一种超短焦的导光结构制造技术

技术编号:20022893 阅读:21 留言:0更新日期:2019-01-06 03:02
本发明专利技术涉及一种超短焦的导光结构,包括一层反射结构层,反射结构层向上倾斜或向下倾斜,倾斜角度≥18°且小于42°,所述反射结构层包含若干个反射结构,所述反射结构的孔径大小与反射结构层的周期所形成的占空比为≥0.5且<1,反射结构层的周期≥50um且≤300um。本发明专利技术的有益效果是:能够进行大角度导光,使光强均匀分布,更好的吸收环境及周围二次反射的杂散光,解决了环境光对投影画面造成的影响。

【技术实现步骤摘要】
一种超短焦的导光结构
本专利技术涉及光学投影领域,特别是一种超短焦的导光结构。
技术介绍
随着投影机行业的发展以及满足现在的市场需求,超短焦投影机逐渐进入人们的生活环境中。超短焦投影机可以实现超短焦的投影,极大的节省了投影空间,能够适用于小型商业场所、家庭影院等放映空间有限的场合,对于超短焦投影机而言,影响成像效果的因素很多,包括投影机自身的亮度、对比度、色彩饱和度、镜头等等,然而现实使用中,对投射效果起到决定性作用的主要还是外界环境光和杂散光的强弱。总而言之,环境光对投影画面的影响还是显而易见的。投影幕布作为画面载体,不仅要求其适合超短焦投影机的光路要求,防止投影光线在投影过程中投影光线浪费,给观众提供最优质的画面,还要尽可能的避免环境光对投影画面造成曝光、眩光、亮度降低等影响。很多消费者也十分担心投影设备在有外界光影响的情况下,导致投影画面不清晰等问题。为了解决上述问题,本专利技术提供一种超短焦导光结构,适合目前市场上的超短焦投影机的光路要求,能够进行大角度导光,使光强分布均匀,其特殊的物理结构的设计可吸收环境光及周围二次反射的杂散光。
技术实现思路
本专利技术为了克服现有技术的不足,提供一种超短焦导光结构,运用光的折射、反射及吸收等光学原理设计了适合超短焦投影机光路需求的物理结构,能够对投影周围的环境光以及事物二次反射的杂散光进行吸收,避免环境光及周围的杂散光对投影画面造成影响,还能实现大角度导光,是通过以下技术方案实现的。一种超短焦的导光结构,包括一层反射结构层,反射结构层向上倾斜或向下倾斜,倾斜角度≥18°且小于42°,所述反射结构层包含若干个反射结构,所述反射结构的孔径大小与反射结构层的周期所形成的占空比为≥0.5且<1,反射结构层的周期≥50um且≤300um。进一步的,每个反射结构的厚度与反射结构层的周期成比例关系,比值范围在≥0.2且<1.85。进一步的,反射结构层的材料为具有高反射率的金属材料或无机非金属材料,且反射率大于90%。进一步的,每个反射结构的上表面和下表面有黑色吸光涂层,其吸光率大于90%,用于吸收来自周围的环境光及周围事物二次反射的杂散光。进一步的,所述导光结构适用于正投或者背投投影。进一步的,反射结构层的倾斜角度在≥30°且小于42度时,投影光线可从两侧投射,光线导向投影面。本专利技术提供一种超短焦导光结构,适合目前市场上的超短焦投影机的光路要求,能够进行大角度导光,使光强均匀分布,更好的吸收环境及周围二次反射的杂散光,解决了环境光对投影画面造成的影响,以及最大限度的防止投影光线在投射过程中浪费。附图说明图1是本专利技术具体实施例中导光结构层的结构示意图。图2是本专利技术是一种倾斜角度下的光折射的示意图。图3是本专利技术是另一种倾斜角度下的光折射的示意图。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图,对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本专利技术保护的范围。如图1所示,一种超短焦的导光结构,包括一层反射结构层10和基底,基底是用于承载反射结构层10,反射结构层10向上倾斜或向下倾斜,倾斜角度C为≥18°,且小于42°,反射结构层10包含若干个反射结构20,反射结构中孔径大小B与反射结构的周期D所形成的占空比为≥0.5且<1,反射结构层的周期≥50um且≤300um。反射结构层的反射结构20整齐排列,并呈现一定的角度。反射结构层的材料为具有高反射率的金属材料或无机非金属材料,且反射率大于90%,金属材料为一般的金属材料,如铝;无机非金属材料,如氧化铝等,需要反射率大于90%。反射结构层10的每个反射结构20的厚度与反射结构层的周期成比例关系,比值范围在≥0.2且<1.85。每个反射结构的上表面和下表面有黑色吸光涂层,其吸光率大于90%,用于吸收来自周围的环境光及周围事物二次反射的杂散光A。本专利技术所述的导光结构适用于正投或者背投投影,为双面均可投影的结构。如图2-3所示,反射结构层的倾斜角度在≥30°且小于42度时,投影光线可从两侧投射,光线导向投影面。具体参考图2,投射光学从两侧投射,以左边为投影面,投影面的光线100,参考图中深色的光线,另一面为光线200,参考图中浅色的光线,在导光结构的倾斜角度为30°时,光线100和光线200的折射路径,朝投影面折射。具体参考图3,投射光学从两侧投射,以左边为投影面,投影面的光线100,参考图中深色的光线,另一面为光线200,参考图中浅色的光线,在导光结构的倾斜角度为42°时,光线100和光线200的折射路径,朝投影面折射。尽管已经示出和描述了本专利技术的实施例,对于本领域的普通技术人员而言,可以理解在不脱离本专利技术的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型,本专利技术的范围由所附权利要求及其等同物限定。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种超短焦的导光结构,其特征在于,包括一层反射结构层,反射结构层向上倾斜或向下倾斜,倾斜角度≥18°且小于42°,所述反射结构层包含若干个反射结构,所述反射结构的孔径大小与反射结构层的周期所形成的占空比为≥0.5且<1,反射结构层的周期≥50um且≤300um。

【技术特征摘要】
1.一种超短焦的导光结构,其特征在于,包括一层反射结构层,反射结构层向上倾斜或向下倾斜,倾斜角度≥18°且小于42°,所述反射结构层包含若干个反射结构,所述反射结构的孔径大小与反射结构层的周期所形成的占空比为≥0.5且<1,反射结构层的周期≥50um且≤300um。2.根据权利要求1所述的导光结构,其特征在于,每个反射结构的厚度与反射结构层的周期成比例关系,比值范围在≥0.2且<1.85。3.根据权利要求1所述的导光结构,其特征在于,反射结...

【专利技术属性】
技术研发人员:曽俊洋李州陈欣欣郭滨刚
申请(专利权)人:深圳市光科全息技术有限公司
类型:发明
国别省市:广东,44

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