光学准直结构及其制作方法、指纹识别装置制造方法及图纸

本公开提供了一种光学准直结构、其制作方法以及指纹识别装置。该光学准直结构包括：第一光学准直层，包括交替设置的多个第一透光墙和多个第一阻光墙；第二光学准直层，与所述第一光学准直层层叠设置，并包括交替设置的多个第二透光墙和多个第二阻光墙，其中，所述第一阻光墙与所述第二阻光墙交叉设置以限定出用于光准直的多个透光区。该光学准直结构在结构上使新颖的并且易于制造。

【技术实现步骤摘要】
光学准直结构及其制作方法、指纹识别装置
本公开涉及光识别
，尤其涉及一种光学准直结构及其制作方法、指纹识别装置。
技术介绍
光识别技术是指，将光源发射的光线传输到待识别物体，待识别物体将光线反射到光敏传感器，光敏传感器可以根据光线的强度形成待识别物体的图像。其中，待识别物体可以为指纹、掌纹等。以待识别物体为指纹为例对光识别技术进行说明，光源发射的光线传输到指纹的表面，指纹的表面将光线反射到光敏传感器，由于指纹的谷脊反射的光线强度不同，光敏传感器可以根据光线的强度形成指纹图像。其中，光敏传感器为多个，用于分别获取指纹不同区域的图像。然而，在光指纹识别技术中，由于指纹与光敏传感器具有一定的距离，从而导致光敏传感器接收到的光线不仅包括其对应的指纹区域的反射光线还接收其他指纹区域的反射光线，从而造成光敏传感器生成的图像模糊不清。
技术实现思路
本公开的目的在于提供一种光学准直结构及其制作方法、指纹识别装置。根据本公开的一方面，提供了一种光学准直结构，包括：第一光学准直层，包括交替设置的多个第一透光墙和多个第一阻光墙；第二光学准直层，与所述第一光学准直层层叠设置，并包括交替设置的多个第二透光本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光学准直结构，其特征在于，包括：第一光学准直层，包括交替设置的多个第一透光墙和多个第一阻光墙；第二光学准直层，与所述第一光学准直层层叠设置，并包括交替设置的多个第二透光墙和多个第二阻光墙；其中，所述第一透光墙与所述第二透光墙交叉设置以限定出用于光准直的多个透光区。

【技术特征摘要】
1.一种光学准直结构，其特征在于，包括：第一光学准直层，包括交替设置的多个第一透光墙和多个第一阻光墙；第二光学准直层，与所述第一光学准直层层叠设置，并包括交替设置的多个第二透光墙和多个第二阻光墙；其中，所述第一透光墙与所述第二透光墙交叉设置以限定出用于光准直的多个透光区。2.根据权利要求1所述的光学准直结构，其特征在于，所述第一透光墙与所述第一阻光墙平行设置，且沿第一方向延伸。3.根据权利要求2所述的光学准直结构，其特征在于，所述第二透光墙与所述第二阻光墙平行设置，且沿第二方向延伸。4.根据权利要求3所述的光学准直结构，其特征在于，所述第一方向与所述第二方向垂直。5.根据权利要求1所述的光学准直结构，其特征在于，还包括透明基板，其中，所述透明基板设置在所述第一光学准直层和所述第二光学准直层之间。6.根据权利要求1所述的光学准直结构，其特征在于，还包括透明基板，其中，所述透明基板设置在所述第一光学准直层的远离第二光学准直层的表面上。7.根据权利要求1所述的准直结构，其特征在于，所述第一光学准直层的厚度所述第二光学准直层的厚度其中，β为所述准直结构的收光率，k1为第一透光墙的宽度，k2为第二透光墙的宽度。8.一种光学准直结构的制作方法，其特征在于，包括：形成第一光学准直层，所述第一光学准直层包括交替设置的多个第一透光墙和多个第一阻光墙；形成第二光学准直层，所述第二光学准直层与所述第一光学准直层层叠设置且包括交替设置的多个第二透光墙和多个第二阻光墙；其中，所述第一透光墙与所述第二透光墙交叉设置以限定出用于光准直的多个透光区。9.根据权利要求8所述的光学准直结构的制作方法，其特征在于，所述形成第一光学准直层包括：在第一基...

【专利技术属性】
技术研发人员：海晓泉，董学，王海生，王雷，李昌峰，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11