带电粒子束治疗装置制造方法及图纸

一种能够缩短带电粒子束治疗所需的时间的带电粒子束治疗装置。照射部(2)具备在照射带电粒子束(B)的深度方向的规定的层即规定的位置扫描带电粒子束(B)的扫描电磁铁(6)。并且，控制部(7)如下控制照射部(2)：以第1电流值照射带电粒子束(B)而进行扫描之后，并以不同于第1电流值的第2电流值照射带电粒子束(B)而进行扫描。通过这种结构，照射部(2)对于剂量较低的区域能够设定第1电流值及第2电流值中较低的电流值来照射带电粒子束(B)。另一方面，照射部(2)对于剂量较高的区域能够设定第1电流值及第2电流值中较高的电流值来照射带电粒子束(B)。如此，对于各区域能够以与剂量相符的电流值照射带电粒子束。

【技术实现步骤摘要】
带电粒子束治疗装置
本专利技术涉及一种带电粒子束治疗装置。
技术介绍
一直以来，作为通过对患者的患处照射带电粒子束来进行治疗的带电粒子束治疗装置，例如已知有专利文献1中记载的装置。专利文献1中记载的带电粒子束治疗装置中，将被加速器加速的带电粒子束利用扫描用电磁铁扫描之后，照射到患者的患处。该带电粒子束治疗装置通过调整带电粒子束的扫描速度来调整对患处照射的带电粒子束的剂量。专利文献1：日本特开2009-243891公报在此，如上所述的带电粒子束治疗装置在带电粒子束的照射过程中不改变该带电粒子束的电流值而使其保持恒定。因此，为了避免对需要减少剂量的区域照射过多剂量的带电粒子束，配合最应将剂量调小的区域来设定带电粒子束的电流值。而且，对于其他区域，则通过延长照射带电粒子束的时间(例如，以光栅扫描方式调慢扫描速度，点扫描方式中延长点上的停留时间)来获得所需的剂量。然而，存在如下问题：进行如上治疗的情况下，由于在剂量较高的区域需要长时间照射低电流(低剂量率)的带电粒子束而导致大幅延长照射时间，并导致延长治疗所需的时间。
技术实现思路
因此，本专利技术的目的在于提供一种能够缩短带电粒子束治疗所需的时本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种带电粒子束治疗装置，其具备：加速器，将带电粒子加速并射出带电粒子束；照射部，向被照射体照射所述带电粒子束；射束传输线路，连接所述加速器与所述照射部，并将从所述加速器射出的所述带电粒子束传输至所述照射部；及控制部，控制所述照射部所进行的所述带电粒子束的照射，将所述被照射体在所述带电粒子束的照射深度方向上虚拟分割成多个层的情况下，所述照射部具备在各个层扫描所述带电粒子束的扫描部，所述控制部如下控制所述照射部：在一个层以第1电流值照射所述带电粒子束而进行扫描之后，在该一个层以不同于所述第1电流值的第2电流值照射所述带电粒子束而进行扫描。

【技术特征摘要】
1.一种带电粒子束治疗装置，其具备：加速器，将带电粒子加速并射出带电粒子束；照射部，向被照射体照射所述带电粒子束；射束传输线路，连接所述加速器与所述照射部，并将从所述加速器射出的所述带电粒子束传输至所述照射部；及控制部，控制所述照射部所进行的所述带电粒子束的照射，将所述被照射体在所述带电粒子束的照射深度方向上虚拟分割成多个层的情况下，所述照射部具备在各个层扫描所述带电粒子束的扫描部，所述控制部如下控制所述照射部：在一个层以第1电流值照射所述带电粒子束而进行扫描之后，在该一个层以不同于所述第1电流值的第2电流值照射所述带电粒子束而进行扫描。2.根据权利要求1所述的带电粒子束治疗装置，其中，所述控制部如下控制所述照射部：使以所述第2电流值扫描所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：上口长昭，
申请(专利权)人：住友重机械工业株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP