一种光膜调节方法、装置、终端及存储介质制造方法及图纸

本发明专利技术实施例公开了一种光膜调节方法、装置、终端及存储介质，该方法包括：分别在投影平面的至少一处预设位置设置参考物；调节光膜方向，直至所述参考物的反射光线满足预设条件。本发明专利技术实施例实现了光膜调节的自动化，提高调节效率，提高光膜的可靠性。

A Method, Device, Terminal and Storage Media for Optical Film Adjustment

The embodiment of the present invention discloses an optical film adjustment method, device, terminal and storage medium. The method includes: setting reference objects at at least one preset position on the projection plane, adjusting the direction of the optical film until the reflected light of the reference objects meets the preset conditions. The embodiment of the invention realizes the automation of optical film regulation, improves the regulation efficiency and improves the reliability of the optical film.

【技术实现步骤摘要】
一种光膜调节方法、装置、终端及存储介质
本专利技术实施例涉及投影触控技术，尤其涉及一种光膜调节方法、装置、终端及存储介质。
技术介绍
投影触控主要采用激光影像技术，激光影像技术是采用激光器发射激光，发射的激光呈面状，形成光膜，光膜高于投影平面1-3mm，厚度约1mm。当手指或任何不透明的物体接触投影平面时，光线被反射到设置在投影机上方的一个图像感应器，通过光电位置的精确计算，得到触控的坐标，实现对投影平面图标的操作。激光器的不同放置位置产生不同角度的光膜，光膜与投影平面呈不同的夹角。投影平面沿着光膜发射方向具有两个边缘，一个边缘是距离激光器最近的上边缘，另一个边缘是距离激光器最远的下边缘。当光膜与上下边缘之间的位置的投影平面相交时，位于相交位置与下边缘之间的投影平面的光膜过低，无法实现触控，导致触控失灵。因此，如何调节激光器发射的光膜的角度对于精确触控尤为重要。当前，调节激光器发射的光膜的角度凭借人为经验，调节过程繁琐，调节效率低，并且在投影平面上放置投影膜时，会存在干扰。
技术实现思路
本专利技术实施例提供一种光膜调节方法、装置、终端及存储介质，解决当前光膜调节凭借人为经验，调节过程繁琐，调节效率低，放置投影膜存在干扰的问题。第一方面，本专利技术实施例提供了一种光膜调节方法，该方法包括：分别在投影平面的至少一处预设位置设置参考物；调节光膜方向，直至所述参考物的反射光线满足预设条件。进一步地，所述调节光膜方向，直至所述参考物的反射光线满足预设条件，包括：调节光膜的垂直方向，直至所述参考物的反射光线满足预设条件。进一步地，所述调节光膜方向，直至所述参考物的反射光线满足预设条件，包括：调节光膜的水平方向和垂直方向至最大限度以在投影平面上形成斜状光带；调节光膜的水平方向以使得所述斜状光带变化为水平方向光带；调节光膜的垂直方向以使得所述水平方向光带消失，并继续调节光膜的垂直方向直至所述参考物的反射光线满足预设条件。进一步地，所述调节光膜方向，直至所述参考物的反射光线满足预设条件，包括：调节光膜方向，直至所述参考物中高度大于预设高度的参考物的反射光线的强度大于第一预设强度阈值，和/或，所述参考物中高度小于预设高度的参考物的强度小于第二预设强度阈值。进一步地，在所述分别在投影平面的至少一处预设位置设置参考物之前，还包括：在投影平面中确定预设区域，其中，预设区域为中心线与下边缘之间的投影平面或中心线与上边缘之间的投影平面，所述中心线位于投影平面的上边缘和下边缘之间，与上边缘和下边缘的距离相等且平行与上边缘或下边缘；在所述预设区域中确定所述至少一处预设位置。进一步地，在所述预设区域中确定所述至少一处预设位置之后，还包括：分别在所述至少一处预设位置处确定预设边界；根据参考物的反射光线的光线强度，设定预设边界的不同颜色；相应地，所述调节光膜方向，直至所述参考物的反射光线满足预设条件，包括：调节光膜方向直至所述预设边界的颜色满足预设颜色。进一步地，在调节光膜方向，直至所述参考物的反射光线满足预设条件之后，还包括：显示光膜调节通过的提示信息。进一步地，所述分别在投影平面的至少一处预设位置设置参考物包括：确定投影平面下边缘的两端位置以及两端位置的中间位置为三处预设位置，分别在所述三处预设位置处设置参考物。其中，在投影平面下边缘两端位置设置的参考物的高度相同，且两端位置设置的参考物的高度大于两端位置的中间位置设置的参考物的高度。其中，所述在投影平面下边缘两端位置设置的参考物的高度范围为2-5mm，所述在投影平面下边缘两端位置的中间位置设置的参考物的高度范围为1-3mm。第二方面，本专利技术实施例还提供了一种光膜调节装置，该装置包括：参考物设置模块，用于分别在投影平面的至少一处预设位置设置参考物；光膜方向调节模块，用于调节光膜方向，直至所述参考物的反射光线满足预设条件。第三方面，本专利技术实施例还提供了一种终端，该终端包括：一个或多个处理器；存储装置，用于存储一个或多个程序；当所述一个或多个程序被所述一个或多个处理器执行，使得所述一个或多个处理器实现如本专利技术任意实施例提供的任一所述的光膜调节方法。第四方面，本专利技术实施例还提供了一种计算机可读存储介质，其上存储有计算机程序，该程序被处理器执行时实现如本专利技术任意实施例提供的任一所述的光膜调节方法。本专利技术实施例通过分别在投影平面的至少一处预设位置设置参考物；调节光膜方向，直至所述参考物的反射光线满足预设条件相比于凭借人为经验调节，实现了调节的自动化，简化了调节过程，提高了调节效率，避免投影膜放置后的干扰，提高光膜的可靠性。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图做一简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1是本专利技术实施例一提供的一种光膜调节方法的流程示意图；图2是本专利技术实施例二提供的一种光膜调节方法的流程示意图；图3是本专利技术实施例三提供的一种光膜调节装置的结构示意图；图4是本专利技术实施例四提供的一种终端的结构示意图。具体实施方式为使本专利技术的目的、技术方案和优点更加清楚，以下将参照本专利技术实施例中的附图，通过实施方式清楚、完整地描述本专利技术的技术方案，显然，所描述的实施例是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。实施例一图1是本专利技术实施例一提供的一种光膜调节方法的流程图。本实施例的技术方案可以适用于对光膜进行调节的情况。该方法可以由本专利技术实施例提供的一种光膜调节装置来执行，该装置可以采用软件和/或硬件的方式实现，并配置于投影触控设备中应用，例如桌面投影触控设备或任意空间投影设备。该方法具体包括如下操作：S110、分别在投影平面的至少一处预设位置设置参考物。以激光为例，投影触控中通过激光器向投影平面上出射激光，激光器连接红外摄像头供电，激光器可以采用一字激光器，所出射的激光是面状光，形成光膜。一字激光器出射的光膜打在投影平面上形成光带被红外摄像头拍摄到，投影平面即通过投影方式形成的软件界面。在本专利技术实施例中，对光的种类不作具体限定，可以是激光、红外线或超声波等任何可以实现投影触控的光，可以根据需要进行选择。在投影平面的至少一处预设位置设置参考物即在每一处预设位置设置参考物，预设位置可以设置在投影平面的任意位置，预设位置位于投影平面的预设区域中，预设区域可以是中心线与下边缘之间的投影平面，也可以是中心线与上边缘之间的投影平面，中心线位于投影平面的上边缘和下边缘之间，与上边缘和下边缘的距离相等且平行于上边缘或下边缘。优选地，预设区域为中心线与下边缘之间的投影平面，即投影平面的中下部区域，中下部区域的设置可以保证上边缘与参考物之间的投影平面中的光线符合触控的条件，其中光线符合触控条件即光线高于投影平面一定高度，示例性地，一定高度可以是1-3mm。具体地，在分别在投影平面的至少一处预设位置设置参考物之前，还包括：在投影平面中确定预设区域，在所述预设区域中确定至少一处预设位置。示例性地，预设位置可以是投影平面下边缘的两端位置以及两端位置的中间位置，本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光膜调节方法，其特征在于，包括：分别在投影平面的至少一处预设位置设置参考物；调节光膜方向，直至所述参考物的反射光线满足预设条件。

【技术特征摘要】
1.一种光膜调节方法，其特征在于，包括：分别在投影平面的至少一处预设位置设置参考物；调节光膜方向，直至所述参考物的反射光线满足预设条件。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述调节光膜方向，直至所述参考物的反射光线满足预设条件，包括：调节光膜的垂直方向，直至所述参考物的反射光线满足预设条件。3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述调节光膜方向，直至所述参考物的反射光线满足预设条件，包括：调节光膜的水平方向和垂直方向至最大限度以在投影平面上形成斜状光带；调节光膜的水平方向以使得所述斜状光带变化为水平方向光带；调节光膜的垂直方向以使得所述水平方向光带消失，并继续调节光膜的垂直方向直至所述参考物的反射光线满足预设条件。4.根据权利要求2或3所述的方法，其特征在于，所述调节光膜方向，直至所述参考物的反射光线满足预设条件，包括：调节光膜方向，直至所述参考物中高度大于预设高度的参考物的反射光线的强度大于第一预设强度阈值，和/或，所述参考物中高度小于预设高度的参考物的强度小于第二预设强度阈值。5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在所述分别在投影平面的至少一处预设位置设置参考物之前，还包括：在投影平面中确定预设区域，其中，预设区域为中心线与下边缘之间的投影平面或中心线与上边缘之间的投影平面，所述中心线位于投影平面的上边缘和下边缘之间，与上边缘和下边缘的距离相等且平行与上边缘或下边缘；在所述预设区域中确定所述至少一处预设位置。6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，在所述预设区域中确定所述至少一处预设位置之后，还包括：分别在所述至少一处预设位置处确定预设...

【专利技术属性】
技术研发人员：戴欢丰，
申请(专利权)人：上海易视计算机科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：上海,31