【技术实现步骤摘要】
无碱铝硅酸盐玻璃及其制备方法和应用
本专利技术涉及玻璃制造领域，具体涉及无碱铝硅酸盐玻璃及其制备方法和应用。
技术介绍
随着光电行业的快速发展，对各种显示器件的需求正在不断增长，比如有源矩阵液晶显示(AMLCD)、有机发光二极管(OLED)以及应用低温多晶硅技术的有源矩阵液晶显示(LTPSTFT-LCD)器件，这些显示器件都基于使用薄膜半导体材料生产薄膜晶体管(TFT)技术。主流的硅基TFT可分为非晶硅(a-Si)TFT、多晶硅(p-Si)TFT和单晶硅(SCS)TFT，其中非晶硅(a-Si)TFT为现在主流TFT-LCD应用的技术，非晶硅(a-Si)TFT技术，在生产制程中的处理温度可以在300-450℃温度下完成。LTPS多晶硅(p-Si)TFT在制程过程中需要在较高温度下多次处理，基板必须在多次高温处理过程中不能发生变形，这就对基板玻璃性能提出更高的要求，优选的应变点高于650℃，更优选的是高于670℃、700℃、720℃，以使基板在面板制程中具有尽量小的热收缩。同时玻璃基板的膨胀系数需要与硅的膨胀系数相近，尽可能减小应力和破坏，因此基板玻璃优选的线性热膨胀...
【技术保护点】
1.一种无碱铝硅酸盐玻璃，其特征在于，所述无碱铝硅酸盐玻璃在1600℃时玻璃熔体的电阻率≤200Ω·cm；粘度为35000泊时对应的温度T35000≥1250℃；粘度为1013泊时对应的退火点≥790℃。
【技术特征摘要】
1.一种无碱铝硅酸盐玻璃，其特征在于，所述无碱铝硅酸盐玻璃在1600℃时玻璃熔体的电阻率≤200Ω·cm；粘度为35000泊时对应的温度T35000≥1250℃；粘度为1013泊时对应的退火点≥790℃。2.根据权利要求1所述的无碱铝硅酸盐玻璃，其特征在于，所述无碱铝硅酸盐玻璃在1600℃时玻璃熔体的粘度为350-550泊；优选地，所述无碱铝硅酸盐玻璃中以单质硫S形式表征的硫元素含量≤50ppm；优选地，所述无碱铝硅酸盐玻璃中羟基含量≤0.3/mm。3.根据权利要求1或2所述的无碱铝硅酸盐玻璃，其特征在于，以该无碱铝硅酸盐玻璃的总摩尔量为基准，以氧化物计，该无碱铝硅酸盐玻璃含有69-73mol％的SiO2、11-15mol％的Al2O3、0-2mol％的B2O3、2-8mol％的MgO、2-8mol％的CaO、0-3mol％的SrO、3-10mol％的BaO、0.1-2mol％的ZnO、0.02-0.7mol％RE2O3、0.01-0.5mol％的Se2O3和小于0.05mol％的R2O，其中RE为稀土元素，R为碱金属。4.根据权利要求3所述的无碱铝硅酸盐玻璃，其特征在于，以无碱铝硅酸盐玻璃的总摩尔量为基准，以氧化物计，该无碱铝硅酸盐玻璃含有70-72mol％的SiO2、12-14mol％的Al2O3、0-1mol％的B2O3、3-5mol％的MgO、3-6mol％的CaO、0.1-1mol％的SrO、4-7mol％的BaO、0.3-1.5mol％的ZnO、0.1-0.5mol％RE2O3、0.02-0.3mol％的Se2O3和小于0.05mol％的R2O。5.根据权利要求3或4所述的无碱铝硅酸盐玻璃，其特征在于，以该无碱铝硅酸盐玻璃的总摩尔量为基准，以Fe2O3形式表征，该无碱铝硅酸盐玻璃含有0.001-0.01mol％的Fe2O3。6.根据权利要求3-5中任意一项所述的无碱铝硅酸盐玻璃，其特征在于，以该无碱铝硅酸盐玻璃的总摩尔量为基准，以单质F形式表征，该无碱铝硅酸盐玻璃含有0.01-0.8mol％的F。7.根据权利要求5或6所述的无碱铝硅酸盐玻璃，其特征在于，以摩尔百分比计，Se2O3/Fe2O3＞10。8.根据权利要求3-7中任意一项所述的无碱铝硅酸盐玻璃，其特征在于，以摩尔百分比计，所述无碱铝硅酸盐玻璃中各组分的含量满足Z＝1.5-4.5，其中，Z由下式计算得出：Z＝-10.31+(16.04×SiO2+6×Al2O3+3.29×B2O3-5.47×MgO-5.43×CaO+3.77×SrO+26.65×BaO-7.82×ZnO)；其中，SiO2、Al2O3、MgO、CaO、SrO、BaO、ZnO各自代表该组分占所述无碱铝硅酸盐玻璃中的摩尔百分比。9.根据权利要求3-7中任意一项所述的无碱铝硅酸盐玻璃，其特征在于，以摩尔百分比计，所述无碱铝硅酸盐玻璃中各组分的含量满足G＝2.5-6，其中，G值由下...
【专利技术属性】
技术研发人员：张广涛，王俊峰，李刚，韩文梅，李志勇，闫冬成，王丽红，
申请(专利权)人：东旭科技集团有限公司，东旭集团有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11
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