一种扇出线结构及显示装置制造方法及图纸

本申请实施例提供了一种扇出线结构及显示装置，所述扇出线结构包括多条扇出线，多条所述扇出线依次相邻并列分布，至少一条所述扇出线上形成有多条互不接触的虚设隔离线，同一条所述扇出线上的多条所述虚设隔离线之间具有第一预设距离，可以降低扇出线之间产生的耦合电容，从而提高显示面板的稳定性，解决了现有的扇出线结构中，往往会因为扇出线线距太小，导致刻蚀残留在扇出线之间形成耦合电容，造成显示面板的稳定性下降的问题。

【技术实现步骤摘要】
一种扇出线结构及显示装置
本申请属于显示
，尤其涉及一种扇出线结构及显示装置。
技术介绍
扇出布线是电路板设计的重要组成部分，其广泛存在于各种常见电路板的布线设计中，例如，薄膜晶体管液晶显示器(thinfilmtransistor-liquidcrystaldisplay，TFT-LCD)面板设计。扇出线中各引线之间的电阻差异会导致信号延迟，例如，会引起TFT-LCD面板的分屏现象。在显示面板的制造工艺中，同一层金属会因为外圈图案和中心图案的环境不同而导致刻蚀速率不同从而形成引线电阻差异，为了减小引线差异通常在外围区域的扇出线上形成虚设隔离线，从而使面板中的有效图案的刻蚀速率保持一致。然而，现有的扇出线结构中，往往会因为扇出线线距太小，导致刻蚀残留在扇出线之间形成耦合电容，造成显示面板的稳定性下降。
技术实现思路
本申请实施例提供了一种扇出线结构及显示装置，旨在解决现有的扇出线结构中，往往会出现因为扇出线线距太小，导致刻蚀残留在扇出线之间形成耦合电容，从而造成显示面板的稳定性下降的问题。本申请实施例提供一种扇出线结构，所述扇出线结构包括多条扇出线，多条所述扇出线依次并列分布，至少一条所述扇出线上形成有至少二条互不接触的虚设隔离线。在一个实施例中，同一条所述扇出线上的多条所述虚设隔离线的长度相同。在一个实施例中，所述虚设隔离线与显示面板中的数据线隔离。在一个实施例中，多条所述扇出线的长度相等。在一个实施例中，多条所述扇出线分别与显示面板中对应的数据线连接。在一个实施例中，同一条所述扇出线上的每相邻的两条所述虚设隔离线之间的距离相同。在一个实施例中，多条所述扇出线包括多条第一扇出线和多条第二扇出线，每相邻的两条所述第一扇出线之间设有至少一条第二扇出线，所述第一扇出线上形成有多条互不接触的虚设隔离线，所述第二扇出线上没有形成虚设隔离线。在一个实施例中，所述第一扇出线与所述第二扇出线的阻抗相同。本申请一实施例提供了另一种扇出线结构，所述扇出线结构包括多条扇出线，多条所述扇出线依次并列分布，至少一条所述扇出线上设有至少二条互不接触的虚设隔离线；多条所述扇出线分别与显示面板中对应的数据线连接；其中，所述虚设隔离线与显示面板中的数据线隔离。为了解决上述技术问题，本申请实施例还提供一种显示装置，其包括：显示面板；驱动部件，与所述显示面板电性连接，设置于所述显示面板的侧面且与所述显示面板之间留有间隙；以及上述任一项实施例所述的扇出线结构，所述扇出线结构形成于所述显示面板的外围区域，且与所述驱动部件连接。本申请实施例通过提供一种扇出线结构及显示装置，所述扇出线结构包括多条扇出线，多条所述扇出线依次相邻并列分布，至少一条所述扇出线上形成有多条互不接触的虚设隔离线，同一条所述扇出线上的多条所述虚设隔离线之间具有第一预设距离，可以降低扇出线之间产生的耦合电容，从而提高显示面板的稳定性，解决了现有的扇出线结构中，往往会因为扇出线线距太小，导致刻蚀残留在扇出线之间形成耦合电容，造成显示面板的稳定性下降的问题。附图说明为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1是本申请实施例提供的一种扇出线结构的结构示意图；图2是本申请实施例提供的另一种扇出线结构的结构示意图。具体实施方式为了使本
的人员更好地理解本申请方案，下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚地描述，显然，所描述的实施例是本申请一部分的实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都应当属于本申请保护的范围。本申请的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“包括”以及它们任何变形，意图在于覆盖不排他的包含。例如包含一系列步骤或单元的过程、方法或系统、产品或设备没有限定于已列出的步骤或单元，而是可选地还包括没有列出的步骤或单元，或可选地还包括对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或单元。此外，术语“第一”、“第二”和“第三”等是用于区别不同对象，而非用于描述特定顺序。在显示装置中形成扇出线时，多条扇出线10之间的侧向电容很小，可以忽略不计，当相邻的扇出线10之间在刻蚀过程形成残留时，此时相邻的扇出线之间产生耦合电容，该耦合电容是侧向电容的数百倍，在一种应用中可达到500倍，此时扇出线会由于负载变大而产生相对于其他区域的弱线。图1是本申请实施例提供的一种扇出线结构的结构示意图。如图1所示，本实施中的扇出线结构包括多条扇出线10，多条扇出线10依次并列分布，至少一条扇出线10上设有至少二条互不接触的虚设隔离线20。具体的，多条扇出线10依次并列分布，该并列分布可以为平行排列。在一个实施例中，同一条扇出线10上的两条相邻的虚设隔离线20之间具有第一预设距离。具体的，该第一预设距离可以根据用户需要预先设置，通过对同一条所述扇出线10上的两条相邻的所述虚设隔离线20之间设置的第一预设距离进行调节，可以对相邻两条虚设隔离线20的之间耦合电容进行调节，例如，通过增加同一条扇出线10上的相邻两条虚设隔离线20的之间的距离，使得同一条扇出线10上的相邻两条虚设隔离线20的之间耦合电容降低。在本实施例中，由于产生弱线的原因是弱线对应的扇出线负载变大导致的，而负载变大是因为耦合电容导致的，本实施例提出的一种扇出线结构通过在在同一条扇出线10上形成多条虚设隔离线，降低耦合电容，以使得显示装置中的弱线变弱或者消失。具体的，耦合电容C＝ε*ε0*S/D＝ε*ε0*a*b/D；ε相对介电常数，ε0是真空介电常数，S是每条虚设隔离线的面积，a和b分别是每条虚设隔离线的长和宽，D是平板电容的距离，即是相邻的虚设隔离线的距离。在本实施例中，通过将同一扇出线上的虚设隔离线分段，从而减小扇出线区域中相邻的两条扇出线10之间的耦合电容的面积，减小了耦合电容，消除了显示装置中存在的弱线。在一个实施例中，扇出线10的一端与面板玻璃上的导线一一连接，该导线的长度为800-1000微米，导线的线宽为15-20微米，相邻的导线之间的线距为10-15微米。在一个实施例中，扇出线10的另一端与显示面板内的数据信号线连接，在数据信号传输过程中，薄膜驱动芯片通过薄膜驱动芯片上的导线输出数据信号，然后该数据信号通过显示面板上的玻璃导线输出至扇出线10，然后通过扇出线与数据信号线连接。在一个实施例中，扇出线10为金属铝。在一个实施例中，扇出线10为金属铜。在一个实施例中，扇出线10形成于氧化铟锡玻璃上，氧化铟锡是一种既能导电又透明的金属，在薄膜晶体液晶显示器中作为电极使用。在一个实施例中，同一条扇出线10上的多条虚设隔离线20的长度相同。具体的，通过在同一扇出线10上形成多条长度相同的虚设隔离线20，这样既能实现所有引线的电阻相等，避免信号延时，也能降低相邻的扇出线之间形成的耦合电容。在一个实施例中，为了布线的美观且节省空间，各相邻的扇出线10之间的间距为能够实现的最小间距，并且各引线并排设置、相互之间不重叠且不交叉。在一个实施例中本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种扇出线结构，其特征在于，所述扇出线结构包括多条扇出线，多条所述扇出线依次并列分布，至少一条所述扇出线上设有至少二条互不接触的虚设隔离线。

【技术特征摘要】
1.一种扇出线结构，其特征在于，所述扇出线结构包括多条扇出线，多条所述扇出线依次并列分布，至少一条所述扇出线上设有至少二条互不接触的虚设隔离线。2.如权利要求1所述的扇出线结构，其特征在于，同一条所述扇出线上的多条所述虚设隔离线的长度相同。3.如权利要求1所述的扇出线结构，其特征在于，所述虚设隔离线与显示面板中的数据线隔离。4.如权利要求1所述的扇出线结构，其特征在于，多条所述扇出线的长度相等。5.如权利要求1所述的扇出线结构，其特征在于，多条所述扇出线分别与显示面板中对应的数据线连接。6.如权利要求1所述的扇出线结构，其特征在于，同一条所述扇出线上的每相邻的两条所述虚设隔离线之间的距离相同。7.如权利要求1所述的扇出线结构，其特征在于，多条所述扇出线包括多条第一扇出线和多条第二扇出线，每相邻...

【专利技术属性】
技术研发人员：何怀亮，
申请(专利权)人：惠科股份有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44