一种低磨损高清洁磨擦型二氧化硅及其制备方法技术

本发明专利技术属于二氧化硅技术领域，具体涉及一种低磨损高清洁磨擦型二氧化硅及其制备方法。本发明专利技术制备方法包括S1往反应釜中加入硫酸钠溶液和硅酸钠溶液，加热至80～90℃，滴加硫酸溶液至体系pH值为8.5～9.5；S2继续加入十二烷基硫酸钠水溶液和海藻酸钠；S3同时加入硅酸钠溶液和硫酸溶液，控制体系pH值为8.5～9.5，硅酸钠溶液添加完毕后，继续添加硫酸溶液至体系pH值为4.0～4.5；S4加入水并搅拌，形成的二氧化硅经过压滤、洗涤、干燥、粉碎，即可，该二氧化硅的RDA值为120～140，PCR值为120～140，PCR/RDA＝0.9～1，具有优异的低磨损高清洁特性，满足在牙膏中的良好应用。

【技术实现步骤摘要】
一种低磨损高清洁磨擦型二氧化硅及其制备方法
本专利技术属于二氧化硅
，具体涉及一种低磨损高清洁磨擦型二氧化硅及其制备方法。
技术介绍
二氧化硅物理化学性能稳定，与牙膏中各种活性组分相容性好，且可制备透明牙膏，是目前牙膏用量最大的磨擦剂之一。牙膏中的磨擦剂，主要是为了去除牙齿表面上的各种沉积物，如食物残渣、牙垢、牙面色素、牙菌斑、牙结石等。虽然清洁牙齿、美白牙齿很重要，但磨擦过于剧烈则会损伤牙齿。理想的牙膏磨擦剂既能实现清洁美白牙齿的功能，又不至于损伤牙齿本身。行业内评价牙膏清洁性能和磨擦性能的指标主要有薄膜清洁率(PCR，PellicleCleaningRatio)、相对齿质损耗(RDA，RelativeDentinAbrasion)。二氧化硅品种很多，目前市售普通磨擦型二氧化硅RDA值80～110，PCR值80～95；中磨擦型二氧化硅RDA值130～180，PCR值90～110；高磨擦型二氧化硅RDA值150～220，PCR值95～115。经实验发现RDA值小于50则不能有效去除牙齿沉积物，RDA值大于150则对牙齿有所损伤。长期使用高磨擦值的产品，会使牙本质损伤，进而导致牙本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种低磨损高清洁磨擦型二氧化硅的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：S1、往反应釜中加入硫酸钠溶液11～13m3和硅酸钠溶液1～3m3，加热至80～90℃，然后滴加硫酸溶液至体系pH值为8.5～9.5；S2、搅拌下，继续加入十二烷基硫酸钠水溶液和海藻酸钠，搅拌1～2h；S3、同时加入硅酸钠溶液11～14m3和硫酸溶液，控制体系pH值为8.5～9.5，硅酸钠溶液添加完毕后，继续添加硫酸溶液至体系pH值为4.0～4.5；S4、加入水2～4m3，搅拌0.5～1h后，将形成的二氧化硅经过压滤、洗涤、干燥、粉碎，制得低磨损高清洁磨擦型二氧化硅。

【技术特征摘要】
1.一种低磨损高清洁磨擦型二氧化硅的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：S1、往反应釜中加入硫酸钠溶液11～13m3和硅酸钠溶液1～3m3，加热至80～90℃，然后滴加硫酸溶液至体系pH值为8.5～9.5；S2、搅拌下，继续加入十二烷基硫酸钠水溶液和海藻酸钠，搅拌1～2h；S3、同时加入硅酸钠溶液11～14m3和硫酸溶液，控制体系pH值为8.5～9.5，硅酸钠溶液添加完毕后，继续添加硫酸溶液至体系pH值为4.0～4.5；S4、加入水2～4m3，搅拌0.5～1h后，将形成的二氧化硅经过压滤、洗涤、干燥、粉碎，制得低磨损高清洁磨擦型二氧化硅。2.如权利要求1所述低磨损高清洁磨擦型二氧化硅的制备方法，其特征在于，所述硫酸钠溶液的重量百分比浓度为7.0～10.0％。3.如权利要求1所述低磨损高清洁磨擦型二氧化硅的制备方法，其特征在于，所述硅酸钠溶液的浓度为2～3mol/L。4.如权利要求1所述低...

【专利技术属性】
技术研发人员：侯灿明，高文颖，胡非，张梦梅，林超聪，
申请(专利权)人：广州市飞雪材料科技有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44