一种带清洗功能的密封圈调整装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种带清洗功能的密封圈调整装置；属于电解铜箔技术领域；其技术要点包括支架，所述支架两侧分别设有第一导向轮，两个导向轮之间的支架上设有第二导向轮，所述第二导向轮连接有水平位移调节机构；所述支架上设有储水槽，所述储水槽连接有虹吸式滴水机构，所述虹吸式滴水机构的出水口与密封圈相对，在密封圈下方设有与虹吸式滴水机构的出水口相对的接水槽；本实用新型专利技术旨在提供一种操作简单及使用效果良好的带清洗功能的密封圈调整装置；用于电解铜箔生产。

【技术实现步骤摘要】
一种带清洗功能的密封圈调整装置
本技术涉及一种密封圈调整装置，更具体地说，尤其涉及一种带清洗功能的密封圈调整装置。
技术介绍
电解铜箔是生箔机生产出来的，生箔机在生产的过程中，需要对阴极辊两侧实现密封，现在一般都是采用导向轮和密封圈的配合对其进行密封，同时密封圈对电解铜箔两侧的边部整齐度也有着重要作用。但是，阴极辊在旋转的过程中，会使旋转出电解区域的密封圈沾附有少量的硫酸铜溶液，这些硫酸铜溶液会在空气中结晶形成颗粒，随着密封圈循环转动，从而导致密封性能降低，严重时可能会引起生产中的铜箔产生撕边、长铜屑和烧边现象。
技术实现思路
本技术的目的在于针对上述现有技术的不足，提供一种操作简单及使用效果良好的带清洗功能的密封圈调整装置。本技术的技术方案是这样实现的：一种带清洗功能的密封圈调整装置，包括支架，所述支架两侧分别设有第一导向轮，两个导向轮之间的支架上设有第二导向轮，所述第二导向轮连接有水平位移调节机构；所述支架上设有储水槽，所述储水槽连接有虹吸式滴水机构，所述虹吸式滴水机构的出水口与密封圈相对，在密封圈下方设有与虹吸式滴水机构的出水口相对的接水槽。上述的一种带清洗功能的密封圈调整装置中，所述本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种带清洗功能的密封圈调整装置，包括支架(1)，其特征在于，所述支架(1)两侧分别设有第一导向轮(1a)，两个第一导向轮(1a)之间的支架(1)上设有第二导向轮(1b)，所述第二导向轮(1b)连接有水平位移调节机构(2)；所述支架(1)上设有储水槽(3)，所述储水槽(3)连接有虹吸式滴水机构(4)，所述虹吸式滴水机构的出水口与密封圈相对，在密封圈下方设有与虹吸式滴水机构(4)的出水口相对的接水槽(5)。

【技术特征摘要】
1.一种带清洗功能的密封圈调整装置，包括支架(1)，其特征在于，所述支架(1)两侧分别设有第一导向轮(1a)，两个第一导向轮(1a)之间的支架(1)上设有第二导向轮(1b)，所述第二导向轮(1b)连接有水平位移调节机构(2)；所述支架(1)上设有储水槽(3)，所述储水槽(3)连接有虹吸式滴水机构(4)，所述虹吸式滴水机构的出水口与密封圈相对，在密封圈下方设有与虹吸式滴水机构(4)的出水口相对的接水槽(5)。2.根据权利要求1所述的一种带清洗功能的密封圈调整装置，其特征在于，所述水平位移调节机构(2)由活动设置在支架(1)上的调节丝杆(2a)、设置在调节丝杆(2a)两侧且与调节丝杆(2a)平行的导向槽(2b)、与调节丝杆(2a)螺纹连接的水平滑座(2c)、设置在水平滑座(2c)两端且与导向槽(2b)相配合的导向滑块(2d)及与调节丝杆(2a)自由端固定连接的操作手柄(2e)组成；所述水平滑座(2c)上连接有转轴(2f)，所述第二导向轮(1b)与转轴(2f)活动连接。3.根据权利要求1所述的一种带清洗功能的密封圈调整装置，其特征在于，所述虹吸式滴水机构(4)主要由设置在储水槽(3)上的导向定位组件(4a)、设置在导向定位组件(4a)上的吸水棉线(4b)及设置在导向定位组件(4a)靠近密封圈一端近端部的滴水调节组件(4c...

【专利技术属性】
技术研发人员：李凯顺，李富明，李俊涛，丘建均，李建伟，李远泰，
申请(专利权)人：梅州市威利邦电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：广东,44