【技术实现步骤摘要】
一种碳布负载的硫化镍-硫化钼异质纳米片阵列结构及其制备方法
本专利技术涉及一种碳布负载的硫化镍-硫化钼异质纳米片阵列结构及其制备方法,属于纳米材料制备
技术介绍
硫化钼(MoS2)作为典型的层状二维过渡金属半导体材料,具有类石墨烯结构,其独特的物理化学性质使得其在光电子学、光电催化、储能器件等方面有着广泛的应用前景。然而,单组分MoS2材料难以完全发挥其优异性能。例如,MoS2的催化制氢反应的高活性位点是分布在其片层结构边缘处暴露的Mo原子上,这些位点的活性接近于目前公认最好的贵金属Pt催化剂,而其占有较大面积的主平面部分则活性较低,且导电性差,这导致纯MoS2的实际催化产氢性能并不理想。又如,MoS2的二维层状结构具有较大的比表面积,同时其层间是由较弱的范德华力相连接,这有助于离子、分子在其层间迁移,是理想的储能材料,具有优异的电容性能和储锂、储钠性能,可用于超级电容器和锂离子、钠离子电池等。然而,纯MoS2在充放电过程中容易收缩团聚,导致其形貌受到破坏,性能下降;同时由于其导电性差,不利于电子的传输,最终导致其倍率性能较差。因此,将MoS2与其他半导 ...
【技术保护点】
1.碳布负载的NiS‑MoS2异质纳米片阵列结构,其特征在于,所述产品是由三维的碳纤维布与其表面均匀负载的阵列状的NiS‑MoS2异质纳米片构成;所述产品中构建有一种多级的三维框架式结构,以碳纤维作为导电骨架,在其表面均匀负载阵列状的NiS‑MoS2异质纳米片,其中MoS2均匀包覆于NiS表面。
【技术特征摘要】
1.碳布负载的NiS-MoS2异质纳米片阵列结构,其特征在于,所述产品是由三维的碳纤维布与其表面均匀负载的阵列状的NiS-MoS2异质纳米片构成;所述产品中构建有一种多级的三维框架式结构,以碳纤维作为导电骨架,在其表面均匀负载阵列状的NiS-MoS2异质纳米片,其中MoS2均匀包覆于NiS表面。2.按照权利要求1所述的碳布负载的NiS-MoS2异质纳米片阵列结构的制备方法,其特征在于,以醋酸镍、钼酸铵、硫脲作为镍源、钼源和硫源,十二烷基硫酸钠为表面活性剂,通过一步水热法,直接在碳布表面均匀、紧密地生长出NiS-MoS2异质纳米片阵列结构;依次包括以下步骤:(1)将碳布预先分别用丙酮、1-2mol/L盐酸水溶液以及去离子水依次超声清洗0.5-1小时,并在60℃下烘干,保存备用;(2)将市售分析纯醋酸镍、钼酸铵、硫脲和十二烷基硫酸钠粉末投入烧杯中,再加入去离子水充分搅拌使其均匀混合,控制混合溶液中醋酸镍浓度为0.03-0.05mol/L,钼酸铵的浓度为0.001-0.005mol/L,硫脲的浓度为0.05-0.08mol/L,十二烷基硫酸钠浓度为0.15-0.25mol/L;再利用0.5-1.0mol/L的氢氧化钠水溶液调节反应物混合溶液的pH值至5.8-7.0之间;(3)在高压反应釜中填充50%-80%的反应物混合溶液后,垂...
【专利技术属性】
技术研发人员:符秀丽,官顺东,彭志坚,
申请(专利权)人:北京邮电大学,
类型:发明
国别省市:北京,11
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