一种石墨烯/聚芳醚砜酮导电薄膜及其制备方法技术

技术编号:20154490 阅读:63 留言:0更新日期:2019-01-19 00:06
本发明专利技术属于纳米复合材料技术领域,具体涉及一种石墨烯/聚芳醚砜酮导电薄膜及其制备方法,该方法利用超声将一定量的氧化石墨烯充分分散于溶剂中,形成均匀稳定溶液,再和一定浓度的聚芳醚砜酮树脂溶液混合后,将该混合溶液置于微波发生器中进行氧化石墨烯的原位还原,然后采用溶液涂覆成膜工艺,得到含有石墨烯的聚芳醚砜酮薄膜。本发明专利技术制备的石墨烯/聚芳醚砜酮薄膜,电性能优异,石墨烯分散均匀,具有较高的力学强度,在电磁屏蔽、抗静电和柔性传感器等诸多领域有着广泛应用。

【技术实现步骤摘要】
一种石墨烯/聚芳醚砜酮导电薄膜及其制备方法
本专利技术属于纳米复合材料
,具体涉及一种石墨烯/聚芳醚砜酮导电薄膜及其制备方法。
技术介绍
含有酚酞侧基的聚芳醚酮(PEK-C)、含有酚酞侧基的聚芳醚砜(PES-C)以及含有二氮杂萘酮联苯结构的聚芳醚砜酮(PPESK)是我国自主开发的具有高玻璃化转变温度的无定型热塑性聚芳醚树脂,可溶解,耐高温,力学性能优异,近年来发展很快。然而和大多数聚合物一样,PEK-C、PES-C和PPESK本身电阻很大,使用过程中容易造成表面电荷积累,在某种程度上限制了其在电力、电子及信息产业等领域方面的应用。石墨烯是SP2杂化的碳原子紧密堆积的二维碳原子晶体,具有优异的力学、热学和电学性能,是目前已知的在常温下导电性能最好的材料,利用其长径比大的结构特点及特殊的物理性质,向聚合物基体中添加少量的石墨烯可显著改善聚合物的电学和力学性能,实现结构和功能一体化的目标。然而,石墨烯表面很不活泼,极易团聚,不能很好地与聚合物基体进行复合。氧化石墨烯(GO)表面含有羟基、羧基、环氧等大量的含氧官能团,利用这些官能团和聚合物基体分子之间的相互作用,GO可在聚合物中实现良本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种石墨烯/聚芳醚砜酮导电薄膜的制备方法,其特征在于,具体步骤如下:1)将聚芳醚砜酮树脂加入到溶剂中,在70℃下搅拌均匀,制成质量浓度为10~35%的树脂溶液;2)将氧化石墨烯加入到相同溶剂中,进行1~2h的超声分散,超声功率为1000W,频率为40Hz,形成氧化石墨烯分散溶液;3)将步骤2)制备的氧化石墨烯分散溶液与步骤1)制备的聚芳醚砜酮树脂溶液混合,搅拌1~2h,然后超声分散1~2h,超声功率为1000W,频率为40Hz,制成均匀的混合溶液,其中氧化石墨烯的含量为聚芳醚砜酮树脂含量的0.3~5%;4)将步骤3)制备的混合溶液置于微波发生器中进行氧化石墨烯的原位还原处理,微波功率为60...

【技术特征摘要】
1.一种石墨烯/聚芳醚砜酮导电薄膜的制备方法,其特征在于,具体步骤如下:1)将聚芳醚砜酮树脂加入到溶剂中,在70℃下搅拌均匀,制成质量浓度为10~35%的树脂溶液;2)将氧化石墨烯加入到相同溶剂中,进行1~2h的超声分散,超声功率为1000W,频率为40Hz,形成氧化石墨烯分散溶液;3)将步骤2)制备的氧化石墨烯分散溶液与步骤1)制备的聚芳醚砜酮树脂溶液混合,搅拌1~2h,然后超声分散1~2h,超声功率为1000W,频率为40Hz,制成均匀的混合溶液,其中氧化石墨烯的含量为聚芳醚砜酮树脂含量的0.3~5%;4)将步骤3)制备的混合溶液置于微波发生器中进行氧化石墨烯的原位还原处理,微波功率为600-1500W,每次处理时间为1min,总计处理1-30次,每次处理间隔为5min,冷却后将混合溶液缓慢倒在洁净的玻璃板上,刮出厚度为10-200um的液膜,在空气中等待5s后快速放入去离子水中,待膜自动脱落;5)将脱落的薄膜浸泡在去离子水中24h,每隔4-5小时换一次水,然后将薄膜在60℃的真空烘箱中烘干处理5...

【专利技术属性】
技术研发人员:李伟冯博文薛飞卢少微王柏臣马克明王静
申请(专利权)人:沈阳航空航天大学
类型:发明
国别省市:辽宁,21

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