的能量分为两部分,一部分是直接耦合能量,沿着管道轴向传播;另一部分是间接耦合能量,沿着管道径向即管道壁传播。直接耦合能量由于管道的屏蔽作用呈指数性的衰减,而间接耦合能量穿过管道壁后在空气中传播,比管道内的传播速度更快,且衰减很少,所以在距离管道2~3倍内径处,间接耦合能量又再次穿透管壁,在返回到管道内的过程中携带了管壁的信息,在此位置直接耦合能量经衰减后远小于间接耦合能量,所以在该位置处放置检测线圈可以检测远场信号。正是基于上述理论,利用多层电磁屏蔽技术,将管道的远场涡流检测技术推广到平板之中,在线圈上方利用电磁屏本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种多层电磁屏蔽脉冲远场涡流检测传感器,其特征在于包括激励线圈、第一屏蔽层、第二屏蔽层、第三屏蔽层和检测线圈,5个部件的中轴线均相同,其中:激励线圈为空心圆柱型结构,设置有两根引线作为外部激励信号的接口,记其内径为d11,外径为d12,高度为h1;第一屏蔽层由高磁导率材料制成,为空心圆柱型结构,顶部设置有完全覆盖圆柱顶面的圆柱屏蔽盖,第一屏蔽层的内径为d21且d21=d12,外径为d22,内高为h21,外高为h22;第二屏蔽层由高电导率材料制成,为空心圆柱型结构,顶部设置有完全覆盖圆柱顶面的圆柱屏蔽盖,第二屏蔽层的内径为d31,外径为d32,内高为h31,外高为h32,其中d31>d22,...

【技术特征摘要】
1.一种多层电磁屏蔽脉冲远场涡流检测传感器,其特征在于包括激励线圈、第一屏蔽层、第二屏蔽层、第三屏蔽层和检测线圈,5个部件的中轴线均相同,其中:激励线圈为空心圆柱型结构,设置有两根引线作为外部激励信号的接口,记其内径为d11,外径为d12,高度为h1;第一屏蔽层由高磁导率材料制成,为空心圆柱型结构,顶部设置有完全覆盖圆柱顶面的圆柱屏蔽盖,第一屏蔽层的内径为d21且d21=d12,外径为d22,内高为h21,外高为h22;第二屏蔽层由高电导率材料制成,为空心圆柱型结构,顶部设置有完全覆盖圆柱顶面的圆柱屏蔽盖,第二屏蔽层的内径为d31,外径为d32,内高为h31,外高为h32,其中d31>d22,h3...

【专利技术属性】
技术研发人员:高斌杨昌荣
申请(专利权)人:四川沐迪圣科技有限公司
类型:发明
国别省市:四川,51

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