半导体制造技术

技术编号:20020200 阅读:33 留言:0更新日期:2019-01-06 01:40
本发明专利技术涉及包含一种式‑[Ar

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】半导体本专利技术涉及包含式(I)重复单元的聚合物及其作为有机半导体的用途,其用于有机器件中,尤其是用于有机光伏器件和光电二极管中,或者用于含有二极管和/或有机场效晶体管的器件中。本专利技术聚合物可具有在有机溶剂中的优异溶解性和优异成膜性。此外,当本专利技术聚合物用于有机场效晶体管、有机光伏器件和光电二极管中时,可观察到高能量转化效率、优异的场效应迁移率、良好的开/关电流比和/或优异的稳定性。基于二酮基吡咯并吡咯(DPP)的聚合物和共聚物描述于例如US6451459、WO05/049695、WO08/000664、EP2075274A1、WO2010/049321、WO2010/049323、WO2010/108873、WO2010/115767、WO2010/136352、WO2011/144566和WO2011/144566中。基于异靛的聚合物和共聚物描述于例如WO2009/053291、PCT/IB2015/055118、US2014/0011973和PCT/EP2016/050801中。基于萘酰亚胺的聚合物和共聚物描述于例如WO2009098253中。基于苝酰亚胺的聚合物和共聚物本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种聚合物,其包含下式的重复单元:‑[Ar3]c‑[Ar2]b‑[Ar1]a‑Y(R1)n1(R2)n2‑[Ar1’]a’‑[Ar2’]b’‑[Ar3’]c’‑(I)其中:a为0、1、2或3,a’为0、1、2或3;b为0、1、2或3;b’为0、1、2或3;c为0、1、2或3;c’为0、1、2或3;n1为1或2,n2为1或2,Y为可任选取代的二价杂环基或环体系,Ar1、Ar1’、Ar2、Ar2’、Ar3及Ar3’彼此独立地为可任选取代的C6‑C24亚芳基或可任选取代的C2‑C20亚杂芳基;R1及R2在每次出现时彼此独立地为氢、C5‑C12环烷基、COR38、C1‑C50烷基、C3‑C50烯基...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.05.25 EP 16171347.41.一种聚合物,其包含下式的重复单元:-[Ar3]c-[Ar2]b-[Ar1]a-Y(R1)n1(R2)n2-[Ar1’]a’-[Ar2’]b’-[Ar3’]c’-(I)其中:a为0、1、2或3,a’为0、1、2或3;b为0、1、2或3;b’为0、1、2或3;c为0、1、2或3;c’为0、1、2或3;n1为1或2,n2为1或2,Y为可任选取代的二价杂环基或环体系,Ar1、Ar1’、Ar2、Ar2’、Ar3及Ar3’彼此独立地为可任选取代的C6-C24亚芳基或可任选取代的C2-C20亚杂芳基;R1及R2在每次出现时彼此独立地为氢、C5-C12环烷基、COR38、C1-C50烷基、C3-C50烯基或C3-C50炔基,其可任选被以下基团取代一或多次:C1-C12烷氧基、卤素、C5-C8环烷基、氰基、C6-C24芳基、C2-C20杂芳基或甲硅烷基;和/或可任选进一步被一个或多个以下基团间隔:-O-、-S-、-NR39-、-CONR39-、-NR39CO-、-COO-、-CO-或-OCO-,或者为下式的基团:i为1-18的整数,R70、R71及R72彼此独立地为氢、C1-C50烷基、C5-C12环烷基、C6-C24芳基、C2-C20杂芳基、C2-C50烯基或C2-C50炔基,其可任选被以下基团取代一或多次:C1-C12烷氧基、卤素(尤其是F)、C5-C8环烷基、氰基、C6-C24芳基、C2-C20杂芳基或甲硅烷基;和/或可任选进一步被一个或多个以下基团间隔:-O-、-S-、-NR39-、-CONR39-、-NR39CO-、-COO-、-CO-或-OCO-;条件是取代基R70、R71及R72中的至少一个不同于氢;R38为C1-C50烷基、C2-C50烯基、C2-C50炔基或C1-C50烷氧基,其可任选被以下基团取代一或多次:C1-C12烷氧基、卤素、C5-C8环烷基、氰基、C6-C24芳基、C2-C20杂芳基或甲硅烷基;和/或可任选进一步被一个或多个以下基团间隔:-O-、-S-、-NR39-、-CONR39-、-NR39CO-、-COO-、-CO-或-OCO-,且R39为氢、C1-C25烷基、C1-C18卤代烷基、C7-C25芳烷基或C1-C18酰基,条件是R1及R2中的至少一个为式(II)基团。2.根据权利要求1的聚合物,其中-Y(R1)n1(R2)n2-为下式的基团:其可任选被取代,其中R1及R2如权利要求1所定义且R1’及R2’具有R1的含义,条件是在-Y(R1)n1(R2)n2-为式基团的情况下,a和a‘不为0。3.根据权利要求1或2的聚合物,其中Ar1及Ar1’彼此独立地为下式的基团:其中:R3及R3’彼此独立地为氢、卤素、卤代C1-C25烷基,尤其为CF3、氰基、可任选被一个或多个氧或硫原子间隔的C1-C25烷基,尤其为C3-C25烷基;C7-C25芳烷基或C1-C25烷氧基;R4、R4’、R5、R5’、R6及R6’彼此独立地为氢、卤素、卤代C1-C25烷基,尤其为CF3、氰基、可任选被一个或多个氧或硫原子间隔的C1-C25烷基,尤其为C3-C25烷基;C7-C25芳烷基或C1-C25烷氧基;R7、R7’、R9及R9’彼此独立地为氢、可任选被一个或多个氧或硫原子间隔的C1-C25烷基,尤其为C3-C25烷基;或C7-C25芳烷基,R8及R8’彼此独立地为氢、C6-C18芳基;被C1-C25烷基或C1-C25烷氧基取代的C6-C18芳基;或可任选被一个或多个氧或硫原子间隔的C1-C25烷基,尤其为C3-C25烷基;或C7-C25芳烷基,R11及R11’彼此独立地为C1-C25烷基,尤其为C1-C8烷基、C7-C25芳烷基或苯基,其可被C1-C8烷基和/或C1-C8烷氧基取代1-3次;R12及R12’彼此独立地为氢、卤素、氰基、可任选被一个或多个氧或硫原子间隔的C1-C25烷基,尤其为C3-C25烷基;C1-C25烷氧基、C7-C25芳烷基或其中:R13为C1-C10烷基或三(C1-C8烷基)甲硅烷基;R103'为可任选被一个或多个氧或硫原子间隔的C1-C25烷基,尤其为C3-C25烷基,且R114及R114’彼此独立地为氢、氰基、COOR103'、C1-C25烷基或C6-C14芳基或C2-C20杂芳基。4.根据权利要求1-3中任一项的聚合物,其中Ar2、Ar2’、Ar3及Ar3’彼此独立地具有...

【专利技术属性】
技术研发人员:P·哈约兹D·克尔布莱因
申请(专利权)人:巴斯夫欧洲公司
类型:发明
国别省市:德国,DE

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