无纺布制造技术

技术编号:20083411 阅读:65 留言:0更新日期:2019-01-15 03:29
本发明专利技术提供无纺布及该无纺布的制造方法,该无纺布具有凹部且在该凹部的底部具有纤维密度高于其他部分的高密集部,上述无纺布被划分为上述高密集部和该高密集部以外的非高密集部,且在上述非高密集部具有液膜开裂剂。

Non-woven fabrics

The invention provides a non-woven fabric and a manufacturing method of the non-woven fabric. The non-woven fabric has a concave part and a high density part at the bottom of the concave part with a fiber density higher than other parts. The non-woven fabric is divided into the high density part and the non-high density part other than the high density part, and the non-high density part has a liquid film cracking agent at the non-high density part.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】无纺布
本专利技术涉及一种无纺布。
技术介绍
关于吸收性物品的表面片材等所使用的无纺布,从液体透过性的观点出发进行了各种研究。例如,有对无纺布赋予凹凸结构、并对形成该凹凸结构的凸部及凹部赋予亲水度梯度用以提高液体的吸入力的技术方案(例如专利文献1)。另外,与此不同地,还有对成为无纺布的凹凸结构的凸部的低密度部涂敷皮肤护理剂以使其能够更可靠地接触肌肤的吸收性物品的表面片材(例如专利文献2及3)。现有技术文献专利文献专利文献1:日本特开2006-183168号公报专利文献2:日本特开2011-131044号公报专利文献3:日本特开2012-55409号公报
技术实现思路
本专利技术提供一种无纺布,其具有凹部且在该凹部的底部具有纤维密度高于其他部分的高密集部,上述无纺布被划分为上述高密集部和该高密集部以外的非高密集部,且在上述非高密集部具有液膜开裂剂。另外,本专利技术提供一种无纺布,其具有凹部且在该凹部的底部具有纤维密度高于其他部分的高密集部,上述无纺布被划分为上述高密集部和该高密集部以外的非高密集部,且在上述非高密集部具有下述化合物C1。[化合物C1]相对于表面张力为50mN/m的液体的铺展本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种无纺布的制造方法,其具有如下工序:通过柔版印刷方式对原料无纺布涂敷包含液膜开裂剂且粘度为25cP以上的涂敷液的工序,所述原料无纺布具有凹部且在该凹部的底部具有纤维密度高于其他部分的高密集部,所述粘度更优选为80cP以上、进一步优选为150cP以上,且优选为10000cP以下、更优选为5000cP以下、进一步优选为1000cP以下。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.05.31 JP 2016-1096011.一种无纺布的制造方法,其具有如下工序:通过柔版印刷方式对原料无纺布涂敷包含液膜开裂剂且粘度为25cP以上的涂敷液的工序,所述原料无纺布具有凹部且在该凹部的底部具有纤维密度高于其他部分的高密集部,所述粘度更优选为80cP以上、进一步优选为150cP以上,且优选为10000cP以下、更优选为5000cP以下、进一步优选为1000cP以下。2.根据权利要求1所述的无纺布的制造方法,其中,所述粘度为25cP以上且1000cP以下。3.根据权利要求1或2所述的无纺布的制造方法,其中,所述液膜开裂剂的水溶解度为0g以上且0.025g以下,优选为0.0025g以下、更优选为0.0017g以下、进一步优选小于0.0001g,且为0g以上、更优选为1.0×10-9g以上。4.根据权利要求1~3中任一项所述的无纺布的制造方法,其中,所述液膜开裂剂的相对于表面张力为50mN/m的液体的铺展系数为15mN/m以上。5.根据权利要求1~4中任一项所述的无纺布的制造方法,其中,所述液膜开裂剂的相对于表面张力为50mN/m的液体的界面张力为20mN/m以下。6.根据权利要求1~3中任一项所述的无纺布的制造方法,其中,所述液膜开裂剂的相对于表面张力为50mN/m的液体的铺展系数大于0mN/m、相对于表面张力为50mN/m的液体的界面张力为20mN/m以下。7.根据权利要求1~6中任一项所述的无纺布的制造方法,其中,所述液膜开裂剂的表面张力为32mN/m以下。8.根据权利要求1~7中任一项所述的无纺布的制造方法,其中,基于所述柔版印刷方式的涂敷中使用的柔版的硬度为62°以上。9.根据权利要求1~8中任一项所述的无纺布的制造方法,其中,基于所述柔版印刷方式的涂敷中使用的柔版与基材辊的间隙为-750μm以上且750μm以下,更优选为-550μm以上、进一步优选为-400μm以上,且更优选为550μm以下、进一步优选为400μm以下。10.根据权利要求1~9中任一项所述的无纺布的制造方法,其中,基于所述柔版印刷方式的涂敷中使用的网纹传墨辊的容积为1cm3/m2以上且30cm3/m2以下,更优选为3cm3/m2以上、进一步优选为5cm3/m2以上,且更优选为25cm3/m2以下、进一步优选为20cm3/m2以下。11.一种无纺布,其通过权利要求1~10中任一项所述的制造方法来制造。12.一种无纺布,其具有凹部且在该凹部的底部具有纤维密度高于其他部分的高密集部,所述无纺布被划分为所述高密集部和该高密集部以外的非高密集部,且在所述非高密集部具有液膜开裂剂。13.根据权利要求11或12所述的无纺布,其中,所述液膜开裂剂的相对于表面张力为50mN/m的液体的铺展系数为15mN/m以上,更优选为20mN/m以上、进一步优选为25mN/m以上、特别优选为30mN/m以上,且优选为50mN/m以下。14.一种无纺布,其具有凹部且在该凹部的底部具有纤维密度高于其他部分的高密集部,所述无纺布被划分为所述高密集部和该高密集部以外的非高密集部,在所述非高密集部具有下述化合物C1,化合物C1:相对于表面张力为50mN/m的液体的铺展系数为15mN/m以上的化合物。15.根据权利要求11~14中任一项所述的无纺布,其中,所述液膜开裂剂或所述化合物C1包含具有选自下述的结构X、X-Y、及Y-X-Y中的至少1种结构的化合物,结构X表示将>C(A)-、-C(A)2-、-C(A)(B)-、>C(A)-C(R1)<、>C(R1)-、-C(R1)(R2)-、-C(R1)2-、>C<及-Si(R1)2O-、-Si(R1)(R2)O-中的任一基本结构重复或组合2种以上而得的结构的硅氧烷链、或者其混合链,其中,C表示碳原子,另外,<、>及-表示键合键,以下相同;在结构X的末端具有氢原子、或者具有选自-C(A)3、-C(A)2B、-C(A)(B)2、-C(A)2-C(R1)3、-C(R1)2A、-C(R1)3、或-OSi(R1)3、-OSi(R1)2(R2)、-Si(R1)3、-Si(R1)2(R2)中的至少1种基团;所述的R1、R2各自独立地表示氢原子、烷基、烷氧基、芳基、或卤素原子;A、B各自独立地表示包含氧原子或氮原子的取代基;在结构X内各自存在两个以上的R1、R2、A、B的情况下,它们彼此相同或不同;Y表示包含选自氢原子、碳原子、氧原子、氮原子、磷原子、硫原子中的原子且具有亲水性的亲水基;在Y为两个以上的情况下,Y彼此相同或不同。16.根据权利要求15所述的无纺布,其中,所述液膜开裂剂或所述化合物C1为包含将下述式(1)~(11)所示的结构作为所述的结构X、X-Y、Y-X-Y并任意组合而得的硅氧烷链的化合物,在式(1)~(11)中,M1、L1、R21及R22表示以下的1价或多价的基团,其中,多价是指2价或2价以上;R23及R24表示以下的1价或多价的基团、或者单键,其中,多价是指2价或2价以上;M1表示具有聚氧亚乙基、聚氧亚丙基、聚氧亚丁基、或将它们组合而得的聚氧亚烷基的基团;赤藓醇基、木糖醇基、山梨糖醇基、甘油基或者乙二醇基等具有两个以上羟基的亲水基、羟基、羧酸基、巯基、烷氧基、氨基、酰胺基、亚氨基、酚基、磺酸基、季铵基、磺基甜菜碱基、羟基磺基甜菜碱基、磷酸甜菜碱基、咪唑鎓甜菜碱基、羰基甜菜碱基、环氧基、甲醇基、(甲基)丙烯酰基、或将它们组合而得的官能团,其中,所述具有两个以上羟基的亲水基为自赤藓醇等具有两个以上羟基的所述化合物去除1个氢原子而成的亲水基,所述烷氧基优选碳数为1~20,例如优选为甲氧基;需要说明的是,在M1为多价的基团的情况下,M1表示自所述各基团或官能团进一步去除1个以上的氢原子而得的基团;L1表示醚基、氨基、酰胺基、酯基、羰基、碳酸酯基的键合基,其中,能够作为L1采用的氨基以>NRC表示,RC为氢原子或一价的基团;R21、R22、R23及R24各自独立地表示烷基、烷氧基、芳基、氟烷基或芳烷基、或者将它们组合而得的烃基、或卤素原子,其中,所述烷基优选碳数为1~20,例如优选为甲基、乙基、丙基、异丙基、丁基、戊基、己基、庚基、2-乙基己基、壬基、癸基,所述烷氧基优选碳数为1~20,例如优选为甲氧基、乙氧基,所述芳基优选碳数为6~20,例如优选为苯基,所述卤素原子例如优选为氟原子;需要说明的是,在R22及R23为多价的基团的情况下,表示自所述烃基进一步去除1个以上的氢原子或氟原子而得的多价烃基;另外,在R22或R23与M1键合的情况下,关于能够作为R22或R23采用的基团,除了所述各基团、所述烃基或卤素原子之外,可举出能够作为R32采用的亚氨基。17.根据权利要求11~16中任一项所述的无纺布,其中,所述液膜开裂剂或所述化合物C1包含硅酮系的表面活性剂的有机改性硅酮,作为该有机改性硅酮,包含选自氨基改性硅酮、环氧改性硅酮、羧基改性硅酮、二醇改性硅酮、甲醇改性硅酮、(甲基)丙烯酸类改性硅酮、巯基改性硅酮、酚改性硅酮、聚醚改性硅酮、甲基苯乙烯基改性硅酮、长链烷基改性硅酮、高级脂肪酸酯改性硅酮、高级烷氧基改性硅酮、高级脂肪酸改性硅酮及氟改性硅酮中的至少1种。18.根据权利要求11~17中任一项所述的无纺布,其中,所述液膜开裂剂或所述化合物C1包含聚氧亚烷基改性硅酮,该聚氧亚烷基改性硅酮为选自下述式[I]~[IV]所示的化合物中的至少1种,式中,R31表示烷基,该烷基优选碳数为1~20,例如优选为甲基、乙基、丙基、异丙基、丁基、戊基、己基、庚基、2-乙基己基、壬基、癸基;R32表示单键或亚烷基,该亚烷基优选碳数为1~20,例如优选为亚甲基、亚乙基、亚丙基、亚丁基,R32优选表示所述亚烷基;两个以上的R31、两个以上的R32各自彼此相同或不同;M11表示具有聚氧亚烷基的基团,优选为聚氧亚烷基;作为所述的聚氧亚烷基,可举出聚氧亚乙基、聚氧亚丙基、聚氧亚丁基、或者将它们的构成单体共聚而得的基团等;m、n各自独立地为1以上的整数;需要说明的是,这些重复单元的符号在各式(I)~(IV)中分别决定,未必表示相同的整数,也可以不同。19.根据权利要求11或12所述的无纺布,其中,所述液膜开裂剂的相对于表面张力为50mN/m的液体的铺展系数大于0mN/m、相对于表面张力为50mN/m的液体的界面张力为20mN/m以下。20.一种无纺布,其具有凹部且在该凹部的底部具有纤维密度高于其他部分的高密集部,所述无纺布被划分为所述高密集部和该高密集部以外的非高密集部,且在所述非高密集部具有下述化合物C2,化合物C2:相对于表面张力为50mN/m的液体的铺展系数大于0mN/m、相对于表面张力为50mN/m的液体的界面张力为20mN/m以下的化合物。21.根据权利要求11、12、19及20中任一项所述的无纺布,其中,所述液膜开裂剂或所述化合物C2包含具有选自下述的结构Z、Z-Y、及Y-Z-Y中的至少1种结构的化合物,结构Z表示将>C(A)-、-C(A)2-、-C(A)(B)-、>C(A)-C(R3)<、>C(R3)-、-C(R3)(R4)-、-C(R3)2-、>C<中的任一基本结构重复或组合2种以上而得的结构的烃链,其中,C为碳原子;在结构Z的末端具有氢原子、或者具有选自-C(A)3、-C(A)2B、-C(A)(B)2、-C(A)2-C(R3)3、-C(R3)2A、-C(R3)3中的至少1种基团;所述的R3、R4各自独立地表示氢原子、烷基、烷氧基、芳基、氟烷基、芳烷基、或者将它们组合而得的烃基、或氟原子;A、B各自独立地表示包含氧原子或氮原子的取代基;在结构Z内各自存在两个以上的R3、R4、A、B的情况下,它们彼此相同或不同;Y表示包含选自氢原子、碳原子、氧原子、氮原子、磷原子、硫原子中的原子且具有亲水性的亲水基;在Y为两个以上的情况下,Y彼此相同或不同。22.根据权利要求21所述的无纺布,其中,所述液膜开裂剂或所述化合物C...

【专利技术属性】
技术研发人员:蒲谷吉晃寒川裕太铃木华
申请(专利权)人:花王株式会社
类型:发明
国别省市:日本,JP

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1