工作台系统、光刻装置和器件制造方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及工作台系统、光刻装置和用于制造使用工作台系统的器件的方法。在工作台系统(1)中，提供一种定位系统，其包括适于定位载物台(2)的致动器(10)。致动器包括磁体组件(20)和线圈组件(11)。磁体组件包括第一磁体(21)和第二磁体(22)，它们在使用中经受内磁力。磁体组件具有分离的接口(23、24)，用于将每个磁体分别连接至载物台。磁体组件还包括间隔器件(25、26)，其至少在内磁力的方向上将第一和第二磁体彼此保持相对距离。

Workbench system, photolithography device and device manufacturing method

The invention relates to a workbench system, a photolithography device and a method for manufacturing devices using the workbench system. In the workbench system (1), a positioning system is provided, which includes an actuator (10) suitable for positioning the carrier platform (2). The actuator comprises a magnet assembly (20) and a coil assembly (11). The magnet assembly includes the first magnet (21) and the second magnet (22), which undergo internal magnetic force in use. The magnet assembly has separate interfaces (23, 24) for connecting each magnet to the carrier station separately. The magnet assembly also includes spacers (25, 26), which keep the first and second magnets at a relative distance from each other at least in the direction of the internal magnetic force.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】工作台系统、光刻装置和器件制造方法相关申请的交叉参考本申请要求在2016年5月31日提交的欧洲申请第16172139.4号的优先权，其内容通过引证引入本文。
本专利技术涉及一种工作台系统、光刻装置以及由工作台系统组成的器件的制造方法。
技术介绍
光刻装置是将期望图案施加于衬底的机器，通常施加于衬底的目标部分。例如，光刻装置可用于制造集成电路(IC)。在这种情况下，图案化设备(备选地称为掩模或中间掩模)可用于生成将要形成在IC的各层上的电路图案。该图案可以转印到衬底(例如，硅晶圆)上的目标部分(例如，包括部分、一个或多个裸片)上。图案的转印通常经由成像到衬底上设置的辐射敏感材料(光刻胶)层上来进行。通常，单个衬底将包含被相继图案化的相邻目标部分的网络。传统的光刻装置包括所谓的步进机(其中，通过一次曝光目标部分上的整个图案来照射每个目标部分)以及所谓的扫描器(其中，通过在给定方向(“扫描”方向)上通过辐射束扫描图案来照射每个目标部分，同时与该方向平行或反平行地同步扫描衬底)。还可以通过将图案压印在衬底上来将图案从图案化设备转印到衬底。光刻装置通常包括用于定位衬底和/或图案化设备的工作台系统。衬底和图案化设备需要非常精确地定位。通常，要求几纳米范围内的定位精度。支撑衬底或图案化设备的工作台系统的载物台的机械变形会对定位精度产生不利影响。载物台的机械变形可能是由安装在载物台上的物体及其动态行为所引起的。例如，这些物体是适于定位载物台的致动器。
技术实现思路
期望提供一种减少载物台的机械变形的工作台系统。根据本专利技术的一个实施例，提供了一种用于定位物体的工作台系统，该工作台系统包括：-载物台，适于支撑将被定位的物体；-定位系统，适于定位载物台，定位系统包括适于在致动方向上定位载物台的致动器，其中致动器包括磁体组件和线圈组件，其中磁体组件包括第一磁体和第二磁体，第一磁体和第二磁体在使用中经受内磁力，其中线圈组件被固定至基部并且至少部分地在第一磁体和第二磁体之间延伸，从而在使用中在致动方向上生成力，其中磁体组件被设置有第一接口和第二接口，第一接口适于将第一磁体连接至载物台，第二接口适于将第二磁体连接至载物台，其中磁体组件还包括间隔器件，其适于至少在内磁力的方向上保持第一磁体和第二磁体彼此相距相对距离。在本专利技术的另一实施例中，提供了一种光刻装置，其布置为将图案从图案化设备转印到衬底上，其中光刻装置包括根据本专利技术的工作台系统。在本专利技术的另一实施例中，提供了一种光刻装置，包括：照射系统，被配置为调节辐射束；支撑件，被构造为支撑图案化设备，图案化设备能够在所述辐射束的截面中为辐射束赋予图案，以形成图案化辐射束；衬底台，被构造为保持衬底；以及投射系统，被配置为将图案化辐射束投射到衬底的目标部分上，其中光刻装置还包括适于定位衬底台的定位系统，定位系统包括适于在致动方向上定位载物台的致动器，其中致动器包括磁体组件和线圈组件，其中磁体组件包括第一磁体和第二磁体，第一磁体和第二磁体在使用中经受内磁力，其中线圈组件被固定至基部并且至少部分地在第一磁体和第二磁体之间延伸，从而在使用中在致动方向上生成力，其中磁体组件被设置有第一接口和第二接口，第一接口适于将第一磁体连接至载物台，第二接口适于将第二磁体连接至载物台，其中磁体组件还包括间隔器件，其适于至少在内磁力的方向上保持第一磁体和第二磁体彼此相距相对距离。在本专利技术的另一实施例中，提供了一种器件制造方法，包括将图案从图案化设备转印到衬底上，其中使用根据权利要求1的工作台系统。附图说明现在将参考附图仅以通过示例描述本专利技术的实施例，附图中相应的参考符号表示相应的部分，并且其中：图1示出了根据本专利技术一个实施例的光刻装置；图2示出了根据本专利技术的工作台系统的第一实施例；图3示出了系统组件的示例；图4示意性示出了磁体组件的又一实施例；图5示意性示出了磁体组件的又一实施例；图6示意性示出了磁体组件的又一实施例；图7示意性示出了磁体组件的又一实施例；图8示意性示出了磁体组件的又一实施例；图9示出了图8的实施例的实际实施方式的示例；图10示出了根据图9的阻尼器在频率响应中的应用的效果。具体实施方式图1示意性示出了根据本专利技术一个实施例的光刻装置。该装置包括：照射系统(照射器)IL，被配置为调节辐射束B(例如，UV辐射或任何其它合适的辐射)；掩模支撑结构(例如，掩模台)MT，被构造为支撑图案化设备(例如，掩模)MA，并且连接至第一定位设备PM，第一定位设备PM被配置为根据特定参数精确地定位图案化设备。该装置还包括衬底台(例如，晶元台)WT或“衬底支撑件”，其被构造为保持衬底(例如，涂覆有光刻胶的晶圆)W，并且连接至第二定位设备PW，第二定位设备PW被配置为根据特定参数精确地定位衬底。该装置还包括投射系统(例如，折射投射透镜系统)PS，其被配置为将通过图案化设备MA赋予给辐射束B的图案投射到衬底W的目标部分C(例如，包括一个或多个裸片)上。照射系统可包括用于引导、成形或控制辐射的各种类型的光学部件，诸如折射、反射、磁、电磁、静电或其他类型的光学部件或它们的任何组合。掩模支撑结构支撑(即，承载)图案化设备的重量。其以取决于图案化设备的定向、光刻装置的设计和其它条件(诸如图案化设备是否保持在真空环境中)的方式来保持图案化设备。掩模支撑结构可以使用机械、真空、静电或其他钳位技术来保持图案化设备。掩模支撑结构可以是框架或台面，例如可以根据需要是固定的或可移动的。掩模支撑结构可以确保图案化设备处于期望位置，例如相对于投射系统。本文中的术语“中间掩模”或“掩模”的任何使用可以被认为是更一般的术语“图案化设备”的同义词。本文使用的术语“图案化设备”应当被广义地解释为可用于提供在其截面中具有图案的辐射束以在衬底的目标部分中创建图案的任何设备。应当注意，赋予给辐射束的图案可以不完全对应于衬底的目标部分中的期望图案，例如如果图案包括相移特征或所谓的辅助特征。通常，赋予给辐射束的图案将对应于在目标部分(诸如集成电路)中创建的器件中的特定功能层。图案化设备可以是透射或反射的。图案化设备的示例包括掩模、可编程反射镜阵列和可编程LCD面板。掩模在光刻技术中是已知的，并且包括诸如二元、交替相移和衰减相移的掩膜类型以及各种混合掩模类型。可编程反射阵列的示例采用小反射镜的矩阵布置，每个小反射镜都可以单独倾斜，以便在不同方向上反射进入的辐射束。倾斜反射镜在被反射镜矩阵反射的辐射光束中赋予图案。本文使用的术语“投射系统”应广义地解释为包括适合于被使用的曝光辐射或者适合于其他因素(诸如浸液的使用或者真空的使用)的任何类型的投射系统，包括折射、反射、折反射、磁、电磁和静电光学系统或任何它们的组合。本文中，术语“投射透镜”的任何使用可以被认为是更一般的术语“投射系统”的同义词。如图所示，该装置是透射型的(例如，采用透射掩模)。备选地，该装置可以是反射型的(例如，采用上文提到的可编程反射镜阵列的类型，或者采用反射掩模)。光刻装置可以是具有两个(双级)或更多个衬底台或“衬底支撑件”(和/或两个或更多个掩模台或“掩模支撑件”)的类型。在这种“多级”机器中，可以并行使用附加的工作台或支撑件，或者可以在一个或多个工作台或支撑件上执行准备步骤，同时使用一个或多个其本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于定位物体的工作台系统，所述工作台系统包括：‑载物台，适于支持将被定位的物体；‑定位系统，适于定位所述载物台，所述定位系统包括适于在致动方向上定位所述载物台的致动器，其中所述致动器包括磁体组件和线圈组件，所述磁体组件包括第一磁体和第二磁体，所述第一磁体和所述第二磁体在使用中经受内磁力，其中所述线圈组件至少部分地在所述第一磁体和所述第二磁体之间延伸，从而在使用中在所述致动方向上生成力，其中所述磁体组件被设置有第一接口和第二接口，所述第一接口适于将所述第一磁体连接至所述载物台，并且所述第二接口适于将所述第二磁体连接至所述载物台，并且其中所述磁体组件还包括间隔器件，所述间隔器件适于至少在所述内磁力的方向上保持所述第一磁体和所述第二磁体彼此相距相对距离。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.05.31 EP 16172139.41.一种用于定位物体的工作台系统，所述工作台系统包括：-载物台，适于支持将被定位的物体；-定位系统，适于定位所述载物台，所述定位系统包括适于在致动方向上定位所述载物台的致动器，其中所述致动器包括磁体组件和线圈组件，所述磁体组件包括第一磁体和第二磁体，所述第一磁体和所述第二磁体在使用中经受内磁力，其中所述线圈组件至少部分地在所述第一磁体和所述第二磁体之间延伸，从而在使用中在所述致动方向上生成力，其中所述磁体组件被设置有第一接口和第二接口，所述第一接口适于将所述第一磁体连接至所述载物台，并且所述第二接口适于将所述第二磁体连接至所述载物台，并且其中所述磁体组件还包括间隔器件，所述间隔器件适于至少在所述内磁力的方向上保持所述第一磁体和所述第二磁体彼此相距相对距离。2.根据权利要求1所述的工作台系统，其中所述间隔器件适于在至少一个自由度中限定所述第一磁体的位置，并且其中所述第一接口适于在剩余自由度中限定所述第一磁体的位置。3.根据前述权利要求中任一项所述的工作台系统，其中所述间隔器件适于在至少一个自由度中限定所述第二磁体的位置，并且其中所述第二接口适于在剩余自由度中限定所述第二磁体的位置。4.根据前述权利要求中任一项所述的工作台系统，其中所述间隔器件包括第一间隔元件和第二间隔元件，所述第一间隔元件和所述第二间隔元件均连接至所述第一磁体和所述第二磁体，并且所述第一间隔元件和所述第二间隔元件在所述致动方向上彼此隔开，其中所述第一间隔元件和所述第二间隔元件一起限定所述第一磁体和所述第二磁体在所述内磁力的方向以及围绕旋转轴的旋转方向上的位置，所述旋转轴垂直于所述致动方向和所述内磁力的方向延伸，其中所述第一接口适于限定所述第一磁体在其剩余自由度中的位置，并且其中所述第二接口适于限定所述第二磁体在其剩余自由度中的位置。5.根据权利要求1至3中任一项所述的工作台系统，其中所述间隔器件包括垂直于所述致动方向布置的板簧，所述板簧具有连接至所述第一磁体的第一边缘和与所述第一边缘相对的第二边缘，所述第二边缘连接至所述第二磁体。6.根据权利要求1至3中任一项所述的工作台系统，其中所述间隔器件包括垂直于所述致动方向布置的板簧铰链，所述板簧铰链具有连接至所述第一磁体的第一边缘和与所述第一边缘相对的第二边缘，所述第二边缘连接至所述第二磁体。7.根据权利要求1至3中任一项所述的工作台系统，其中所述间隔器件包括：-第一板簧，垂直于所述致动方向布置，所述第一板簧具有连接至所述第一磁体的第一边缘和与第一边缘相对的第二边缘，其第二边缘连接至所述第二磁体，以及-第二板簧，被布置为在所述致动方向上与所述第一板簧相距一距离并且垂直于所述致动方向，所述第二板簧具有连接至所述第一磁体的第一边缘和与第一边缘相对的第二边缘，其第二边缘连接至所述第二磁体，并且其中所述第一...

【专利技术属性】
技术研发人员：H·H·M·考克斯，R·C·G·吉杰曾，P·W·P·里姆彭斯，B·F·里德斯特拉，F·范德梅尤伦，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：荷兰,NL